JP7314610B2 - 電子写真画像形成装置 - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真画像形成装置に関し、特に、耐久条件下でのフィルミングや像流れの発生を抑制しつつ、滑剤メモリを軽減させることができる電子写真画像形成装置に関する。
近年、環境対応、コストの観点から、長寿命な感光体が要望されている。感光体の寿命を延ばすためには、感光体の削れ量を小さくしなければならないが、削れ量が小さすぎると、画像流れという問題が生じる。
そのため、感光体の長寿命化と画像流れを両立するために、感光体の保護層に熱可塑性樹脂と無機微粒子を添加する技術が一般に知られている。
一般に、電子写真プロセスでは、画像形成後に、感光体上に残存したトナーをクリーニングブレードでクリーニングするが、感光体とトナーの離型性が悪いと、クリーニング不良を起こし、感光体上にトナー付着を起こすフィルミングという現象を起こし、出力画像にノイズを生じさせる問題が起こる。
この問題を解決するために、従来技術では、感光体にステアリン酸亜鉛を供給して感光体とトナーの離型性を上げることで、フィルミングを軽減する技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、さらに特性を改善するために感光体表面に、シリコーン構造をもつ表面修飾剤で表面修飾した無機微粒子を分散させることで、初期から耐久条件下で感光体とトナーの離型性を上げ、フィルミングを軽減させる技術を我々は開発してきた。
しかしながら、新たに、感光体上に堆積したステアリン酸亜鉛量の差によって生じる滑剤メモリという問題が発生した。これは、横軸方向に印刷濃度が異なる印刷原稿を複数枚印刷したとき、感光体上に堆積したステアリン酸亜鉛量の差により感光体表面電位の差が生じ、全面ハーフ画像を画出ししたときに、画像に濃淡が生じる現象である。
そのため、感光体の長寿命化と画像流れを両立するために、感光体の保護層に熱可塑性樹脂と無機微粒子を添加する技術が一般に知られている。
一般に、電子写真プロセスでは、画像形成後に、感光体上に残存したトナーをクリーニングブレードでクリーニングするが、感光体とトナーの離型性が悪いと、クリーニング不良を起こし、感光体上にトナー付着を起こすフィルミングという現象を起こし、出力画像にノイズを生じさせる問題が起こる。
この問題を解決するために、従来技術では、感光体にステアリン酸亜鉛を供給して感光体とトナーの離型性を上げることで、フィルミングを軽減する技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、さらに特性を改善するために感光体表面に、シリコーン構造をもつ表面修飾剤で表面修飾した無機微粒子を分散させることで、初期から耐久条件下で感光体とトナーの離型性を上げ、フィルミングを軽減させる技術を我々は開発してきた。
しかしながら、新たに、感光体上に堆積したステアリン酸亜鉛量の差によって生じる滑剤メモリという問題が発生した。これは、横軸方向に印刷濃度が異なる印刷原稿を複数枚印刷したとき、感光体上に堆積したステアリン酸亜鉛量の差により感光体表面電位の差が生じ、全面ハーフ画像を画出ししたときに、画像に濃淡が生じる現象である。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、耐久条件下でのフィルミングや像流れの発生を抑制しつつ、滑剤メモリを軽減させることができる電子写真画像形成装置を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤を供給する手段を備え、かつ、感光体の保護層として、電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有する構成とすることで、耐久条件下でのフィルミングや像流れの発生を抑制しつつ、滑剤メモリを軽減させることができる電子写真画像形成装置を提供することができることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．少なくとも電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を具備した電子写真画像形成装置であって、
前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段を備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、
当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有し、
前記滑剤が、シリコーンで表面修飾されたアルミナ粒子を含有し、
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、又は、硫酸バリウムをコアとし酸化スズのシェルを有する粒子のいずれかであり、
前記保護層に含有された前記無機微粒子に使用された表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することを特徴とする電子写真画像形成装置。
前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段を備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、
当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有し、
前記滑剤が、シリコーンで表面修飾されたアルミナ粒子を含有し、
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、又は、硫酸バリウムをコアとし酸化スズのシェルを有する粒子のいずれかであり、
前記保護層に含有された前記無機微粒子に使用された表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することを特徴とする電子写真画像形成装置。
２．前記保護層に含有された前記無機微粒子の数平均一次粒径が、５０～５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の電子写真画像形成装置。
３．前記滑剤に含有された疎水性有機化合物が、ステアリン酸亜鉛であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の電子写真画像形成装置。
本発明の上記手段により、耐久条件下でのフィルミングや像流れの発生を抑制しつつ、滑剤メモリを軽減させることができる電子写真画像形成装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有する保護層に、ステアリン酸亜鉛からなる滑剤棒を感光体に接触させてステアリン酸亜鉛を供給する画像形成プロセスの場合、例えば図１の上段に示すように、画像濃度の異なる原稿を複数枚印刷すると、原稿濃度が濃い部分Ｃ１は、ステアリン酸亜鉛の付着量が少なくなり、原稿濃度が薄い部分Ｃ２はステアリン酸亜鉛の付着量が多くなる。そのため、図２に示すように、現像スリーブの現像剤と感光体表面が擦過するときに、原稿濃度が濃い部分Ｃ１は、ステアリン酸亜鉛量が少なく、保護層３０１に含有された表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子３０２の影響が大きいため、相対的にマイナス（－）側に帯電し、原稿濃度が薄い部分はステアリン酸亜鉛３０３の影響が大きくなるため、相対的にプラス（＋）側に帯電しやすくなる。この擦過帯電の極性の差により、感光体に電位差が生じ、ハーフ画像を印刷したとき、図１の下段のように滑剤メモリが発生する。
一方、図３に示す本発明のように、ステアリン酸亜鉛３０３に加えて窒化ホウ素３０４を供給すると、画像濃度の異なる原稿を複数枚印刷したとき、原稿濃度が薄い部分に窒化ホウ素３０４が付着するため、現像剤との擦過帯電がマイナス（－）側に帯電しやすくなり、ハーフ画像を印刷したとき、滑剤メモリが発生しにくくなる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有する保護層に、ステアリン酸亜鉛からなる滑剤棒を感光体に接触させてステアリン酸亜鉛を供給する画像形成プロセスの場合、例えば図１の上段に示すように、画像濃度の異なる原稿を複数枚印刷すると、原稿濃度が濃い部分Ｃ１は、ステアリン酸亜鉛の付着量が少なくなり、原稿濃度が薄い部分Ｃ２はステアリン酸亜鉛の付着量が多くなる。そのため、図２に示すように、現像スリーブの現像剤と感光体表面が擦過するときに、原稿濃度が濃い部分Ｃ１は、ステアリン酸亜鉛量が少なく、保護層３０１に含有された表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子３０２の影響が大きいため、相対的にマイナス（－）側に帯電し、原稿濃度が薄い部分はステアリン酸亜鉛３０３の影響が大きくなるため、相対的にプラス（＋）側に帯電しやすくなる。この擦過帯電の極性の差により、感光体に電位差が生じ、ハーフ画像を印刷したとき、図１の下段のように滑剤メモリが発生する。
一方、図３に示す本発明のように、ステアリン酸亜鉛３０３に加えて窒化ホウ素３０４を供給すると、画像濃度の異なる原稿を複数枚印刷したとき、原稿濃度が薄い部分に窒化ホウ素３０４が付着するため、現像剤との擦過帯電がマイナス（－）側に帯電しやすくなり、ハーフ画像を印刷したとき、滑剤メモリが発生しにくくなる。
なお、本発明において、滑剤メモリとは、横軸方向に印刷濃度が異なる印刷原稿を複数枚印刷したとき、感光体上に堆積したステアリン酸亜鉛量の差により感光体表面電位の差が生じ、全面ハーフ画像を画出ししたときに、画像に濃淡が生じる現象をいう。
本発明の電子写真画像形成装置は、少なくとも電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を具備した電子写真画像形成装置であって、前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段を備え、前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有し、前記滑剤が、シリコーンで表面修飾されたアルミナ粒子を含有し、前記保護層に含有された前記無機微粒子が、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、又は、硫酸バリウムをコアとし酸化スズのシェルを有する粒子のいずれかであり、前記保護層に含有された前記無機微粒子に使用された表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態に共通又は対応する技術的特徴である。
この特徴は、下記各実施形態に共通又は対応する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、前記保護層に含有された前記無機微粒子に使用された表面修飾剤が、シリコーン構造を有することが、感光体とトナーの離型性が上がり、フィルミングを軽減させることができる点で好ましい。
前記表面修飾剤が、主鎖にシリコーン鎖を有すること、又は、前記表面修飾剤が、側鎖にシリコーン鎖を有することが、添加する無機微粒子との立体的な組み合わせが表面エネルギー低下の発現に影響する点で好ましい。
さらに、前記表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することが好ましい。これにより、主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有する表面修飾剤により表面修飾された無機微粒子が、シリコーン鎖をより多く有することから、保護層中での分散性がより高まり、保護層の耐摩耗性がより向上する。
さらに、前記表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することが好ましい。これにより、主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有する表面修飾剤により表面修飾された無機微粒子が、シリコーン鎖をより多く有することから、保護層中での分散性がより高まり、保護層の耐摩耗性がより向上する。
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、又は二酸化ケイ素粒子のいずれかであることが、保護層の強度が向上する点で好ましい。
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、少なくとも硫酸バリウムを芯材とし、酸化スズ、アルミナ及び酸化チタンのうちのいずれかでコートされていることが、無機微粒子の粒子径を大きくすることが可能となる点で好ましい。
前記保護層に含有された前記無機微粒子の数平均一次粒径が、５０～５００ｎｍの範囲内であることが、保護層用塗布液試作時の分散性の点で好ましい。
前記滑剤に含有された疎水性有機化合物が、ステアリン酸亜鉛であることが、潤滑性と加工体への塗布性の点で好ましい。
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、少なくとも硫酸バリウムを芯材とし、酸化スズ、アルミナ及び酸化チタンのうちのいずれかでコートされていることが、無機微粒子の粒子径を大きくすることが可能となる点で好ましい。
前記保護層に含有された前記無機微粒子の数平均一次粒径が、５０～５００ｎｍの範囲内であることが、保護層用塗布液試作時の分散性の点で好ましい。
前記滑剤に含有された疎水性有機化合物が、ステアリン酸亜鉛であることが、潤滑性と加工体への塗布性の点で好ましい。
以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
［本発明の電子写真画像形成装置の概要］
本発明の電子写真画像形成装置（以下、画像形成装置ともいう。）は、少なくとも電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を具備した電子写真画像形成装置であって、前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段（以下、滑剤供給手段ともいう。）を備え、前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有することを特徴とする。
本発明の電子写真画像形成装置（以下、画像形成装置ともいう。）は、少なくとも電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を具備した電子写真画像形成装置であって、前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段（以下、滑剤供給手段ともいう。）を備え、前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有することを特徴とする。
本発明の画像形成装置は、一般的な電子写真方式による画像形成装置であることが好ましく、少なくとも帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段、クリーニング手段及び滑剤供給手段を有することが好ましい。さらに、滑剤除去手段を有することが好ましい。
図４は、本発明の画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
この画像形成装置１００は、タンデム型カラー画像形成装置と称せられるもので、４組の画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋと、給紙搬送手段１５０と、定着手段１７０とを有する。画像形成装置１００の本体の上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
この画像形成装置１００は、タンデム型カラー画像形成装置と称せられるもので、４組の画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋと、給紙搬送手段１５０と、定着手段１７０とを有する。画像形成装置１００の本体の上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、鉛直方向に並んで配置されている。画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、回転されるドラム状の感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋと、この外周面領域において感光体の回転方向に沿って順次配置された、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋと、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋと、露光手段１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋと、現像手段１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋと、一次転写ローラー（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋと、クリーニング手段１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋと、滑剤除去手段１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋとを有する。そして、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上に、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｂｋ）のトナー画像がそれぞれ形成される構成とされている。画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋは、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋに形成するトナー画像の色が異なる以外は同様に構成されるため、以下、画像形成ユニット１１０Ｙの例で説明する。
また、以下に、感光体、滑剤供給手段、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段、クリーニング手段及び滑剤除去手段の順に説明する。
