JP7324621B2 - ウェーハ洗浄装置、及びウェーハの洗浄方法 - Google Patents
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また、上洗浄ノズル51と下洗浄ノズル53とは、上下に対向して配置されている。
例えば、上洗浄ノズル51及び下洗浄ノズル53は、可撓性を有する樹脂チューブ等の水供給路54を介して、ポンプ等からなり洗浄水として例えば純水を供給する水源59に接続されている。水供給路54上には、図示しない開閉弁が配設されている。また、上洗浄ノズル51及び下洗浄ノズル53は、可撓性を有する樹脂チューブ等の空気供給路55を介して、コンプレッサー等からなり圧縮空気を供給する空気源58に連通している。空気供給路55上には、図示しない開閉弁が配設されている。水源59から供給された洗浄水と空気源58から供給された空気とは、上洗浄ノズル51内又は下洗浄ノズル53内で混合されてそれぞれの噴射口から二流体となってウェーハWの上面Waや下面Wbに噴射され、上面Wa及び下面Wbが二流体によって洗浄される。
図4に示す第2プレート72は、例えば、平面視矩形環状の外形を備えており、その一辺に長手方向に第2プレート72を貫通する排水孔721が形成されている。
例えば、第1プレート71と第2プレート72とは、同一の長さ及び同一の幅に設定されているが、これに限定されるものではない。
なお、ジグザグの流路73は、図1に示すZ軸方向における上下のジグザグではなく、例えばY軸方向における左右のジグザグとなってもよい。
まず、図1に示すように、例えばウェーハWの中心が保持テーブル30の保持面300aの中心と略合致するようにして、保持面300a上に上面Waを上側に向けた状態でウェーハWが載置される。そして、図示しない吸引源が作動して生み出された吸引力が保持面300aに伝達され、保持テーブル30がウェーハWの外周部分Wdを保持面300aからはみ出させウェーハWの中央部分を保持面300aで吸引保持する。
例えば、ウェーハ洗浄装置1の上ロールスポンジ43及び下ロールスポンジ46は、ウェーハWの外周部分Wd及び外周縁Wd1を洗浄できるように準備される。即ち、上スポンジ洗浄ノズル61(下スポンジ洗浄ノズル63)から上ロールスポンジ43(下ロールスポンジ46)に対して洗浄水が供給されて、上ロールスポンジ43及び下ロールスポンジ46が該洗浄水を吸収することで膨らみ弾力性を備えるように準備される。なお、上ロールスポンジ43及び下ロールスポンジ46は、洗浄水を吸収しても膨らまないものであってもよい。
上スポンジ洗浄ノズル61(下スポンジ洗浄ノズル63)から上ロールスポンジ43(下ロールスポンジ46)に対する洗浄水の供給は、各ロールスポンジが膨らんだ後も継続される。
例えば、図1に示すように、上ロールスポンジ43の外側面又は下ロールスポンジ46の外側面に対してウェーハWの外周部分Wdの上面Wa又は下面Wbが接触する範囲は、ウェーハWの外周縁Wd1からウェーハWの中心に向けて約5mm内側の位置までの範囲である。
即ち、吸引源79が作動することで生み出す吸引力が、排気口75、ジグザグの流路73、及び吸気口74を通り洗浄室16内に伝達される。その結果、洗浄室16内から噴霧となった二流体が気液分離ユニット7内に吸引されていく。
第1の洗浄工程の後、第1の洗浄工程でウェーハWを回転させた回転方向とは逆方向に回転手段31によってウェーハWを回転させ、ウェーハWの外周部分Wdを洗浄する第2の洗浄工程を実施する。即ち、図5に示すように、回転手段31(図1参照)が、保持面300aの中心と略合致しているウェーハWの中心を軸に、+Z方向側から見てウェーハWを例えば時計回り方向に回転させる。そして、上ロールスポンジ43によってウェーハWの外周部分Wdの上面Wa及び外周縁Wd1が全周にわたって洗浄され、第1の洗浄工程後においてウェーハWの外周部分Wdの上面Waに僅かに残っていた樹脂Jの残りカスが除去され、かつ、下ロールスポンジ46によってウェーハWの外周部分Wdの下面Wb及び外周縁Wd1が全周にわたって洗浄され、第1の洗浄工程後においてウェーハWの外周部分Wdの下面Wbに僅かに残っていた樹脂Jの残りカスが除去される。
なお、上ロールスポンジ43を1つ備え、下ロールスポンジ46を2つ備える構成でもよい。
また、気液分離ユニット7を備えると、例えば吸引源79を用いないで洗浄室16内に供給される水と空気との圧力で二流体を分離させ、排気と排水とをさせる事ができる。
1:ウェーハ洗浄装置
12:移動手段 121:ガイドレール 122:スライダ
16:洗浄室 169:底板 160a:前壁 163:進入口 160b:後壁
160c,160d:側壁 165:天板
30:保持テーブル 300:吸着部 300a:保持面 301:枠体
31:回転手段 310:回転軸 312:モータ
42:上回転軸 424:回転駆動源 43:上ロールスポンジ
45:下回転軸 454:回転駆動源 46:下ロールスポンジ
51:上洗浄ノズル 53:下洗浄ノズル
59:水源 58:空気源
61:上スポンジ洗浄ノズル
63:下スポンジ洗浄ノズル
7:気液分離ユニット 71:第1プレート 710:貫通孔 71a:第1プレートの側面 72:第2プレート 721:排水孔 70:ハウジング 704:ハウジング排水孔427:第一ギア 458:第二ギア 47:モータ 471:モータギア 48:従動ギア
Claims (7)
- ウェーハの外周部分を洗浄するウェーハ洗浄装置であって、
該ウェーハの径より小さい径の保持面で該ウェーハの外周部分を該保持面からはみ出させて該保持面で該ウェーハを保持する保持テーブルと、
該保持面の中心を軸に該保持テーブルを回転させる回転手段と、
該保持テーブルの保持面方向に平行で且つ該保持面の外周の接線方向に延在し該ウェーハの上方に配置される上回転軸を軸に回転可能な上ロールスポンジと、
該上回転軸と平行に延在し該ウェーハの下方に配置される下回転軸を軸に回転可能な下ロールスポンジと、
該ウェーハの上面に洗浄水を供給する上洗浄ノズルと、
該ウェーハの下面に洗浄水を供給する下洗浄ノズルと、を備え、