また、以下に、感光体、滑剤供給手段、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段、クリーニング手段及び滑剤除去手段の順に説明する。
＜電子写真感光体＞
本発明に係る電子写真感光体（以下、感光体ともいう。）は、導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有する。
具体的には、導電性支持体上に、電荷発生物質を含有する電荷発生層及び電荷輸送物質を含有する電荷輸送層がこの順に積層されてなる感光層が形成され、この感光層（電荷輸送層）上に最外層として保護層が形成された層構成を有している。また、導電性支持体と感光層との間に中間層を設けることが好ましい。なお、感光層は、電荷発生物質及び電荷輸送物質を含有する単層構造の層構成を有するものであってもよい。以下、このような構成を有する感光体について詳細に説明する。
本発明に係る電子写真感光体（以下、感光体ともいう。）は、導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有する。
具体的には、導電性支持体上に、電荷発生物質を含有する電荷発生層及び電荷輸送物質を含有する電荷輸送層がこの順に積層されてなる感光層が形成され、この感光層（電荷輸送層）上に最外層として保護層が形成された層構成を有している。また、導電性支持体と感光層との間に中間層を設けることが好ましい。なお、感光層は、電荷発生物質及び電荷輸送物質を含有する単層構造の層構成を有するものであってもよい。以下、このような構成を有する感光体について詳細に説明する。
（導電性支持体）
導電性支持体は、感光層を支持し、かつ導電性を有する部材である。
導電性支持体の好ましい例としては、金属製のドラム又はシート、ラミネートされた金属箔を有するプラスチックフィルム、蒸着された導電性物質の膜を有するプラスチックフィルム、導電性物質、又は導電性物質とバインダー樹脂とからなる塗料を塗布してなる導電層を有する金属部材やプラスチックフィルム、紙等が挙げられる。
上記金属の好ましい例としては、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス鋼等が挙げられ、上記導電性物質の好ましい例としては、上記金属、酸化インジウム及び酸化スズ等が挙げられる。
導電性支持体は、感光層を支持し、かつ導電性を有する部材である。
導電性支持体の好ましい例としては、金属製のドラム又はシート、ラミネートされた金属箔を有するプラスチックフィルム、蒸着された導電性物質の膜を有するプラスチックフィルム、導電性物質、又は導電性物質とバインダー樹脂とからなる塗料を塗布してなる導電層を有する金属部材やプラスチックフィルム、紙等が挙げられる。
上記金属の好ましい例としては、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛及びステンレス鋼等が挙げられ、上記導電性物質の好ましい例としては、上記金属、酸化インジウム及び酸化スズ等が挙げられる。
（感光層）
感光層は、後述する露光手段により、所期の画像の静電潜像を感光体の表面に形成するための層である。当該感光層は、単層でもよいし、積層された複数の層で構成されていてもよい。感光層の好ましい例としては、電荷輸送物質と、電荷発生物質とを含有する単層、及び電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、電荷発生物質を含有する電荷発生層との積層物等が挙げられる。
感光層は、後述する露光手段により、所期の画像の静電潜像を感光体の表面に形成するための層である。当該感光層は、単層でもよいし、積層された複数の層で構成されていてもよい。感光層の好ましい例としては、電荷輸送物質と、電荷発生物質とを含有する単層、及び電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、電荷発生物質を含有する電荷発生層との積層物等が挙げられる。
（保護層）
保護層は、感光体表面の機械的強度を向上させ、耐傷性や耐摩耗性を向上させるための層である。本発明の画像形成装置においては、保護層が最外層である。
本発明において、感光体の最外層とは、トナーと接触する側の最外部に配置される層を表し、保護層が最外層である。
本発明に係る保護層は、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有する。
保護層は、感光体表面の機械的強度を向上させ、耐傷性や耐摩耗性を向上させるための層である。本発明の画像形成装置においては、保護層が最外層である。
本発明において、感光体の最外層とは、トナーと接触する側の最外部に配置される層を表し、保護層が最外層である。
本発明に係る保護層は、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有する。
《電荷輸送物質》
電荷輸送物質としては、特に制限されず、公知のものを用いることができる。その例としては、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体等が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン誘導体が好ましい。トリアリールアミン誘導体としては、下記化学式（１）で表されるものが好ましい。
電荷輸送物質としては、特に制限されず、公知のものを用いることができる。その例としては、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体等が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン誘導体が好ましい。トリアリールアミン誘導体としては、下記化学式（１）で表されるものが好ましい。
上記化学式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数１～７のアルキル基、又は炭素数１～７のアルコキシ基を表す。ｋ，ｌ及びｎは、それぞれ独立して、０～５の整数を示し、ｍは０～４の整数を示す。ただし、ｋ、ｌ、ｎ又はｍが２以上である場合においては、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに同一のものであっても、異なるものであってもよい。これらの中でも、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数１～３のアルキル基であることが好ましい。また、ｋ、ｌ、ｎ及びｍは、それぞれ独立して、０～１の整数であることが好ましい。
上記化学式（１）で表される化合物としては、例えば、特開２０１５－１１４４５４号公報に記載のものを使用でき、また、公知の合成方法、例えば、特開２００６－１４３７２０号公報で開示されている方法などで合成することができる。
（無機微粒子）
本発明に係る保護層に含有される無機微粒子は、保護層の強度向上及び電気特性向上の目的のため保護層に含有され、表面修飾剤（表面処理剤）によって表面修飾（表面処理）されている。
表面修飾剤で表面修飾された無機微粒子は、表面修飾剤由来の化学種（被覆層）及び無機微粒子を含む被覆粒子となると考えられる。なお、表面修飾された無機微粒子は、その表面上の少なくとも一部に表面修飾剤由来の化学種（被覆層）を有していればよい。
本発明に係る保護層に含有される無機微粒子は、保護層の強度向上及び電気特性向上の目的のため保護層に含有され、表面修飾剤（表面処理剤）によって表面修飾（表面処理）されている。
表面修飾剤で表面修飾された無機微粒子は、表面修飾剤由来の化学種（被覆層）及び無機微粒子を含む被覆粒子となると考えられる。なお、表面修飾された無機微粒子は、その表面上の少なくとも一部に表面修飾剤由来の化学種（被覆層）を有していればよい。
本願において、無機微粒子とは金属元素を含有する微粒子をいうが、少なくともその表面が金属酸化物から構成される金属酸化物粒子であることが好ましい。無機微粒子を構成する金属酸化物の例としては、特に制限されないが、アルミナ、シリカ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化スズ、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム、銅アルミ酸化物、アンチモンイオンをドープした酸化スズ等が挙げられる。これら無機微粒子は、単独でも又は２種以上を組み合わせても用いることができる。また、金属酸化物粒子は合成品であってもよいし、市販品であってもよい。
これらの無機微粒子の中でも、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、又は二酸化ケイ素粒子のいずれかであることが、保護層の強度が向上する点で好ましい。
また、上記した無機微粒子は、金属酸化物からなる芯（コア）と、表面修飾剤からなる外殻（シェル）と、を有する、コア・シェル構造を有する粒子（複合粒子）であることが好ましい。コア・シェル構造を有する複合粒子とすることで、無機微粒子の粒子径を大きくすることが可能となる。コア・シェル構造にするのは、無機微粒子径を大きくする場合で、無機微粒子径を小径とする場合は、コア・シェル構造にする必要はない。
当該複合粒子の芯材（コア）を構成する材料は、特に制限されないが、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、アルミナ、酸化ケイ素等が挙げられる。これらの中でも、保護層の光透過性を確保する観点から、硫酸バリウムを芯材とした粒子が好ましい。また、当該複合粒子の外殻（シェル）を構成する材料は、上記無機微粒子を構成する金属酸化物の例として挙げたものと同様である。
コア・シェル構造の複合粒子の好ましい例としては、硫酸バリウムからなる芯材と、酸化スズ、アルミナ、酸化チタ００３３ンのうちのいずれかからなる外殻と、を有する複合粒子が挙げられる。なお、芯材の数平均一次粒径と、外殻の厚さとの比率は、使用する芯材及び外殻の種類、ならびにこれらの組み合わせに応じて、適宜設定すればよい。
コア・シェル構造の複合粒子の好ましい例としては、硫酸バリウムからなる芯材と、酸化スズ、アルミナ、酸化チタ００３３ンのうちのいずれかからなる外殻と、を有する複合粒子が挙げられる。なお、芯材の数平均一次粒径と、外殻の厚さとの比率は、使用する芯材及び外殻の種類、ならびにこれらの組み合わせに応じて、適宜設定すればよい。
表面修飾剤による表面修飾前（未修飾）の無機微粒子の数平均一次粒径は、５０～５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、６５～４００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、８０～３００ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。無機微粒子の数平均一次粒径が５０ｎｍ以上であると、無機微粒子による凹凸が適度に付与されるため、クリーニングの際にクリーニングブレードの姿勢が安定し、クリーニング性が向上する。また、無機微粒子の数平均一次粒径が５００ｎｍ以下であると、凸部が大きすぎてクリーニングブレードに引っかかることがないため、ブレードのスティックスリップの発生に伴うクリーニング性の低下を防止することができる。
なお、本明細書において、無機微粒子の数平均一次粒径は、以下の方法で測定される数平均一次粒径と定義する。
まず、走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製）により撮影された１００００倍の拡大写真をスキャナーに取り込む。次いで、得られた写真画像から、凝集粒子を除く３００個の粒子像を、ランダムに自動画像処理解析システム ルーゼックス（登録商標）ＡＰ ソフトウエアＶｅｒ．１．３２（株式会社ニレコ製）を使用して２値化処理して、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径を算出する。そして、当該粒子像のそれぞれの水平方向フェレ径の平均値を算出して数平均一次粒径とする。ここで、水平方向フェレ径とは、上記粒子像を２値化処理したときの外接長方形の、ｘ軸に平行な辺の長さをいう。また、無機微粒子の数平均一次粒径の測定は、表面修飾剤由来の化学種（被覆層）を含まない無機微粒子について行うものとする。
（表面修飾剤）
本発明に係る無機微粒子は表面修飾剤によって表面修飾されている。
表面修飾剤は特に制限されないが、シリコーン構造（シリコーン鎖）を有するシリコーン表面修飾剤、重合性官能基を有する表面修飾剤などが挙げられ、シリコーン鎖を有する表面修飾剤（以下、シリコーン表面修飾剤ともいう。）が好ましい。
本発明に係る無機微粒子は表面修飾剤によって表面修飾されている。
表面修飾剤は特に制限されないが、シリコーン構造（シリコーン鎖）を有するシリコーン表面修飾剤、重合性官能基を有する表面修飾剤などが挙げられ、シリコーン鎖を有する表面修飾剤（以下、シリコーン表面修飾剤ともいう。）が好ましい。
シリコーン表面修飾剤としては、特に制限されないが、高分子主鎖の主鎖にシリコーン鎖を有してもよいし、側鎖にシリコーン鎖を有してもよいし、主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有してもよい。
主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有することによって、主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有する表面修飾剤により表面修飾された無機微粒子が、シリコーン鎖をより多く有することから、保護層中での分散性がより高まり、保護層の耐摩耗性がより向上する。
主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有することによって、主鎖及び側鎖の両方にシリコーン鎖を有する表面修飾剤により表面修飾された無機微粒子が、シリコーン鎖をより多く有することから、保護層中での分散性がより高まり、保護層の耐摩耗性がより向上する。
また、前記シリコーン鎖に加えて、さらに反応性官能基を有するものが好ましい。
反応性官能基としては、カルボン酸基、ヒドロキシ基、－Ｒｄ－ＣＯＯＨ（Ｒｄは、２価の炭化水素基）、アルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、及びアルコキシシリル基等の金属酸化物粒子と結合しうる基が挙げられる。これらの中でもカルボン酸基、ヒドロキシ基又はアルコキシシリル基が好ましい。
反応性官能基としては、カルボン酸基、ヒドロキシ基、－Ｒｄ－ＣＯＯＨ（Ｒｄは、２価の炭化水素基）、アルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、及びアルコキシシリル基等の金属酸化物粒子と結合しうる基が挙げられる。これらの中でもカルボン酸基、ヒドロキシ基又はアルコキシシリル基が好ましい。
上記シリコーン表面修飾剤が有する高分子主鎖は、ポリ（メタ）アクリレート主鎖又はシリコーン主鎖であることが好ましく、シリコーン主鎖であることがより好ましい。
側鎖及び主鎖のシリコーン鎖は、ジメチルシロキサン構造を繰り返し単位として有することが好ましく、その繰り返し単位数は３～１００個であるものが好ましく、３～５０個であるものがより好ましく、３～３０個であるものがさらに好ましい。
シリコーン表面修飾剤の重量平均分子量は、特に制限されないが、１０００～５００００の範囲内であることが好ましい。なお、シリコーン表面修飾剤の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができる。
シリコーン表面修飾剤は、単独でも又は２種以上組み合わせても用いることができる。また、シリコーン表面修飾剤は、合成品であってもよいし、市販品であってもよい。
ポリ（メタ）アクリレート主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤の市販品の具体例としては、サイマック（登録商標）ＵＳ－３５０（以上、東亞合成株式会社製）、ＫＰ－５４１、ＫＰ－５７４、及びＫＰ－５７８（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
また、シリコーン主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤（主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤）の市販品の具体例としては、ＫＦ－９９０８及びＫＦ－９９０９（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
また、主鎖のみにシリコーン鎖を有する表面修飾剤の市販品の具体例としては、ＫＦ－９９０１（信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
ポリ（メタ）アクリレート主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤の市販品の具体例としては、サイマック（登録商標）ＵＳ－３５０（以上、東亞合成株式会社製）、ＫＰ－５４１、ＫＰ－５７４、及びＫＰ－５７８（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
また、シリコーン主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤（主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤）の市販品の具体例としては、ＫＦ－９９０８及びＫＦ－９９０９（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
また、主鎖のみにシリコーン鎖を有する表面修飾剤の市販品の具体例としては、ＫＦ－９９０１（信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
・表面修飾剤（シリコーン表面修飾剤）による表面修飾方法
表面修飾剤による表面修飾方法は、特に制限されず、無機微粒子の表面上に表面修飾剤を付着（又は結合）することができる方法であればよい。このような方法としては、一般的に、湿式処理方法と乾式処理方法との二通りに大別されるが、いずれを用いてもよい。
表面修飾剤による表面修飾方法は、特に制限されず、無機微粒子の表面上に表面修飾剤を付着（又は結合）することができる方法であればよい。このような方法としては、一般的に、湿式処理方法と乾式処理方法との二通りに大別されるが、いずれを用いてもよい。
なお、後述する反応性表面修飾後の無機微粒子を表面修飾する場合は、無機微粒子の表面上又は反応性表面修飾剤上に、表面修飾剤が付着（又は結合）する。
湿式処理方法とは、無機微粒子と、表面修飾剤とを溶剤中で分散することによって、表面修飾剤を無機微粒子の表面上に付着（又は結合）させる方法である。
当該方法としては、無機微粒子と、表面修飾剤とを溶剤中で分散させ、得られた分散液を乾燥し溶剤を除去する方法が好ましく、その後さらに加熱処理を行い、表面修飾剤と無機微粒子とを反応させることによって、表面修飾剤を無機微粒子の表面上に付着（又は結合）させる方法がより好ましい。また、表面修飾剤と無機微粒子とを溶剤中で分散した後、得られた分散液を湿式粉砕することにより、無機微粒子を微細化すると同時に表面修飾を進行させてもよい。
当該方法としては、無機微粒子と、表面修飾剤とを溶剤中で分散させ、得られた分散液を乾燥し溶剤を除去する方法が好ましく、その後さらに加熱処理を行い、表面修飾剤と無機微粒子とを反応させることによって、表面修飾剤を無機微粒子の表面上に付着（又は結合）させる方法がより好ましい。また、表面修飾剤と無機微粒子とを溶剤中で分散した後、得られた分散液を湿式粉砕することにより、無機微粒子を微細化すると同時に表面修飾を進行させてもよい。
無機微粒子及び表面修飾剤を溶剤中で分散させる手段としては、特に制限されず公知の手段を用いることができ、その例としては、ホモジナイザー、ボールミル、サンドミル等の一般的な分散手段を挙げることができる。
溶剤としては、特に制限されず公知の溶剤を用いることができ、その好ましい例としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール（２－ブタノール）、ｔｅｒｔ－ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶剤や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独でも又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、メタノール、２－ブタノール、トルエン、及び２－ブタノールとトルエンとの混合溶剤がより好ましい。
分散時間は、特に制限されないが、例えば、１～６００分の範囲内であることが好ましく、１０～３６０分の範囲内であることがより好ましく、３０～１２０分の範囲内であることがより好ましい。
溶剤の除去方法としては、特に制限されず公知の方法を用いることができ、その例としては、エバポレーターを用いる方法、室温下で溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。
加熱温度としては、特に制限されないが、５０～２５０℃の範囲内であることが好ましく、７０～２００℃の範囲内であることがより好ましく、９０～１５０℃の範囲内であることがさらに好ましい。また、加熱時間としては、特に制限されないが、１～６００分の範囲内であることが好ましく、１０～３００分の範囲内であることがより好ましく、３０～９０分の範囲内であることがさらに好ましい。なお、加熱方法は、特に制限されず、公知の方法を用いることができる。
乾式処理方法とは、溶剤を用いず、表面修飾剤と無機微粒子とを混合し混練を行うことによって、表面修飾剤を導電性金属酸化物の表面上に付着（又は結合）させる方法である。当該方法としては、表面修飾剤と、無機微粒子とを混合し混練した後、さらに加熱処理を行い、表面修飾剤と無機微粒子とを反応させることによって、表面修飾剤を無機微粒子の表面上に付着（又は結合）させる方法であってもよい。また、無機微粒子と、表面修飾剤とを混合し混練する際に、これらを乾式粉砕することにより、無機微粒子を微細化すると同時に表面修飾を進行させてもよい。
表面修飾剤の使用量は、処理前の無機微粒子（後述する反応性表面修飾後の無機微粒子を表面修飾する場合は、反応性表面修飾後の無機微粒子）１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、２質量部以上であることがさらに好ましい。この範囲であれば、保護層の耐摩耗性及びかぶり抑制効果がより向上する。
また、表面修飾剤の使用量は、表面修飾前の無機微粒子（後述する反応性表面修飾後の無機微粒子を表面修飾する場合は、反応性表面修飾後の無機微粒子）１００質量部に対して、１００質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下であることがより好ましく、５質量部以下であることがさらに好ましい。この範囲であると、未反応の表面修飾剤による保護層の膜強度の低下が抑制され、保護層の耐摩耗性が向上する。
未修飾の無機微粒子や反応性表面修飾後の無機微粒子に表面修飾が施されたことは、熱重量・示差熱（ＴＧ／ＤＴＡ）測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）による分析等によって確認することができる。
表面修飾された無機微粒子は、重合性基由来の基を有することが好ましい。表面修飾された無機微粒子が重合性基由来の基を有することにより、保護層の耐摩耗性が向上する。重合性基の種類は、特に制限されないが、ラジカル重合性基が好ましい。重合性基の導入方法としては、特に制限されないが、無機微粒子に対して重合性基を有する表面修飾剤で表面修飾を行う方法が好ましい。
表面修飾された無機微粒子が重合性基を有することや、保護層中の表面修飾された無機微粒子が重合性基由来の基を有することは、熱重量・示差熱（ＴＧ／ＤＴＡ）測定、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による観察、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）による分析、質量分析等によって確認することができる。
・重合性基を有する表面修飾剤（反応性表面修飾剤）による表面修飾方法
上述した表面修飾（シリコーン表面修飾）された無機微粒子は、反応性表面修飾剤でさらに表面修飾されることが好ましい。重合性基は、反応性表面修飾によって、無機微粒子の表面に担持され、その結果、表面修飾された無機微粒子は、さらに重合性基を有することとなる。
そして、保護層中で、当該表面修飾された無機微粒子が重合性基を介して重合性モノマーと重合することになり、膜強度がより高い保護層が形成され、保護層の耐摩耗性がさらに向上する。このとき、シリコーン表面修飾粒子は、保護層中で重合性基由来の基を有する構造として存在することとなる。
上述した表面修飾（シリコーン表面修飾）された無機微粒子は、反応性表面修飾剤でさらに表面修飾されることが好ましい。重合性基は、反応性表面修飾によって、無機微粒子の表面に担持され、その結果、表面修飾された無機微粒子は、さらに重合性基を有することとなる。
そして、保護層中で、当該表面修飾された無機微粒子が重合性基を介して重合性モノマーと重合することになり、膜強度がより高い保護層が形成され、保護層の耐摩耗性がさらに向上する。このとき、シリコーン表面修飾粒子は、保護層中で重合性基由来の基を有する構造として存在することとなる。
反応性表面修飾剤は、重合性基及び反応性官能基を有する。重合性基の種類は、特に制限されないが、ラジカル重合性基が好ましい。ここで、ラジカル重合性基は、炭素－炭素二重結合を有するラジカル重合可能な基を表す。ラジカル重合性基の例としては、ビニル基及び（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、これらの中でもメタクリロイル基が好ましい。また、反応性官能基とは、無機微粒子の表面に存在するヒドロキシ基などの極性基への反応性を有する基を表す。反応性官能基の例としては、カルボン酸基、ヒドロキシ基、－Ｒ′－ＣＯＯＨ（Ｒ′は、二価の炭化水素基）、アルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらの中でもアルキルシリル基、ハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基が好ましい。
反応性表面修飾剤は、ラジカル重合性基を有するシランカップリング剤が好ましく、その例としては、下記式Ｓ－１～Ｓ－３２で表される化合物等が挙げられる。
Ｓ－１： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－３： ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ－４： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－５： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－６： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－７： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－８： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－９： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ－１０： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１１： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ－１２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－１３： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－１４： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－１５： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－１６： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１７： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ－１８： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１９： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ－２０： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２１： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－２３： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２４： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２５： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－２６： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２７： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－２８： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２９： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－３０： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－３１： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）
Ｓ－３２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－１： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－３： ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３
Ｓ－４： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－５： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－６： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－７： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－８： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－９： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ－１０： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１１： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ－１２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－１３： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－１４： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－１５： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－１６： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１７： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３
Ｓ－１８： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－１９： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３
Ｓ－２０： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（Ｃ２Ｈ５）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２１： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－２３： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２４： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２
Ｓ－２５： ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２
Ｓ－２６： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２７： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－２８： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣＨ３）３
Ｓ－２９： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－３０： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｓ－３１： ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＯＣＨ３）
Ｓ－３２： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
反応性表面修飾剤は、単独でも又は２種以上を組み合わせても用いることができる。また、反応性表面修飾剤は、合成品であってもよいし市販品であってもよい。市販品の具体例としては、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３（以上、信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
シリコーン表面修飾及び反応性表面修飾の両方を行う場合、反応性表面修飾を行った後にシリコーン表面修飾を行うことが好ましい。この順序で表面修飾を行うことにより、保護層の耐摩耗性がより向上する。この理由は、撥油効果を有するシリコーン鎖によって、反応性表面修飾剤の無機微粒子表面への接触が妨げられることがないため、無機微粒子への重合性基の導入がより効率よく行われるからである。
反応性表面修飾の方法は、特に制限されず、反応性表面修飾剤を用いる以外は、シリコーン表面修飾で説明した方法と同様の方法を採用することができる。また、公知の無機微粒子の表面修飾技術を用いてもよい。
湿式処理方法により反応性表面修飾を用いる場合、溶剤としては、メタノール、エタノール、トルエンが好ましく、メタノール、トルエンがより好ましい。
反応性表面修飾剤の使用量は、反応性表面修飾前の無機微粒子１００質量部に対して、０．５質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、１．５質量部以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、保護層の耐摩耗性及びかぶり抑制効果がより向上する。また、反応性表面修飾剤の使用量は、修飾前の無機微粒子１００質量部に対して、１５質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下であることがより好ましく、８質量部以下であることがさらに好ましい。この範囲であると、粒子表面のヒドロキシ基数に対して反応性表面修飾剤の量が過剰とはならずより適切な範囲となり、未反応の反応性表面修飾剤による保護層の膜強度の低下が抑制され、保護層の耐摩耗性がより向上する。
（熱可塑性樹脂）
本発明に係る熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。中でも、電気特性及び膜強度の点でポリカーボネート樹脂が好ましい。
本発明に係る熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。中でも、電気特性及び膜強度の点でポリカーボネート樹脂が好ましい。
（他の成分）