該上ロールスポンジの外側面と該下ロールスポンジの外側面とが接触しないように該上ロールスポンジと該下ロールスポンジとは該上回転軸の軸方向で離間され、該保持テーブルに保持される該ウェーハの外周部分の上面及び外周縁に該上ロールスポンジを接触させ、該ウェーハの外周部分の下面及び外周縁に該下ロールスポンジを接触させ、該ウェーハの外周部分を洗浄するウェーハ洗浄装置。 - 前記上ロールスポンジの外側面を洗浄するために該上ロールスポンジの外側面に洗浄水を噴射する上スポンジ洗浄ノズルと、
前記下ロールスポンジの外側面を洗浄するために該下ロールスポンジの外側面に洗浄水を噴射する下スポンジ洗浄ノズルと、を備えた、請求項1記載のウェーハ洗浄装置。 - 少なくとも前記上ロールスポンジと前記下ロールスポンジとを収容する洗浄室を備え、
該洗浄室は、前記保持テーブルの保持面に保持された前記ウェーハの外周部分を該洗浄室内に進入させる進入口を備え、該進入口から該洗浄室内に進入させた該ウェーハの外周部分を洗浄する請求項1、又は2記載のウェーハ洗浄装置。 - 前記上洗浄ノズルと前記下洗浄ノズルとは、前記洗浄水と空気とを混合させた二流体を噴射する洗浄ノズルであって、
該上洗浄ノズル、又は該下洗浄ノズルから噴射された二流体を水と空気とに分離させる気液分離ユニットを備える請求項3記載のウェーハ洗浄装置。 - 前記気液分離ユニットは、2種類のプレートの組み合わせによって断面がジグザグになる流路が形成されると共に、前記洗浄室に接続する吸気口と、吸引源に接続する排気口とを備える請求項4記載のウェーハ洗浄装置。
- 請求項1、2、3、4又は5記載のウェーハ洗浄装置を用いて前記ウェーハの外周部分を洗浄するウェーハの洗浄方法であって、
該ウェーハを前記保持テーブルの保持面で保持する保持工程と、
該保持面が保持した該ウェーハの外周上面及び外周縁を前記上ロールスポンジに接触させ、該ウェーハの外周下面及び外周縁を前記下ロールスポンジに接触させ、前記回転手段によって該ウェーハの中心を軸に該ウェーハを回転させ、該上ロールスポンジの該ウェーハに接している部分が該ウェーハの外に向かうように該上ロールスポンジを回転させ、該下ロールスポンジの該ウェーハに接している部分が該ウェーハの外に向かうように該下ロールスポンジを回転させ、該ウェーハの外周上面と外周下面と外周縁とを洗浄する第1の洗浄工程と、を備え、
前記上洗浄ノズルは、該第1の洗浄工程において該上ロールスポンジより該ウェーハの回転方向の上流に配設され、前記下洗浄ノズルは、該第1の洗浄工程において該下ロールスポンジより該ウェーハの回転方向の上流に配設される、ウェーハの洗浄方法。 - 前記第1の洗浄工程の後、該第1の洗浄工程で前記ウェーハを回転させた回転方向とは逆方向に前記回転手段によって該ウェーハを回転させ、該ウェーハの外周上面と外周下面と外周縁とを洗浄する第2の洗浄工程を備える、請求項6記載のウェーハの洗浄方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019109420A JP7324621B2 (ja) | 2019-06-12 | 2019-06-12 | ウェーハ洗浄装置、及びウェーハの洗浄方法 |
JP2023122645A JP2023153173A (ja) | 2019-06-12 | 2023-07-27 | 気液分離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019109420A JP7324621B2 (ja) | 2019-06-12 | 2019-06-12 | ウェーハ洗浄装置、及びウェーハの洗浄方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2023122645A Division JP2023153173A (ja) | 2019-06-12 | 2023-07-27 | 気液分離装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020202322A JP2020202322A (ja) | 2020-12-17 |
JP7324621B2 true JP7324621B2 (ja) | 2023-08-10 |
Family
ID=73742859
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2019109420A Active JP7324621B2 (ja) | 2019-06-12 | 2019-06-12 | ウェーハ洗浄装置、及びウェーハの洗浄方法 |
JP2023122645A Pending JP2023153173A (ja) | 2019-06-12 | 2023-07-27 | 気液分離装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023122645A Pending JP2023153173A (ja) | 2019-06-12 | 2023-07-27 | 気液分離装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7324621B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006278592A (ja) | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 |
JP2010212295A (ja) | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Elpida Memory Inc | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
JP2018113393A (ja) | 2017-01-13 | 2018-07-19 | 株式会社ディスコ | ウエーハ洗浄装置 |
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2019
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