保護層形成用の樹脂組成物は、上記成分以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。他の成分の例としては、特に制限されないが、潤滑剤等が挙げられる。潤滑剤は、特に制限されず公知のものを用いることができ、その例としては、重合性シリコーン化合物及び重合性パーフルオロポリエーテル化合物等が挙げられる。
保護層形成用の樹脂組成物は、上記成分以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。他の成分の例としては、特に制限されないが、潤滑剤等が挙げられる。潤滑剤は、特に制限されず公知のものを用いることができ、その例としては、重合性シリコーン化合物及び重合性パーフルオロポリエーテル化合物等が挙げられる。
［電子写真感光体の製造方法］
本発明に係る電子写真感光体は、特に制限されず公知の電子写真感光体の製造方法によって製造することができる。
中でも、導電性支持体上に形成された感光層の表面に、保護層形成用の樹脂組成物を含む塗布液を塗布する工程と、塗布された保護層形成用の樹脂組成物を乾燥する又は工程と、を含む方法によって製造することが好ましい。
本発明に係る電子写真感光体は、特に制限されず公知の電子写真感光体の製造方法によって製造することができる。
中でも、導電性支持体上に形成された感光層の表面に、保護層形成用の樹脂組成物を含む塗布液を塗布する工程と、塗布された保護層形成用の樹脂組成物を乾燥する又は工程と、を含む方法によって製造することが好ましい。
保護層形成用の樹脂組成物は、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾された無機微粒子を含有する。保護層形成用の樹脂組成物は、酸化防止剤などの他の成分を含んでもよく、さらに分散媒を含むことができる。
前記分散媒としては、電荷輸送物質、熱可塑性樹脂、前記表面修飾した無機微粒子、さらに必要に応じて添加される酸化防止剤等を溶解又は分散させることができれば、いずれのものでも使用できる。
具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－ブタノール（ｓｅｃ－ブタノール）、ｔｅｒｔ－ブタノール、ベンジルアルコール、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等が挙げられる。分散媒は、単独でも又は２種以上混合しても用いることができる。
具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－ブタノール（ｓｅｃ－ブタノール）、ｔｅｒｔ－ブタノール、ベンジルアルコール、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、ピリジン及びジエチルアミン等が挙げられる。分散媒は、単独でも又は２種以上混合しても用いることができる。
保護層形成用の樹脂組成物の総質量に対する分散媒の含有量は、特に制限されないが、１～９９質量％の範囲内であることが好ましく、４０～９０質量％の範囲内であることがより好ましく、５０～８０質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
保護層形成用の樹脂組成物中の無機微粒子の含有量は、特に制限されないが、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがさらに好ましい。この範囲であると、保護層の架橋密度が増加し、機械的強度がより向上し、保護層の耐摩耗性がより向上する。
保護層形成用の樹脂組成物の調製方法も、特に制限はなく、電荷輸送物質、熱可塑性樹脂、表面修飾された無機微粒子、さらに必要に応じて添加される酸化防止剤などの各種添加剤を分散媒に加えて、溶解又は分散するまで撹拌混合すればよい。
本発明に係る保護層は、上記方法で調製した保護層形成用の樹脂組成物を感光層の上に塗布した後、乾燥及び硬化させることにより形成することができる。
上記塗布、乾燥、及び硬化の過程で、熱可塑性樹脂と表面修飾された無機微粒子との間の反応、表面修飾された無機微粒子同士の反応等が進行し、保護層形成用の樹脂組成物の硬化物を含む保護層が形成される。
保護層形成用の樹脂組成物の塗布方法は、特に制限されず、例えば、浸漬塗布法、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法、スライドホッパー塗布法、円形スライドホッパー塗布法などの公知の方法を用いることができる。
上記塗布液を塗布した後は、自然乾燥又は熱乾燥を行い、塗膜を形成する。
乾燥の条件は、溶媒の種類、膜厚などによって適宜選択できる。乾燥温度は、好ましくは２０～１８０℃であり、より好ましくは８０～１４０℃であり、乾燥時間は、好ましくは１～２００分であり、より好ましくは５～１００分である。
保護層の厚さは、１～１０μｍの範囲内であることが好ましく、１．５～５μｍの範囲内であることがより好ましい。
なお、保護層が上記組成物を含むことは、熱分解ＧＣ－ＭＳ、核磁気共鳴（ＮＭＲ）、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ－ＩＲ）、元素分析などの公知の分析方法によって確認することができる。
＜滑剤供給手段＞
本発明に係る滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に滑剤を供給する手段である。滑剤供給手段１１６Ｙにより、感光体１１１Ｙ表面上に滑剤の皮膜が形成される。滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向において滑剤除去手段１１４Ｙの下流側かつ帯電手段１１３Ｙの上流側に配置されている。
本発明に係る滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に滑剤を供給する手段である。滑剤供給手段１１６Ｙにより、感光体１１１Ｙ表面上に滑剤の皮膜が形成される。滑剤供給手段１１６Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向において滑剤除去手段１１４Ｙの下流側かつ帯電手段１１３Ｙの上流側に配置されている。
この例の滑剤供給手段１１６Ｙは、固形状の滑剤と、ブラシローラーよりなる塗布部材とにより構成される。具体的には、滑剤供給手段１１６Ｙは、図５に示すように、筐体２０と、この筐体２０内に収容された、直方体形状を有する固形状の滑剤により構成された滑剤ストック２２と、感光体１１１Ｙ表面に当接し、滑剤ストック２２表面を摺擦することにより掻き取った滑剤を感光体１１１Ｙ表面に塗布するブラシローラー２１と、滑剤ストック２２をブラシローラー２１に押圧する加圧バネ２３と、ブラシローラー２１を回転駆動させる駆動機構（図示せず）とにより構成される。ブラシローラー２１は、ブラシの先端が感光体１１１Ｙ表面に当接している。また、ブラシローラー２１は、感光体１１１Ｙの回転方向とは逆回転で等速に回転駆動される。
ブラシローラー２１としては、例えば、基布に繊維の束をパイル糸として織り込んだパイル織り生地をリボン状生地にし、起毛した面を外側にして金属製シャフトの周囲に螺旋状に巻き付け、接着したものが挙げられる。この例のブラシローラー２１は、例えばポリプロピレンなどの樹脂製のブラシ繊維が高密度に植設されてなる長尺の織布がローラー基体の周面に形成されてなるものである。
ブラシ毛は金属製シャフトに対し垂直方向に起毛させる、直毛タイプが塗布能力の観点から好ましい。ブラシ毛に用いる糸は、フィラメント糸が望ましく、材料としては、６－ナイロン、１２－ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン等の合成樹脂が挙げられ、導電性を高める目的でカーボン、ニッケル等の金属を練り込んだものでもよい。ブラシ繊維の太さは例えば３～７デニール、ブラシ繊維の毛長は２～５ｍｍ、ブラシ繊維の電気抵抗率は１×１０１０Ω以下、ブラシ繊維のヤング率は４９００～９８００Ｎ／ｍｍ２、ブラシ繊維の植設密度（単位面積あたりのブラシ繊維数）は例えば５万～２０万本／平方インチ（５０～２００ｋ本／ｉｎｃｈ２）が好ましい。ブラシローラー２１の感光体に対する食込み量は、０．５～１．５ｍｍであることが好ましい。ブラシローラーの回転速度は例えば感光体の周速比で０．３～１．５とされ、感光体の回転方向と同じ方向の回転であっても、逆の方向の回転であってもよい。
加圧バネ２３は、ブラシローラー２１の感光体１１１Ｙに対する押圧力が例えば０．５～１．０Ｎとなるよう、滑剤ストック２２を感光体１１１Ｙに近接する方向に押圧するものが用いられている。
滑剤供給手段１１６Ｙにおいては、感光体１１１Ｙの表面１ｃｍ２当たりに対する塗布量が０．５×１０－７～１．５×１０－７ｇ／ｃｍ２とされるよう、例えば滑剤ストック２２のブラシローラー２１に対する押圧力及びブラシローラー２１の回転速度が調整される。
（滑剤）
前記滑剤供給手段である滑剤ストックを構成する本発明に係る滑剤は、疎水性有機物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有する。
前記疎水性有機物としては、脂肪酸金属塩を含有することが潤滑性と感光体への塗布性の点で好ましい。
前記滑剤供給手段である滑剤ストックを構成する本発明に係る滑剤は、疎水性有機物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有する。
前記疎水性有機物としては、脂肪酸金属塩を含有することが潤滑性と感光体への塗布性の点で好ましい。
（脂肪酸金属塩）
脂肪酸金属塩としては、例えば、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなどを用いることができる。これらの中でも、滑性及び延展性の観点から、ステアリン酸亜鉛を用いることが好ましい。これらは１種単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いることができる。
脂肪酸金属塩としては、例えば、オレイン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなどを用いることができる。これらの中でも、滑性及び延展性の観点から、ステアリン酸亜鉛を用いることが好ましい。これらは１種単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いることができる。
原料として用いる粉体状の脂肪酸金属塩の数平均粒径は、５００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５～４０μｍの範囲内である。数平均粒径が５００μｍ以下であれば、固形状の滑剤ストックを作製する際の成型性が低下するのを防止することができる。
（窒化ホウ素）
滑剤はさらに窒化ホウ素を含む。窒化ホウ素の数平均粒径は、０．０７～５００μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．５～４０μｍの範囲内である。
滑剤はさらに窒化ホウ素を含む。窒化ホウ素の数平均粒径は、０．０７～５００μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．５～４０μｍの範囲内である。
数平均粒径が０．０７μｍ以上である窒化ホウ素を用いた場合には、十分な潤滑性が得られる。また、数平均粒径が５００μｍ以下の窒化ホウ素を用いた場合は、固形状の滑剤ストックを作製する際の成型性が低下するのを防止することができる。
滑剤における窒化ホウ素の含有割合は、脂肪酸金属塩の質量をＭａ、窒化ホウ素の質量をＭｂとしたときに、Ｍｂ／Ｍａが５０／５０～１／９９の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０／５０～５／９５である。滑剤における窒化ホウ素の含有割合が全体の１質量％（すなわちＭｂ／Ｍａ＝１／９９）以上であることによって、非帯部の画像濃度が濃くなる滑剤メモリを防止することが可能となる。また、５０質量％（すなわちＭｂ／Ｍａ＝５０／５０）以下であることによって、滑剤除去手段によって当該滑剤を十分に除去することができて、感光体表面における当該滑剤によるフィルミングの発生を抑制することができる。
（無機潤滑剤）
滑剤は、本発明の効果を妨げない限り、窒化ホウ素以外の無機潤滑剤を含んでもよい。このような無機潤滑剤としては、劈開性を有する物質からなるものを用いることが好ましく、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、タルク、カオリン、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、マイカなどが挙げられる。これらの中でも窒化ホウ素を用いることが好ましい。これらは１種単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いることができる。
滑剤は、本発明の効果を妨げない限り、窒化ホウ素以外の無機潤滑剤を含んでもよい。このような無機潤滑剤としては、劈開性を有する物質からなるものを用いることが好ましく、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、タルク、カオリン、モンモリロナイト、フッ化カルシウム、マイカなどが挙げられる。これらの中でも窒化ホウ素を用いることが好ましい。これらは１種単独で、又は、２種以上を組み合わせて用いることができる。
（表面修飾した無機微粒子）
前記滑剤に含有される表面修飾した無機微粒子は、研磨剤として機能する。
当該無機微粒子としては、表面をシリコーン処理したアルミナ粒子等が挙げられる。
また、前記無機微粒子を表面修飾する表面修飾剤としては、シリコーン等が挙げられる。
前記滑剤に含有される表面修飾した無機微粒子は、研磨剤として機能する。
当該無機微粒子としては、表面をシリコーン処理したアルミナ粒子等が挙げられる。
また、前記無機微粒子を表面修飾する表面修飾剤としては、シリコーン等が挙げられる。
前記滑剤ストックは、前記疎水性有機物と、前記窒化ホウ素と、前記表面修飾した無機微粒子とを含有する滑剤を固形状にしたものである。具体的な製造方法としては、例えば、疎水性有機物であるステアリン酸亜鉛、窒化ホウ素、及び、研磨剤である表面修飾した無機微粒子を１５０℃で撹拌しながら溶融し、１５０℃で予熱したキャビティを有するアルミニウム製金型のキャビティに溶融液を注入する。注入後、予熱した断熱蓋を金型上部に設置し、次いで、金型を室温条件下で、金型が５０℃になるまで放冷し、所定時間後、固化した成形品を金型から取り出すことで製造することができる。
前記滑剤ストックは、直方体状であったが、棒状であってもよく、特に形状は限定しないが、棒状にして「滑剤棒」として用いることが好ましい。
前記滑剤ストックは、直方体状であったが、棒状であってもよく、特に形状は限定しないが、棒状にして「滑剤棒」として用いることが好ましい。
＜帯電手段＞
帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に対して帯電ローラーにより帯電を行う手段である。この例の帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に接触して配設された帯電ローラーと、帯電ローラーに電圧を印加する電源とからなる。
帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に対して帯電ローラーにより帯電を行う手段である。この例の帯電手段１１３Ｙは、感光体１１１Ｙの表面に接触して配設された帯電ローラーと、帯電ローラーに電圧を印加する電源とからなる。
本発明において、帯電手段は、帯電ローラーを感光体の表面に接触又は近接した状態で帯電させる近接帯電方式による。
帯電ローラー１１は、図６に示されるように、芯金１１ａの表面上に積層された、帯電音を低減させるとともに弾性を付与して感光体１１１Ｙに対する均一な密着性を得るための弾性層１１ｂの表面上に、必要に応じて帯電ローラー１１が全体として高い均一性の電気抵抗を得るための抵抗制御層１１ｃが積層され、当該抵抗制御層１１ｃ上に表面層１１ｄが積層されたものが、押圧バネ１１ｅによって感光体１１１Ｙの方向に付勢されて感光体１１１Ｙの表面に対して所定の押圧力で圧接されて帯電ニップ部が形成された状態とされる構成とされており、感光体１１１Ｙの回転に従動して回転される。
芯金１１ａは、例えば、鉄、銅、ステンレス、アルミニウム及びニッケルなどの金属、又はこれらの金属の表面に、防錆性や耐付傷性を得るために導電性を損なわない範囲においてメッキ処理したものからなり、その外径は例えば３～２０ｍｍの範囲内とされる。
弾性層１１ｂは、例えば、ゴムなどの弾性材料中にカーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子やアルカリ金属塩、アンモニウム塩などよりなる導電性塩微粒子などが添加されたものからなる。
弾性材料の具体例としては、例えば、天然ゴム、エチレンプロピレンジエンメチレンゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン－ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ニトリル－ブタジエンゴム（ＮＢＲ）及びクロロプレンゴム（ＣＲ）などの合成ゴムや、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂などの樹脂、又は発泡スポンジなどの発泡体などを挙げることができる。弾性の大きさは、プロセス油、可塑剤などを弾性材料中に添加することにより調整することができる。
弾性材料の具体例としては、例えば、天然ゴム、エチレンプロピレンジエンメチレンゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン－ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、シリコーンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ニトリル－ブタジエンゴム（ＮＢＲ）及びクロロプレンゴム（ＣＲ）などの合成ゴムや、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂などの樹脂、又は発泡スポンジなどの発泡体などを挙げることができる。弾性の大きさは、プロセス油、可塑剤などを弾性材料中に添加することにより調整することができる。
弾性層１１ｂは、その体積抵抗率が１×１０１～１×１０１０Ω・ｃｍの範囲であることが好ましい。また、その層厚は５００～５０００μｍであることが好ましく、より好ましくは５００～３０００μｍの範囲内である。
弾性層１１ｂの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
弾性層１１ｂの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
抵抗制御層１１ｃは、帯電ローラー１１を全体として均一な電気抵抗を有する目的などにより設けられるものであるが、なくてもよい。この抵抗制御層１１ｃは、適度な導電性を有する材料を塗工すること、又は適度な導電性を有するチューブを被覆させることによって設けることができる。
この抵抗制御層１１ｃを構成する具体的な材料としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂；エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム及びアクリロニトリル系ゴムなどのゴム類などの基礎材料中に、カーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子；導電性酸化チタン、導電性酸化亜鉛、導電性酸化スズなどよりなる導電性金属酸化物微粒子；アルカリ金属塩、アンモニウム塩などよりなる導電性塩微粒子などの導電剤が添加されたものが挙げられる。
抵抗制御層１１ｃは、その体積抵抗率が１×１０－２～１×１０１４Ω・ｃｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１×１０１～１×１０１０Ω・ｃｍである。また、その層厚は０．５～１００μｍであることが好ましく、より好ましくは１～５０μｍ、さらに好ましくは１～２０μｍの範囲内である。
抵抗制御層１１ｃの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
抵抗制御層１１ｃの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
表面層１１ｄは、弾性層１１ｂ中の可塑剤などの得られる帯電ローラーの表面へのブリードアウトを防止する目的や帯電ローラーの表面の滑り性や平滑性を得る目的、又は感光体１０上にピンホールなどの欠陥があった場合にもリークの発生を防止する目的などにより設けられるものであって、適度な導電性を有する材料を塗工すること、又は適度な導電性を有するチューブを被覆させることによって設けられる。
表面層１１ｄを材料の塗工により設ける場合は、具体的な材料としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂及びシリコーン樹脂などの樹脂、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、クロロプレンゴム及びアクリロニトリル系ゴムなどの基礎材料中に、カーボンブラック、カーボングラファイトなどよりなる導電性微粒子；導電性酸化チタン、導電性酸化亜鉛、導電性酸化スズなどよりなる導電性金属酸化物微粒子などの導電剤が添加されたものが挙げられる。
塗工方法としては、浸漬塗工法、ロール塗工法及びスプレー塗工法などが挙げられる。
塗工方法としては、浸漬塗工法、ロール塗工法及びスプレー塗工法などが挙げられる。
また、表面層１１ｄをチューブの被覆により設ける場合は、具体的なチューブとしては、ナイロン１２、４フッ化エチレン－パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂（ＰＦＡ）、ポリフッ化ビニリデン、４フッ化エチレン－６フッ化プロピレン共重合樹脂（ＦＥＰ）；ポリスチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系及びポリアミド系などの熱可塑性エラストマーなどに上記の導電剤が添加されたものがチューブ状に成形されたものが挙げられる。このチューブは熱収縮性のものでもよく、非熱収縮性のものでもよい。
表面層１１ｄは、その体積抵抗率が１×１０１～１×１０８Ω・ｃｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは１×１０１～１×１０５Ω・ｃｍである。また、その層厚は０．５～１００μｍであることが好ましく、より好ましく１～５０μｍ、さらに好ましくは１～２０μｍである。
表面層１１ｄの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
表面層１１ｄの体積抵抗率は、ＪＩＳ Ｋ ６９１１に準拠して測定された値である。
また、表面層１１ｄは、その表面粗さＲｚが１～３０μｍのものが好ましく、より好ましくは２～２０μｍ、さらに好ましくは５～１０μｍである。
以上のような帯電ローラー１１においては、帯電ローラー１１の芯金１１ａに電源Ｓ１より帯電バイアス電圧が印加されることにより、感光体１１１Ｙの表面が所定の極性の所定の電位に帯電される。ここに、帯電バイアス電圧は、例えば直流電圧のみとしてもよいが、帯電の均一性に優れることから、直流電圧に交流電圧が重畳された振動電圧とすることが好ましい。
帯電バイアス電圧は、例えば－２．５～－１．５ｋＶ程度とすることができる。
帯電バイアス電圧は、例えば－２．５～－１．５ｋＶ程度とすることができる。
図６に示した帯電ローラーによる帯電条件の一例を示すと、帯電バイアス電圧を形成する直流電圧（Ｖｄｃ）が－５００Ｖ、交流電圧（Ｖａｃ）が周波数１０００Ｈｚ、ピーク間電圧１３００Ｖの正弦波であり、この帯電バイアス電圧が印加されることにより、感光体１０の表面が－５００Ｖに一様に帯電される。
＜露光手段＞
露光手段１１５Ｙは、帯電手段１１３Ｙによって一様な電位を与えられた感光体１１１Ｙ表面に、画像信号（イエローの画像信号）に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する手段である。露光手段１１５Ｙは、感光体１１１Ｙの軸方向にアレイ状に発光素子が配列されたＬＥＤと結像素子とから構成されるもの、又はレーザー光学系などが用いられる。
露光手段１１５Ｙは、帯電手段１１３Ｙによって一様な電位を与えられた感光体１１１Ｙ表面に、画像信号（イエローの画像信号）に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する手段である。露光手段１１５Ｙは、感光体１１１Ｙの軸方向にアレイ状に発光素子が配列されたＬＥＤと結像素子とから構成されるもの、又はレーザー光学系などが用いられる。
＜現像手段＞
現像手段１１７Ｙは、感光体１１１Ｙ表面にトナーを供給し、感光体１１１Ｙ表面に形成された静電潜像を現像し、トナー画像を形成する手段である。この例の現像手段１１７Ｙは、具体的には、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブ及び感光体とこの現像スリーブとの間に直流及び／又は交流バイアス電圧を印加する電圧印加装置により構成される。
現像手段１１７Ｙは、感光体１１１Ｙ表面にトナーを供給し、感光体１１１Ｙ表面に形成された静電潜像を現像し、トナー画像を形成する手段である。この例の現像手段１１７Ｙは、具体的には、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブ及び感光体とこの現像スリーブとの間に直流及び／又は交流バイアス電圧を印加する電圧印加装置により構成される。
＜転写手段＞
転写手段を構成する一次転写ローラー１３３Ｙは、感光体１１１Ｙ上に形成されたトナー画像を無端ベルト状の中間転写体１３１に転写する手段である。一次転写ローラー１３３Ｙは、中間転写体１３１と当接して配置されている。
転写手段を構成する一次転写ローラー１３３Ｙは、感光体１１１Ｙ上に形成されたトナー画像を無端ベルト状の中間転写体１３１に転写する手段である。一次転写ローラー１３３Ｙは、中間転写体１３１と当接して配置されている。
この画像形成装置１００においては、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上に形成されたトナー画像を一次転写ローラー（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋによって中間転写体１３１に転写し、中間転写体１３１上に転写された各トナー画像を二次転写ローラー（二次転写手段）２１７によって転写材Ｐに転写する中間転写方式が採用されているが、感光体上に形成されたトナー画像を転写手段によって直接転写材に転写する直接転写方式が採用されてもよい。
＜クリーニング手段＞
クリーニング手段１１９Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に残存したトナーを除去する手段である。この例のクリーニング手段１１９Ｙは、クリーニングブレードにより構成される。このクリーニングブレードは、図５に示すように、支持部材３１と、この支持部材３１上に接着層（図示せず）を介して支持されたブレード部材３０とにより構成される。ブレード部材３０は、その先端が、感光体１１１Ｙ表面との当接部分における当該感光体１１１Ｙの回転方向と反対方向（カウンター方向）に向く状態で配置されている。
クリーニング手段１１９Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に残存したトナーを除去する手段である。この例のクリーニング手段１１９Ｙは、クリーニングブレードにより構成される。このクリーニングブレードは、図５に示すように、支持部材３１と、この支持部材３１上に接着層（図示せず）を介して支持されたブレード部材３０とにより構成される。ブレード部材３０は、その先端が、感光体１１１Ｙ表面との当接部分における当該感光体１１１Ｙの回転方向と反対方向（カウンター方向）に向く状態で配置されている。
支持部材３１としては、特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチック、セラミックなどから製造されたものが挙げられる。中でも、剛体の金属が好ましい。
ブレード部材３０としては、例えば、ベース層とエッジ層とが積層されてなる多層構造のものを用いることができる。ベース層及びエッジ層は、それぞれポリウレタンにより構成されることが好ましい。ポリウレタンとしては、ポリオール、ポリイソシアネート及び必要に応じて架橋剤を反応させて得られるものなどが挙げられる。
＜滑剤除去手段＞
滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に付着した滑剤を除去する手段である。滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向においてクリーニング手段１１９Ｙの下流側かつ滑剤供給手段１１６Ｙの上流側に配置されている。
滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙ表面に付着した滑剤を除去する手段である。滑剤除去手段１１４Ｙは、感光体１１１Ｙの回転方向においてクリーニング手段１１９Ｙの下流側かつ滑剤供給手段１１６Ｙの上流側に配置されている。
滑剤除去手段１１４Ｙは、除去部材が感光体１１１Ｙ表面に接触し、機械的作用によって滑剤を除去する手段であることが好ましい。ここで、機械的作用によって滑剤を除去するとは、感光体の表面を機械的に擦過するなどによって滑剤を除去することをいう。滑剤除去手段としては、ブラシローラーや発泡ローラーなどの除去部材を用いることができ、除去能力及び耐久性の観点からブラシローラーが好ましい。この例の滑剤除去手段１１４Ｙは、具体的には、感光体１１１Ｙ表面に当接し、感光体１１１Ｙの回転方向とは逆回転で等速に回転駆動されるブラシローラーよりなる除去部材と、駆動機構とにより構成される。
除去部材としてのブラシローラーとしては、例えば、基布に繊維の束をパイル糸として織り込んだパイル織り生地をリボン状生地にし、起毛した面を外側にして金属製シャフトの周囲に螺旋状に巻き付け、接着したものが挙げられる。この例のブラシローラーは、例えばポリエステルなどの樹脂製のブラシ繊維が高密度に植設されてなる長尺の織布が金属製シャフトの周面に形成されてなるものである。
ブラシ毛は金属製シャフトに対し垂直方向に起毛させる、直毛タイプが除去能力の観点から好ましい。ブラシ毛に用いる糸は、フィラメント糸が望ましく、材料としては、６－ナイロン、１２－ナイロン、ポリエステル、アクリル、ビニロン等の合成樹脂が挙げられ、導電性を高める目的でカーボン、ニッケル等の金属を練り込んだものでもよい。ブラシ繊維の太さは３～１５デニールが好ましく、ブラシ繊維の毛長は２～５ｍｍが好ましい。また、ブラシ繊維の植設密度を４万～５０万本／平方インチ（４０～５００ｋＦ／ｉｎｃｈ２）の範囲で設定することで、除去に必要な剛性を確保するとともに、ブラシ毛に疎な部分を作らず滑剤の除去ムラを引き起こさないようにすることができる。ブラシ繊維の電気抵抗率は１×１０７Ω以下であることが好ましく、ブラシ繊維のヤング率は１５００～９８００Ｎ／ｍｍ２であることが好ましい。ブラシローラーの感光体に対する食込み量は、０．５～１．５ｍｍであることが好ましい。ブラシローラーの回転速度は例えば感光体速度比で０．３～１．５とされ、感光体の回転方向と同じ方向の回転であっても、逆の方向の回転であってもよい。
なお、図５に示す構成においては、滑剤供給手段１１６Ｙの下流側かつ帯電手段１１３Ｙの上流側に、滑剤供給手段１１６Ｙによって感光体１１１Ｙ表面に供給された滑剤を均一に塗布する均しブレード１１８Ｙが設けられている。
本発明の画像形成装置１００においては、図５に示すように、滑剤供給手段１１６Ｙによる滑剤の供給後であって帯電手段１１３Ｙによる帯電前の感光体１１１Ｙ表面の単位面積当たりの滑剤存在比率をＡ（ａｔｍ％）、滑剤除去手段１１４Ｙによる滑剤の除去後であって滑剤供給手段１１６Ｙによる滑剤の供給前の感光体１１１Ｙ表面の単位面積当たりの滑剤存在比率をＢ（ａｔｍ％）としたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことが好ましい。
式（１）： Ａ≧８Ｂ
式（２）： Ａ≧１．７
式（１）： Ａ≧８Ｂ
式（２）： Ａ≧１．７
上記式（１）及び式（２）をいずれも満たすことにより、帯電手段１１３Ｙによる帯電前においては、感光体１１１Ｙ表面に滑剤が十分に存在するため、感光体１１１Ｙ表面の劣化を防止することができ、感光体１１１Ｙ表面の抵抗を高く維持することができるので高温高湿環境下での像流れの発生をより確実に抑制することができ、また、クリーニング手段１１９Ｙによるトナーの除去前においては、感光体１１１Ｙ表面に滑剤が十分に存在するため、良好なトナークリーニング性が確実に得られる。さらに、クリーニング手段１１９Ｙによるトナーの除去後においては、劣化した滑剤が感光体１１１Ｙ表面から除去されているため、滑剤の劣化に伴う像流れの発生をより確実に抑制することができる。
なお、滑剤存在比率Ａの測定では、回転する感光体１１１Ｙにおいて、滑剤供給手段１１６Ｙの下流側であって帯電手段１１３Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所を選択することができる。特に、均しブレード１１８Ｙの下流側であって帯電手段１１３Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所が好ましい。
また、滑剤存在比率Ｂの測定では、回転する感光体１１１Ｙにおいて、滑剤除去手段１１４Ｙの下流側であって滑剤供給手段１１６Ｙの上流側の感光体１１１Ｙ表面上の任意の箇所を選択することができる。
滑剤存在比率Ａは、１．７ａｔｍ％以上とされ、より好ましくは２．０～２．５ａｔｍ％である。また、Ａ／Ｂは、８以上とされ、より好ましくは２０～３０である。
ここで、滑剤存在比率とは、感光体表面の単位面積当たりに滑剤が存在する度合いをいう。本発明においては、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）によって測定される感光体表面上の滑剤を構成する脂肪酸金属塩に由来の金属の存在比率を代替量として用いる。滑剤における脂肪酸金属塩及び窒化ホウ素の比率は経時的に略一定であると考えられるので、脂肪酸金属塩に由来の金属の存在比率は、滑剤全体に係る滑剤存在比率の代替量として用いることができる。単位は「ａｔｍ％」とする。検出する選択元素は、（１）保護層を構成する架橋重合体の元素（Ｃ、Ｏなど）、（２）金属酸化物（例えばＳｎなど）、（３）感光体表面に供給される脂肪酸金属塩に由来の金属（例えばＺｎ、Ａｌなど）とする。これらの選択元素については、保護層を構成する材料の種類や用いる滑剤の種類によって、感光体表面に存在し得ると考えられる元素全てを抽出する必要がある。なお、検知性の観点から、保護層に含有される金属酸化物由来の金属と脂肪酸金属塩に由来の金属との差別化のため、使用する金属酸化物と脂肪酸金属塩に由来の金属とは違う種類のものを選択する。
具体的には、高温高湿環境（温度３０℃、湿度８０％ＲＨ）下において、２０００枚印刷した後の感光体から保護層のみ５ｍｍ角で切り取り、これを測定サンプルとする。Ｘ線光電子分光装置「Ｋ－Ａｌｐｈａ」（サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用い、選択元素を下記測定条件にて定量分析し、各々の原子ピーク面積から相対感度因子を用いて表面元素濃度を算出する。検出される金属の測定量を代替量として取り扱う。
測定条件
Ｘ線：Ａｌモノクロ線源
加速：１２ｋＶ、６ｍＡ
分解能：５０ｅＶ
ビーム系：４００μｍ
ステップサイズ：０．１ｅＶ
測定条件
Ｘ線：Ａｌモノクロ線源
加速：１２ｋＶ、６ｍＡ
分解能：５０ｅＶ
ビーム系：４００μｍ
ステップサイズ：０．１ｅＶ
滑剤存在比率Ａは、滑剤供給手段における滑剤の供給量、滑剤供給手段の押圧力（例えば、ブラシローラーの感光体に対する食込み量など）によって制御することができる。また、滑剤存在比率Ｂは、滑剤除去部材の押圧力（例えば、ブラシローラーの感光体に対する食込み量など）、滑剤除去部材のブラシ繊維の植設密度によって制御することができる。
中間転写体１３１は、複数のローラー１３７Ａ、１３７Ｂ、１３７Ｃ、１３７Ｄにより巻回され、回動可能に支持されている。
中間転写体１３１上には、当該中間転写体上に残存したトナーを除去するクリーニング手段１３５が配置されている。
中間転写体１３１上には、当該中間転写体上に残存したトナーを除去するクリーニング手段１３５が配置されている。
この画像形成装置１００において、感光体１１１Ｙ、現像手段１１７Ｙ、クリーニング手段１１９Ｙ、滑剤除去手段１１４Ｙ及び滑剤供給手段１１６Ｙなどは、一体的に結合され、装置本体に着脱自在に構成されたプロセスカートリッジ（画像形成ユニット）であってもよい。又は、帯電手段１１３Ｙ、露光手段１１５Ｙ、現像手段１１７Ｙ、滑剤除去手段１１４Ｙ、滑剤供給手段１１６Ｙ、一次転写ローラー１３３Ｙ及びクリーニング手段１１９Ｙからなる群から選ばれる一以上の部材と、感光体１１１Ｙとが一体的に構成されたプロセスカートリッジ（画像形成ユニット）であってもよい。
プロセスカートリッジ２００は、筐体２０１と、それに収容された感光体１１１Ｙ、帯電手段１１３Ｙ、現像手段１１７Ｙ、滑剤供給手段１１６Ｙ、クリーニング手段１１９Ｙ及び滑剤除去手段１１４Ｙと、一次転写ローラー１３３Ｙと、を有する。また、装置本体には、プロセスカートリッジ２００を装置本体内にガイドする手段として支持レール２０３Ｌ、２０３Ｒが設けられている。それにより、プロセスカートリッジ２００を装置本体に着脱可能となっている。これらのプロセスカートリッジ２００は、装置本体に着脱自在に構成された単一の画像形成ユニットとなりうる。
給紙搬送手段１５０は、給紙カセット２１１内の転写材Ｐを、複数の中間ローラー２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ及びレジストローラー２１５を経て、二次転写ローラー２１７に搬送可能に設けられている。
定着手段１７０は、二次転写ローラー２１７により転写されたカラー画像を定着処理する。排紙ローラー２１９は、定着処理された転写材Ｐを挟持して、排紙トレイ２２１上に載置可能に設けられている。
このように構成された画像形成装置１００では、画像形成ユニット１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋによりトナー画像を形成する。具体的には、まず、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に滑剤を供給する。その後、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に放電して負に帯電させる。次いで、露光手段１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面を画像信号に基づいて露光し、静電潜像を形成する。次いで、現像手段１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面にトナーを付与して現像し、トナー画像を形成する。
次いで、一次転写ローラー（一次転写手段）１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋを、回動する中間転写体１３１と当接させる。それにより、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ上にそれぞれ形成した各色のトナー画像を、回動する中間転写体１３１上に逐次転写させて、カラー画像を転写する（一次転写する）。画像形成処理中、一次転写ローラー１３３Ｂｋは、常時、感光体１１１Ｂｋに当接する。一方、他の一次転写ローラー１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃは、カラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃに当接する。
そして、一次転写ローラー１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋと中間転写体１３１とを分離させた後、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に残存したトナーを、クリーニング手段１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋで除去する。次いで、感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面における滑剤を、滑剤除去手段１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋで除去する。その後、次の画像形成プロセスに備えて、滑剤供給手段１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋにより感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面に滑剤を供給し、必要に応じて感光体１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋの表面を除電手段（不図示）によって除電した後、帯電手段１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋにより負に帯電させる。このように、画像形成装置１００においては、画像形成プロセス毎に、感光体１１１表面上において、トナーの除去の後に帯電履歴のある滑剤を除去し、その後、帯電される前に新しい滑剤が供給されるように構成されている。
一方、給紙カセット２１１内に収容された転写材Ｐ（例えば普通紙、透明シートなどの最終画像を担持する支持体）を、給紙搬送手段１５０で給紙し、複数の中間ローラー２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ、レジストローラー２１５を経て二次転写ローラー（二次転写手段）２１７に搬送する。そして、二次転写ローラー２１７を回動する中間転写体１３１と当接させて、転写材Ｐ上にカラー画像を一括して転写する（二次転写する）。二次転写ローラー２１７は、転写材Ｐ上に二次転写を行うときのみ、中間転写体１３１と当接する。その後、カラー画像が一括転写された転写材Ｐを、中間転写体１３１の曲率が高い部位で分離する。
このようにしてカラー画像が一括して転写された転写材Ｐを、定着手段１７０で定着処理した後、排紙ローラー２１９で挟持して装置外の排紙トレイ２２１上に載置する。また、カラー画像が一括転写された転写材Ｐを中間転写体１３１から分離した後、クリーニング手段１３５で中間転写体１３１上の残存トナーを除去する。
［トナー］
本発明の画像形成装置において使用されるトナーとしては、特に限定されないが、結着樹脂及び着色剤が含有されるトナー粒子よりなり、当該トナー粒子には、所望により離型剤などの他の成分が含有されていてもよい。
トナーを構成するトナー粒子は、高画質化を企図する観点から、その体積平均粒径が２～８μｍの範囲内であることが好ましい。
本発明の画像形成装置において使用されるトナーとしては、特に限定されないが、結着樹脂及び着色剤が含有されるトナー粒子よりなり、当該トナー粒子には、所望により離型剤などの他の成分が含有されていてもよい。
トナーを構成するトナー粒子は、高画質化を企図する観点から、その体積平均粒径が２～８μｍの範囲内であることが好ましい。
上記のトナーを製造する方法としては、特に制約されないが、例えば、通常の粉砕法や、分散媒中で作成する湿式溶融球形化法や、懸濁重合、分散重合、乳化重合凝集法等の既知の重合法などが挙げられる。
また、トナー粒子には、外添剤として、平均粒径１０～３００ｎｍ程度のシリカ及びチタニア等の無機微粒子、０．２～３μｍ程度の研磨剤を適宜量、外部添加することができる。
トナーは、磁性又は非磁性の一成分現像剤として使用することもできるが、キャリアと混合して二成分現像剤として使用してもよい。
トナーを二成分現像剤として使用する場合において、キャリアとしては、鉄などの強磁性金属、強磁性金属とアルミニウム及び鉛などの合金、フェライト及びマグネタイトなどの強磁性金属の化合物などの従来公知の材料からなる磁性粒子を用いることができ、特にフェライトが好ましい。
トナーを二成分現像剤として使用する場合において、キャリアとしては、鉄などの強磁性金属、強磁性金属とアルミニウム及び鉛などの合金、フェライト及びマグネタイトなどの強磁性金属の化合物などの従来公知の材料からなる磁性粒子を用いることができ、特にフェライトが好ましい。
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」及び「部」は、それぞれ、「質量％」及び「質量部」を意味する。
［金属酸化物粒子の作製］
＜金属酸化物粒子Ｐ１の作製＞
金属酸化物粒子Ｐ１として、未修飾金属酸化物粒子（未修飾の無機微粒子）であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、比抵抗１０１０Ω・ｃｍ以上、ｐＨ８～９、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）を用いた。
＜金属酸化物粒子Ｐ１の作製＞
金属酸化物粒子Ｐ１として、未修飾金属酸化物粒子（未修飾の無機微粒子）であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、比抵抗１０１０Ω・ｃｍ以上、ｐＨ８～９、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）を用いた。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２の作製＞
２－ブタノール １０ｍＬに、未修飾金属酸化物粒子であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、反応性表面修飾剤である３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－５０３：信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面修飾剤（又は、疎水化処理剤ともいう。）（ＫＢＭ－５０３）で表面修飾されたα－アルミナ粒子（表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２）を作製した。
２－ブタノール １０ｍＬに、未修飾金属酸化物粒子であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、反応性表面修飾剤である３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－５０３：信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面修飾剤（又は、疎水化処理剤ともいう。）（ＫＢＭ－５０３）で表面修飾されたα－アルミナ粒子（表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２）を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３の作製＞
メタノール １０ｍＬに未修飾金属酸化物粒子であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で３０分間分散させた。次いで、反応性表面修飾剤である３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－５０３：信越化学工業株式会社製）０．２５ｇ及びトルエン １０ｍＬを加え、室温で６０分撹拌した。エバポレーターによって溶剤を除去した後、１２０℃で６０分加熱することにより、反応性表面修飾剤で表面修飾が施された導電性金属酸化物粒子を得た。
上記で得られた導電性金属酸化物粒子 ５ｇを、２－ブタノール ４０ｇに加え、ＵＳホモジナイザーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、シリコーン主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤（ＫＦ－９９０８：信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面修飾剤と、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤で表面修飾が施された表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３を作製した。
メタノール １０ｍＬに未修飾金属酸化物粒子であるα－アルミナ（数平均一次粒径３００ｎｍ、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）５ｇを加え、ＵＳホモジナイサーを用いて室温で３０分間分散させた。次いで、反応性表面修飾剤である３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ－５０３：信越化学工業株式会社製）０．２５ｇ及びトルエン １０ｍＬを加え、室温で６０分撹拌した。エバポレーターによって溶剤を除去した後、１２０℃で６０分加熱することにより、反応性表面修飾剤で表面修飾が施された導電性金属酸化物粒子を得た。
上記で得られた導電性金属酸化物粒子 ５ｇを、２－ブタノール ４０ｇに加え、ＵＳホモジナイザーを用いて室温で６０分間分散させた。次いで、シリコーン主鎖の側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤（ＫＦ－９９０８：信越化学工業株式会社製）０．１５ｇを加えて、さらに、室温で６０分間、ＵＳホモジナイザーを用いて分散を行った。分散後、溶剤を室温下で揮発させ、１２０℃で６０分間乾燥させることにより、反応性表面修飾剤と、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有する表面修飾剤で表面修飾が施された表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製＞
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３の作製において、ＫＢＭ－５０３による表面修飾を行わずに、ＫＦ－９９０８による表面修飾のみ行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４を作製した。
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３の作製において、ＫＢＭ－５０３による表面修飾を行わずに、ＫＦ－９９０８による表面修飾のみ行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５の作製＞
（複合粒子１の作製）
図７に示す製造装置を用い、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）芯材（コア）の表面に酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆層（シェル）が形成されてなる複合粒子１を作製した。
具体的には、母液槽４１中に純水３５００ｃｍ３を投入し、次に数平均一次粒径が８０ｎｍである球状の硫酸バリウム芯材９００ｇを投入して、５パス循環させた。母液槽４１から流出するスラリーの流速は、２２８０ｃｍ３／ｍｉｎであった。また、強分散装置１３の撹拌速度を１６０００ｒｐｍとした。循環完了後のスラリーを純水で全量９０００ｃｍ３にメスアップし、そこに１６００ｇのスズ酸ナトリウム、及び２．３ｃｍ３の水酸化ナトリウム水溶液（濃度２５Ｎ）を投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。
この母液を、母液槽４１から流出する流速Ｓ２が２００ｃｍ３となるように循環させながら、強分散装置４３としてのホモジナイザー「ｍａｇｉｃ ＬＡＢ（登録商標）」（ＩＫＡジャパン株式会社製）に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３を９．２ｃｍ３／ｍｉｎとした。ホモジナイザーの容積は２０ｃｍ３、撹拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザーに供給し、粒子を含むスラリーを得た。
得られたスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで、乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ２／Ｎ２雰囲気下で４５０℃、４５分間還元焼成した。このようにして、硫酸バリウムの芯材（コア）の表面に酸化スズの外殻（シェル）が形成されてなる、数平均一次粒径が１００ｎｍである複合粒子１を作製した。
ここで、図７に示す製造装置において、符号４２及び４４は、母液槽４１と強分散装置４３との間の循環路を形成する循環配管を、符号４５及び４６は、循環配管４２及び４４にそれぞれ設けられたポンプを、符号４１ａは撹拌翼を、符号４３ａは撹拌部を、符号４１ｂ及び４３ｂはシャフトを、符号４１ｃ及び４３ｃはモーターを、それぞれ示す。
（複合粒子１の作製）
図７に示す製造装置を用い、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）芯材（コア）の表面に酸化スズ（ＳｎＯ２）の被覆層（シェル）が形成されてなる複合粒子１を作製した。
具体的には、母液槽４１中に純水３５００ｃｍ３を投入し、次に数平均一次粒径が８０ｎｍである球状の硫酸バリウム芯材９００ｇを投入して、５パス循環させた。母液槽４１から流出するスラリーの流速は、２２８０ｃｍ３／ｍｉｎであった。また、強分散装置１３の撹拌速度を１６０００ｒｐｍとした。循環完了後のスラリーを純水で全量９０００ｃｍ３にメスアップし、そこに１６００ｇのスズ酸ナトリウム、及び２．３ｃｍ３の水酸化ナトリウム水溶液（濃度２５Ｎ）を投入して５パス循環させた。このようにして母液を得た。
この母液を、母液槽４１から流出する流速Ｓ２が２００ｃｍ３となるように循環させながら、強分散装置４３としてのホモジナイザー「ｍａｇｉｃ ＬＡＢ（登録商標）」（ＩＫＡジャパン株式会社製）に２０％硫酸を供給した。供給速度Ｓ３を９．２ｃｍ３／ｍｉｎとした。ホモジナイザーの容積は２０ｃｍ３、撹拌速度は１６０００ｒｐｍであった。循環を１５分間行い、その間硫酸を連続的にホモジナイザーに供給し、粒子を含むスラリーを得た。
得られたスラリーを、その導電率が６００μＳ／ｃｍ以下となるまでリパルプ洗浄した後、ヌッチェ濾過を行い、ケーキを得た。このケーキを大気中、１５０℃で１０時間乾燥させた。次いで、乾燥ケーキを粉砕し、その粉砕粉を１体積％Ｈ２／Ｎ２雰囲気下で４５０℃、４５分間還元焼成した。このようにして、硫酸バリウムの芯材（コア）の表面に酸化スズの外殻（シェル）が形成されてなる、数平均一次粒径が１００ｎｍである複合粒子１を作製した。
ここで、図７に示す製造装置において、符号４２及び４４は、母液槽４１と強分散装置４３との間の循環路を形成する循環配管を、符号４５及び４６は、循環配管４２及び４４にそれぞれ設けられたポンプを、符号４１ａは撹拌翼を、符号４３ａは撹拌部を、符号４１ｂ及び４３ｂはシャフトを、符号４１ｃ及び４３ｃはモーターを、それぞれ示す。
（表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５の作製）
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、前記で得られた複合粒子１を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５を作製した。
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、前記で得られた複合粒子１を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ６の作製＞
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、酸化チタン（ＴｉＯ２、数平均一次粒径１００ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ６を作製した。
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、酸化チタン（ＴｉＯ２、数平均一次粒径１００ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ６を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ７の作製＞
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が２４０ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が３００ｎｍの複合粒子２を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子２を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ７を作製した。
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が２４０ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が３００ｎｍの複合粒子２を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子２を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ７を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ８の作製＞
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が４００ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が５００ｎｍの複合粒子３を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子３を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ８を作製した。
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が４００ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が５００ｎｍの複合粒子３を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子３を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ８を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ９の作製＞
前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、ＫＦ－９９０８による表面修飾の代わりに、ＫＦ－９９０１による表面修飾を行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ９を作製した。
前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、ＫＦ－９９０８による表面修飾の代わりに、ＫＦ－９９０１による表面修飾を行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ９を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１０の作製＞
前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、ＫＦ－９９０８による表面修飾の代わりに、ＫＦ－５７８による表面修飾を行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１０を作製した。
前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、ＫＦ－９９０８による表面修飾の代わりに、ＫＦ－５７８による表面修飾を行った以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１０を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１１の作製＞
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、酸化スズ（ＳｎＯ２、数平均一次粒径４９ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１１を作製した。
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、酸化スズ（ＳｎＯ２、数平均一次粒径４９ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１１を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１２の作製＞
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が４０５ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が５０１ｎｍの複合粒子４を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子４を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１２を作製した。
前記複合粒子１の作製において、数平均一次粒径が８０ｎｍである硫酸バリウム芯材の代わりに、数平均一次粒径が４０５ｎｍである硫酸バリウム芯材を用いた以外は同様にして数平均一次粒径が５０１ｎｍの複合粒子４を作製した。そして、前記表面修金属酸化物粒子Ｐ５の作製において、前記複合粒子１の代わりに、前記複合粒子４を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１２を作製した。
＜表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１３の作製＞
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、数平均一次粒径１００ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１３を作製した。
前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ４の作製において、前記α－アルミナ粒子の代わりに、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、数平均一次粒径１００ｎｍ）を用いた以外は同様にして表面修飾金属酸化物粒子Ｐ１３を作製した。
前記で用いた表面修飾剤は下記のとおりである。
ＫＦ－９９０８：主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
ＫＦ－９９０１：下記式で表される、主鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
ＫＦ－５７８：側鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
ＫＦ－９９０８：主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
ＫＦ－９９０１：下記式で表される、主鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
ＫＦ－５７８：側鎖にシリコーン鎖を有するシリコーン表面修飾剤（信越化学工業社製）
［感光体の作製］
＜感光体１の作製＞
（導電性支持体の準備）
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、導電性支持体を準備した。
＜感光体１の作製＞
（導電性支持体の準備）
円筒形アルミニウム支持体の表面を切削加工し、導電性支持体を準備した。
（中間層の形成）
下記成分を下記の分量で混合し、分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式で１０時間の分散を行い、中間層形成用塗布液を調製した。当該塗布液を浸漬塗布法によって導電性支持体の表面に塗布し、１１０℃で２０分間乾燥し、膜厚２μｍの中間層を導電性支持体上に形成した。なお、ポリアミド樹脂としてＸ１０１０（ダイセル・エボニック株式会社製）を使用し、酸化チタン粒子としてＳＭＴ－５００ＳＡＳ（テイカ株式会社製、数平均一次粒径：０．０３５μｍ）を使用した。
ポリアミド樹脂 １０質量部
酸化チタン粒子 １１質量部
エタノール ２００質量部
下記成分を下記の分量で混合し、分散機としてサンドミルを用いて、バッチ式で１０時間の分散を行い、中間層形成用塗布液を調製した。当該塗布液を浸漬塗布法によって導電性支持体の表面に塗布し、１１０℃で２０分間乾燥し、膜厚２μｍの中間層を導電性支持体上に形成した。なお、ポリアミド樹脂としてＸ１０１０（ダイセル・エボニック株式会社製）を使用し、酸化チタン粒子としてＳＭＴ－５００ＳＡＳ（テイカ株式会社製、数平均一次粒径：０．０３５μｍ）を使用した。
ポリアミド樹脂 １０質量部
酸化チタン粒子 １１質量部
エタノール ２００質量部
（電荷発生層の形成）
下記成分を下記分量で混合し、循環式超音波ホモジナイザー（ＲＵＳ－６００ＴＣＶＰ、株式会社日本精機製作所製）を用いて、１９．５ｋＨｚ、６００Ｗにて循環流量４０Ｌ／時間で０．５時間にわたって分散することにより、電荷発生層形成用塗布液を調製した。得られた塗布液を浸漬塗布法によって中間層の表面に塗布し、風乾することにより、膜厚０．３μｍの電荷発生層を中間層上に形成した。
なお、電荷発生物質は、Ｃｕ－Ｋα特性Ｘ線回折スペクトル測定で８．３°、２４．７°、２５．１°、及び２６．５°に明確なピークを有するチタニルフタロシアニン、及び（２Ｒ，３Ｒ）－２，３－ブタンジオールの１：１付加体と、未付加のチタニルフタロシアニンとの混晶を使用した。また、ポリビニルブチラール樹脂としてエスレック（登録商標）ＢＬ－１（積水化学工業株式会社製）を使用した。また、混合溶媒として、３－メチル－２－ブタノン／シクロヘキサノン＝４／１（体積比）を使用した。
電荷発生物質 ２４質量部
ポリビニルブチラール樹脂 １２質量部
混合溶媒 ４００質量部
下記成分を下記分量で混合し、循環式超音波ホモジナイザー（ＲＵＳ－６００ＴＣＶＰ、株式会社日本精機製作所製）を用いて、１９．５ｋＨｚ、６００Ｗにて循環流量４０Ｌ／時間で０．５時間にわたって分散することにより、電荷発生層形成用塗布液を調製した。得られた塗布液を浸漬塗布法によって中間層の表面に塗布し、風乾することにより、膜厚０．３μｍの電荷発生層を中間層上に形成した。
なお、電荷発生物質は、Ｃｕ－Ｋα特性Ｘ線回折スペクトル測定で８．３°、２４．７°、２５．１°、及び２６．５°に明確なピークを有するチタニルフタロシアニン、及び（２Ｒ，３Ｒ）－２，３－ブタンジオールの１：１付加体と、未付加のチタニルフタロシアニンとの混晶を使用した。また、ポリビニルブチラール樹脂としてエスレック（登録商標）ＢＬ－１（積水化学工業株式会社製）を使用した。また、混合溶媒として、３－メチル－２－ブタノン／シクロヘキサノン＝４／１（体積比）を使用した。
電荷発生物質 ２４質量部
ポリビニルブチラール樹脂 １２質量部
混合溶媒 ４００質量部
（電荷輸送層の形成）
下記成分を下記分量で混合した電荷輸送層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷発生層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの電荷輸送層を電荷発生層上に形成した。
電荷輸送物質（下記ＣＴＭ－Ａ：４，４′－ジメチル－４″－（α－フェニルスチリル）トリフェニルアミン） ６０質量部
ポリカーボネート樹脂（ユーピロン（登録商標）Ｚ３００（三菱ガス化学株式会社製、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート） １００質量部
酸化防止剤（ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
４質量部
下記成分を下記分量で混合した電荷輸送層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷発生層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの電荷輸送層を電荷発生層上に形成した。
電荷輸送物質（下記ＣＴＭ－Ａ：４，４′－ジメチル－４″－（α－フェニルスチリル）トリフェニルアミン） ６０質量部
ポリカーボネート樹脂（ユーピロン（登録商標）Ｚ３００（三菱ガス化学株式会社製、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート） １００質量部
酸化防止剤（ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
４質量部
（保護層の形成）
下記成分を下記分量で混合、分散した保護層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷輸送層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの保護層を電荷輸送層上に形成し、感光体１を作製した。
金属酸化物粒子Ｐ１（α－アルミナ（粒径３００ｎｍ、比抵抗１０１０Ω・ｃｍ以上、ｐＨ８～９、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）） ６０質量部
電荷輸送物質（ＣＴＭ－Ａ） １５０質量部
ポリカーボネート（Ｚ３００：三菱ガス化学社製） ３００質量部
酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０：日本チバガイギー社製）１２質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） ２８００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ－５４：信越化学社製） ４質量部
酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５：ＢＹＫケミー社製） １質量部
下記成分を下記分量で混合、分散した保護層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷輸送層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの保護層を電荷輸送層上に形成し、感光体１を作製した。
金属酸化物粒子Ｐ１（α－アルミナ（粒径３００ｎｍ、比抵抗１０１０Ω・ｃｍ以上、ｐＨ８～９、スミコランダムＡＡ－０３：住友化学工業社製）） ６０質量部
電荷輸送物質（ＣＴＭ－Ａ） １５０質量部
ポリカーボネート（Ｚ３００：三菱ガス化学社製） ３００質量部
酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０：日本チバガイギー社製）１２質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） ２８００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ－５４：信越化学社製） ４質量部
酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５：ＢＹＫケミー社製） １質量部
＜感光体２の作製＞
前記感光体１の作製において、保護層を以下のとおりに変更した以外は同様にして感光体２を作製した。すなわち、以下では、重合性モノマーＭ２を光によって硬化した。
前記感光体１の作製において、保護層を以下のとおりに変更した以外は同様にして感光体２を作製した。すなわち、以下では、重合性モノマーＭ２を光によって硬化した。
（保護層の形成）
下記成分を下記分量で混合した保護層形成用塗布液を、電荷輸送層の表面に、円形スライドホッパー塗布機を用いて塗布した。得られた塗布液の膜に、メタルハライドランプを用いて紫外線（主波長：３６５ｎｍ）を１分間照射して（紫外線照度：１６ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：９６０ｍＪ／ｃｍ２）、当該膜を硬化させることにより、膜厚３．０μｍの保護層を電荷輸送層上に形成した。これにより、感光体２を作製した。
重合性モノマーＭ２ １２０質量部
表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２（α－アルミナをＫＢＭ－５０３で表面修飾した粒子）
１００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
１０質量部
２－ブタノール ４００質量部
酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５：ＢＹＫケミー社製） １質量部
下記成分を下記分量で混合した保護層形成用塗布液を、電荷輸送層の表面に、円形スライドホッパー塗布機を用いて塗布した。得られた塗布液の膜に、メタルハライドランプを用いて紫外線（主波長：３６５ｎｍ）を１分間照射して（紫外線照度：１６ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：９６０ｍＪ／ｃｍ２）、当該膜を硬化させることにより、膜厚３．０μｍの保護層を電荷輸送層上に形成した。これにより、感光体２を作製した。
重合性モノマーＭ２ １２０質量部
表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２（α－アルミナをＫＢＭ－５０３で表面修飾した粒子）
１００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９：ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
１０質量部
２－ブタノール ４００質量部
酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５：ＢＹＫケミー社製） １質量部
＜感光体３の作製＞
前記感光体２の作製の前記保護層形成用塗布液において、酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５）を添加しないで、かつ、前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２の代わりに、前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３を用いた以外は同様にして感光体３を作製した。
前記感光体２の作製の前記保護層形成用塗布液において、酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５）を添加しないで、かつ、前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ２の代わりに、前記表面修飾金属酸化物粒子Ｐ３を用いた以外は同様にして感光体３を作製した。
＜感光体４～８及び１０～１４の作製＞
前記感光体１の作製の前記保護層形成用塗布液において、酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５）を添加しないで、かつ、前記金属酸化物粒子Ｐ１の代わりに、下記表に示す各表面修飾金属酸化物粒子を用いた以外は同様にして感光体４～８及び１０～１４を作製した。
前記感光体１の作製の前記保護層形成用塗布液において、酸性分散剤（ＢＹＫ－Ｐ１０５）を添加しないで、かつ、前記金属酸化物粒子Ｐ１の代わりに、下記表に示す各表面修飾金属酸化物粒子を用いた以外は同様にして感光体４～８及び１０～１４を作製した。
＜感光体９の作製＞
前記感光体１の作製において、保護層を以下のとおりに変更した以外は同様にして感光体９を作製した。
前記感光体１の作製において、保護層を以下のとおりに変更した以外は同様にして感光体９を作製した。
（保護層の形成）
下記成分を下記分量で混合、分散した電荷輸送層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷発生層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの保護層を電荷輸送層上に形成し、感光体９を作製した。
表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５ ６０質量部
電荷輸送物質（ＣＴＭ－Ａ） １５０質量部
ポリアリレート（Ｍ－２０４０ ユニチカ社製） ３００質量部
酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０：日本チバガイギー社製）１２質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） ２８００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ－５４：信越化学社製） ４質量部
下記成分を下記分量で混合、分散した電荷輸送層用の塗布液を、浸漬塗布法によって電荷発生層の表面に塗布し、１２０℃で７０分間乾燥することにより、膜厚２４μｍの保護層を電荷輸送層上に形成し、感光体９を作製した。
表面修飾金属酸化物粒子Ｐ５ ６０質量部
電荷輸送物質（ＣＴＭ－Ａ） １５０質量部
ポリアリレート（Ｍ－２０４０ ユニチカ社製） ３００質量部
酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０：日本チバガイギー社製）１２質量部
ＴＨＦ（テトラヒドロフラン） ２８００質量部
シリコーンオイル（ＫＦ－５４：信越化学社製） ４質量部
［滑剤棒１の製造］
ステアリン酸亜鉛９０質量部と、窒化ホウ素９質量部と、シリコーン表面修飾した平均粒径０．３μｍのアルミナ粒子１質量部を、１５０℃で撹拌しながら溶融し、１５０℃で予熱した、幅１０ｍｍ×深さ９ｍｍ×長さ５００ｍｍのキャビティを有するアルミニウム製金型のキャビティ内に、溶融液を注入した。注入後、予熱した断熱蓋を金型上部に設置した。次いで、金型を室温の条件下に置き、金型温度が５０℃になるまで放冷した。２時間後、固化した成形品を金型から取り出し、当該成形品を滑剤棒１とした。
ステアリン酸亜鉛９０質量部と、窒化ホウ素９質量部と、シリコーン表面修飾した平均粒径０．３μｍのアルミナ粒子１質量部を、１５０℃で撹拌しながら溶融し、１５０℃で予熱した、幅１０ｍｍ×深さ９ｍｍ×長さ５００ｍｍのキャビティを有するアルミニウム製金型のキャビティ内に、溶融液を注入した。注入後、予熱した断熱蓋を金型上部に設置した。次いで、金型を室温の条件下に置き、金型温度が５０℃になるまで放冷した。２時間後、固化した成形品を金型から取り出し、当該成形品を滑剤棒１とした。
［滑剤棒２の製造］
ステアリン酸亜鉛９０質量部を、１５０℃で撹拌しながら溶融し、１５０℃で予熱した、幅１０ｍｍ×深さ９ｍｍ×長さ５００ｍｍのキャビティを有するアルミニウム製金型のキャビティ内に、溶融液を注入した。注入後、予熱した断熱蓋を金型上部に設置した。次いで、金型を室温の条件下に置き、金型温度が５０℃になるまで放冷した。２時間後、固化した成形品を金型から取り出し、当該成形品を滑剤棒２とした。
ステアリン酸亜鉛９０質量部を、１５０℃で撹拌しながら溶融し、１５０℃で予熱した、幅１０ｍｍ×深さ９ｍｍ×長さ５００ｍｍのキャビティを有するアルミニウム製金型のキャビティ内に、溶融液を注入した。注入後、予熱した断熱蓋を金型上部に設置した。次いで、金型を室温の条件下に置き、金型温度が５０℃になるまで放冷した。２時間後、固化した成形品を金型から取り出し、当該成形品を滑剤棒２とした。
［滑剤棒３の製造］
前記滑剤棒１の製造において、ステアリン酸亜鉛の代わりにステアリン酸カルシウムを用いた以外は同様にして、滑剤棒３を製造した。
前記滑剤棒１の製造において、ステアリン酸亜鉛の代わりにステアリン酸カルシウムを用いた以外は同様にして、滑剤棒３を製造した。
［評価］
評価機は、ｂｉｚｈｕｂ Ｃ６５８（コニカミノルタ社製）を改造し、図５に示すように、感光体に滑剤棒を接触させることで滑剤を供給できるように改造したマシンで実験を行った。具体的には、下記表に示す感光体及び滑剤棒の組み合わせで、画像を形成した。
評価機は、ｂｉｚｈｕｂ Ｃ６５８（コニカミノルタ社製）を改造し、図５に示すように、感光体に滑剤棒を接触させることで滑剤を供給できるように改造したマシンで実験を行った。具体的には、下記表に示す感光体及び滑剤棒の組み合わせで、画像を形成した。
［フィルミング］
評価機は前記ｂｉｚｈｕｂ Ｃ６５８（コニカミノルタ社製）を改造したマシンを用い、３０℃、８０％ＲＨ（ＮＮ環境）でＢｋ位置に評価感光体を搭載し、５％の印字チャートにて５０００枚プリントの耐久試験を実施した。
耐久試験後、顕微鏡で感光体表面を観察し、２０ｍｍ×４０ｍｍの視野における現像剤由来の付着物の個数を測定した。測定した結果、下記の基準で評価し、Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
（基準）
Ｒ５：付着物１個以下
Ｒ４：付着物が５個未満
Ｒ３：付着物が５個以上～１１個未満
Ｒ２：付着物が１１個以上３０個未満
Ｒ１： 付着物が３０個以上
評価機は前記ｂｉｚｈｕｂ Ｃ６５８（コニカミノルタ社製）を改造したマシンを用い、３０℃、８０％ＲＨ（ＮＮ環境）でＢｋ位置に評価感光体を搭載し、５％の印字チャートにて５０００枚プリントの耐久試験を実施した。
耐久試験後、顕微鏡で感光体表面を観察し、２０ｍｍ×４０ｍｍの視野における現像剤由来の付着物の個数を測定した。測定した結果、下記の基準で評価し、Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
（基準）
Ｒ５：付着物１個以下
Ｒ４：付着物が５個未満
Ｒ３：付着物が５個以上～１１個未満
Ｒ２：付着物が１１個以上３０個未満
Ｒ１： 付着物が３０個以上
［像流れ］
高温高湿環境（温度３０℃、湿度８５％ＲＨ）で、印字率５％相当の文字チャートを２０００枚連続で印字した後に電源を切り、８時間放置した後に電源を入れ、Ａ３ハーフトーン画像を２０枚連続で印字した。像流れは、ハーフトーン画像が放置前のレベルに回復したときの枚数によって評価した。
１枚目以内に回復した場合を「Ｒ５」、３枚目以内に回復した場合を「Ｒ４」、７枚目以内に回復した場合を「Ｒ３」、２０枚目以内に回復した場合を「Ｒ２」、２１枚目以降に回復した場合を「Ｒ１」と評価した。なお、７枚目を基準としているのは、通常装置を立ち上げたときに実施される画像安定化での感光体の回転数がＡ３用紙７枚目印字相当であるため、７枚目以内であれば１枚目の印字から像流れによる画像劣化は発現しないと考えられるからである。Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
高温高湿環境（温度３０℃、湿度８５％ＲＨ）で、印字率５％相当の文字チャートを２０００枚連続で印字した後に電源を切り、８時間放置した後に電源を入れ、Ａ３ハーフトーン画像を２０枚連続で印字した。像流れは、ハーフトーン画像が放置前のレベルに回復したときの枚数によって評価した。
１枚目以内に回復した場合を「Ｒ５」、３枚目以内に回復した場合を「Ｒ４」、７枚目以内に回復した場合を「Ｒ３」、２０枚目以内に回復した場合を「Ｒ２」、２１枚目以降に回復した場合を「Ｒ１」と評価した。なお、７枚目を基準としているのは、通常装置を立ち上げたときに実施される画像安定化での感光体の回転数がＡ３用紙７枚目印字相当であるため、７枚目以内であれば１枚目の印字から像流れによる画像劣化は発現しないと考えられるからである。Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
［滑剤メモリ］
高温高湿環境（温度３０℃、湿度８５％ＲＨ）において、画像部Ａと非画像部Ｂとを有するパターン画像を連続して１００枚出力した後、全面ハーフトーン画像を１枚出力した。このハーフトーン画像について、「Ｍａｃｂｅｔｈ ＲＤ９２０」（マクベス社製）を用いて画像部Ａに対応する部分の反射濃度（Ｄ１）及び非画像部Ｂに対応する部分の反射濃度（Ｄ０）をそれぞれ測定してその濃度差ΔＤ（Ｄ１－Ｄ０）を算出し、これによって画像濃度ムラの発生度合いを評価した。下記の基準で評価し、Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
（基準）
Ｒ５：０．１未満
Ｒ４：０．１以上０．２未満
Ｒ３：０．２以上０．３未満
Ｒ２：０．３以上０．５未満
Ｒ１：０．５以上
高温高湿環境（温度３０℃、湿度８５％ＲＨ）において、画像部Ａと非画像部Ｂとを有するパターン画像を連続して１００枚出力した後、全面ハーフトーン画像を１枚出力した。このハーフトーン画像について、「Ｍａｃｂｅｔｈ ＲＤ９２０」（マクベス社製）を用いて画像部Ａに対応する部分の反射濃度（Ｄ１）及び非画像部Ｂに対応する部分の反射濃度（Ｄ０）をそれぞれ測定してその濃度差ΔＤ（Ｄ１－Ｄ０）を算出し、これによって画像濃度ムラの発生度合いを評価した。下記の基準で評価し、Ｒ５～Ｒ３を品質上問題ないと判断した。
（基準）
Ｒ５：０．１未満
Ｒ４：０．１以上０．２未満
Ｒ３：０．２以上０．３未満
Ｒ２：０．３以上０．５未満
Ｒ１：０．５以上
表Ｉに示す結果より、本発明では、比較例に比べて、フィルミング特性、像流れ及び滑剤メモリ特性の点で良好であることが分かる。
１１ 帯電ローラー
１１ａ 芯金
１１ｂ 弾性層
１１ｃ 抵抗制御層
１１ｄ 表面層
１１ｅ 押圧バネ
２０ 筐体
２１ ブラシローラー
２２ 滑剤ストック
２３ 加圧バネ
３０ ブレード部材
３１ 支持部材
４１ 母液槽
４１ａ 撹拌翼
４１ｂ、４３ｂ シャフト
４１ｃ、４３ｃ モーター
４２、４４ 循環配管
４３ 強分散装置
４３ａ 撹拌部
４５、４６ ポンプ
１００ 画像形成装置
１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋ 画像形成ユニット
１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ 感光体
１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋ 帯電手段
１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋ 滑剤除去手段
１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋ 露光手段
１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋ 滑剤供給手段
１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋ 現像手段
１１８Ｙ 均しブレード
１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋ クリーニング手段
１３１ 中間転写体
１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋ 一次転写ローラー（転写手段）
１３５ クリーニング手段
１３７Ａ、１３７Ｂ、１３７Ｃ、１３７Ｄ ローラー
１５０ 給紙搬送手段
１７０ 定着手段
２００ プロセスカートリッジ
２０１ 筐体
２０３Ｒ、２０３Ｌ 支持レール
２１１ 給紙カセット
２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ 中間ローラー
２１５ レジストローラー
２１７ 二次転写ローラー（転写手段）
２１９ 排紙ローラー
２２１ 排紙トレイ
Ｃ１ 原稿濃度が濃い部分
Ｃ２ 原稿濃度が薄い部分
３０１ 保護層
３０２ 表面修飾した無機微粒子
３０３ ステアリン酸亜鉛
３０４ 窒化ホウ素
Ａ 滑剤存在比率Ａを測定した部分
Ｂ 滑剤存在比率Ｂを測定した部分
Ｐ 転写材
ＳＣ 原稿画像読み取り装置
Ｓ１ 電源
Ｓ２ 流速
Ｓ３ 供給速度
１１ａ 芯金
１１ｂ 弾性層
１１ｃ 抵抗制御層
１１ｄ 表面層
１１ｅ 押圧バネ
２０ 筐体
２１ ブラシローラー
２２ 滑剤ストック
２３ 加圧バネ
３０ ブレード部材
３１ 支持部材
４１ 母液槽
４１ａ 撹拌翼
４１ｂ、４３ｂ シャフト
４１ｃ、４３ｃ モーター
４２、４４ 循環配管
４３ 強分散装置
４３ａ 撹拌部
４５、４６ ポンプ
１００ 画像形成装置
１１０Ｙ、１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋ 画像形成ユニット
１１１Ｙ、１１１Ｍ、１１１Ｃ、１１１Ｂｋ 感光体
１１３Ｙ、１１３Ｍ、１１３Ｃ、１１３Ｂｋ 帯電手段
１１４Ｙ、１１４Ｍ、１１４Ｃ、１１４Ｂｋ 滑剤除去手段
１１５Ｙ、１１５Ｍ、１１５Ｃ、１１５Ｂｋ 露光手段
１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ、１１６Ｂｋ 滑剤供給手段
１１７Ｙ、１１７Ｍ、１１７Ｃ、１１７Ｂｋ 現像手段
１１８Ｙ 均しブレード
１１９Ｙ、１１９Ｍ、１１９Ｃ、１１９Ｂｋ クリーニング手段
１３１ 中間転写体
１３３Ｙ、１３３Ｍ、１３３Ｃ、１３３Ｂｋ 一次転写ローラー（転写手段）
１３５ クリーニング手段
１３７Ａ、１３７Ｂ、１３７Ｃ、１３７Ｄ ローラー
１５０ 給紙搬送手段
１７０ 定着手段
２００ プロセスカートリッジ
２０１ 筐体
２０３Ｒ、２０３Ｌ 支持レール
２１１ 給紙カセット
２１３Ａ、２１３Ｂ、２１３Ｃ、２１３Ｄ 中間ローラー
２１５ レジストローラー
２１７ 二次転写ローラー（転写手段）
２１９ 排紙ローラー
２２１ 排紙トレイ
Ｃ１ 原稿濃度が濃い部分
Ｃ２ 原稿濃度が薄い部分
３０１ 保護層
３０２ 表面修飾した無機微粒子
３０３ ステアリン酸亜鉛
３０４ 窒化ホウ素
Ａ 滑剤存在比率Ａを測定した部分
Ｂ 滑剤存在比率Ｂを測定した部分
Ｐ 転写材
ＳＣ 原稿画像読み取り装置
Ｓ１ 電源
Ｓ２ 流速
Ｓ３ 供給速度
Claims (3)
- 少なくとも電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を具備した電子写真画像形成装置であって、
前記電子写真感光体に、疎水性有機化合物と、窒化ホウ素と、表面修飾した無機微粒子とを含有した滑剤とを供給する手段を備え、
前記電子写真感光体が、導電性支持体と、前記導電性支持体上に少なくとも保護層と感光層を有し、
当該電子写真感光体の保護層が、少なくとも電荷輸送物質と、熱可塑性樹脂と、表面修飾剤によって表面修飾した無機微粒子を含有し、
前記滑剤が、シリコーンで表面修飾されたアルミナ粒子を含有し、
前記保護層に含有された前記無機微粒子が、アルミナ粒子、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、二酸化ケイ素粒子、又は、硫酸バリウムをコアとし酸化スズのシェルを有する粒子のいずれかであり、
前記保護層に含有された前記無機微粒子に使用された表面修飾剤が、主鎖及び側鎖にシリコーン鎖を有することを特徴とする電子写真画像形成装置。 - 前記保護層に含有された前記無機微粒子の数平均一次粒径が、５０～５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真画像形成装置。
- 前記滑剤に含有された疎水性有機化合物が、ステアリン酸亜鉛であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子写真画像形成装置。
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