JP7312120B2 - Ｎ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、医農薬及び機能性材料の製造中間体として有用なＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類及びその製造方法に関する。
Ｎ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類は医農薬、イオン液体等の機能性材料及びそれらの製造中間体として有用である（特許文献１、非特許文献１）。Ｎ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類の従来の製造方法としては、イミダゾール類を塩基存在下、ジブロモジフルオロメタンと反応させてＮ－（ブロモジフルオロメチル）イミダゾール類を得た後に、フッ素アニオンでトリフルオロメチル基に変換して合成する方法が開示されている（非特許文献１）。しかしながら、ジブロモジフルオロメタンは高い毒性を有し、またオゾン層破壊物質に指定されているため、工業的な製造原料に用いることは不向きであった。
また、イミダゾール類を塩基存在下、ジフルオロジヨードメタンと反応させてＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類を得た後に、フッ素アニオンを作用させてでジフルオロヨードメチル基をトリフルオロメチル基に変換してＮ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類を合成する方法が開示されている（非特許文献２）。Ｎ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類はＮ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類の合成前駆体として有用であるものの、上記製造方法は、高価なジフルオロジヨードメタンを使用する必要があり、工業的な製造方法には不向きであった。
トリフルオロヨードメタンはオゾン層破壊能の低いフロンガスであり、消火剤や半導体の洗浄剤として用いられている安全、安価な化合物である。これまでに、イミダゾール類とトリフルオロヨードメタンを反応させて、Ｎ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類の合成前駆体であるＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類を製造する方法は全く報告されていない。
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，４５巻，４３０－４３５頁，２００９年。
Ｃｈｉｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２１巻，１３４９－１３５５頁，２００３年。
医農薬及び機能性材料として有用なＮ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類の従来の製造方法は、安全性の低い試薬を用いるため、工業的には不向きな製造方法であった。本発明の課題は、Ｎ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類の製造中間体として有用なＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類及びその製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を鑑み鋭意検討を重ねた結果、イミダゾール類を塩基存在下、トリフルオロヨードメタンと反応させることにより、Ｎ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類を簡便に製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、一般式（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、各々独立に水素原子；炭素数１から６のアルキル基；炭素数１から６のフルオロアルキル基；炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のフルオロアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６から１２の芳香族炭化水素基を表す。ただし、Ｒ２及びＲ３が水素原子の場合、Ｒ１は水素原子及びメチル基ではない。）で表されるＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類に関する。
また、本発明は、一般式（２）
（式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、各々独立に水素原子；炭素数１から６のアルキル基；炭素数１から６のフルオロアルキル基；炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のフルオロアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６から１２の芳香族炭化水素基を表す。）で表されるイミダゾール類を、塩基存在下、トリフルオロヨードメタンと反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）
（式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、前記と同じ意味を表す。）で表されるＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類及び、一般式（１ｂ）
（式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、前記と同じ意味を表す。）で表されるＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類の製造方法に関するものである。
本発明により、医農薬及び機能性材料の製造中間体として有用なＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類を簡便に製造することができる。得られたＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類はＮ－（トリフルオロメチル）イミダゾール類やイオン性液体であるＮ－（トリフルオロメチル）イミダゾリニウム塩へと変換できる。
以下に、本発明をさらに詳細に説明する。本明細書におけるＲ１、Ｒ２及びＲ３の定義について説明する。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１から６のアルキル基としては、直鎖状、環状又は分岐状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロブチル基、シクロプロピルメチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等を例示することができる。合成が容易な点で、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基であることが好ましい。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１から６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等を例示することができる。合成が容易な点で、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３で表される炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のフルオロアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６から１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、４－ビフェニリル基、ｐ－トリル基、ｍ－トリル基、ｏ－トリル基、メシチル基、４－（トリフルオロメチル）フェニル基、３－（トリフルオロメチル）フェニル基、２－（トリフルオロメチル）フェニル基、４’－（トリフルオロメチル）－４－ビフェニリル基、４－フルオロフェニル基、４－クロロフェニル基、４－ブロモフェニル基、４－ヨードフェニル基、２，３－ジフルオロフェニル基、２，４－ジフルオロフェニル基、３，４－ジフルオロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基等を例示することができる。合成が容易な点で、フェニル基であることが好ましい。
本発明のＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１）としては、特に限定するものではないが、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－エチルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－プロピルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－イソプロピルイミダゾール、２－ブチル－１－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－フェニルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－（４－フルオロフェニル）イミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－４－（４－フルオロフェニル）イミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－（４－ブロモフェニル）イミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－４－（４－ブロモフェニル）イミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－４，５－ジメチルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－２，４，５－トリメチルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－４，５－ジフェニルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－２，４，５－トリフェニルイミダゾール等を例示することができる。中でも合成が容易な点で、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－エチルイミダゾール、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール又は１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールが好ましい。
次に、本発明の製造方法について詳しく述べる。本発明のＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１）の製造方法は、下記スキームに示す通りである。
（式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、前記と同じ意味を表す。）
本発明の製造方法におけるＲ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａの定義について説明する。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａで表される炭素数１から６のアルキル基としては、直鎖状、環状又は分岐状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロブチル基、シクロプロピルメチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等を例示することができる。収率が良い点で、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基であることが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａで表される炭素数１から６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基等を例示することができる。収率が良い点で、トリフルオロメチル基であることが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａで表される炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のフルオロアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６から１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、４－ビフェニリル基、ｐ－トリル基、ｍ－トリル基、ｏ－トリル基、メシチル基、４－（トリフルオロメチル）フェニル基、３－（トリフルオロメチル）フェニル基、２－（トリフルオロメチル）フェニル基、４’－（トリフルオロメチル）－４－ビフェニリル基、４－フルオロフェニル基、４－クロロフェニル基、４－ブロモフェニル基、４－ヨードフェニル基、２，３－ジフルオロフェニル基、２，４－ジフルオロフェニル基、３，４－ジフルオロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基等を例示することができる。収率が良い点で、フェニル基であることが好ましい。
本発明の製造方法は、イミダゾール類（２）を塩基存在下にトリフルオロヨードメタンと反応させて、Ｎ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ａ）とＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ｂ）の混合物を製造する方法である。Ｒ２ａ及びＲ３ａが同一の場合、Ｎ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ｂ）はＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ａ）と同一であり、単一の生成物を与える製造方法となる。
本発明の製造方法の原料であるイミダゾール類（２）は、市販のイミダゾール類を用いることもできるし、一般的なイミダゾール類の合成方法（例えば、Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２７巻，２４１－３２６頁，１９８０年）に従って調製することもできる。
本発明の製造方法の原料であるトリフルオロヨードメタンは市販されている。
本発明の製造方法では、塩基を用いることが必須である。用いることのできる塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物、メチルリチウム、ブチルリチウム、フェニルリチウム等のアルキル又はアリールリチウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウム２，２，６，６－テトラメチルピペラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド等の金属アミド類を例示することができる。収率が良い点で、リチウムヘキサメチルジシラジドを用いることが好ましい。
本発明の製造方法に用いることのできる溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば良く、具体的には、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４－ジオキサン、１，２－ジメトキシエタン、ジグリム等のエーテル類、ヘキサン、ペンタン、へプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができ、適宜これらを組み合わせて用いても良い。収率が良い点で、テトラヒドロフランを用いることが好ましい。
本発明の製造方法において、用いる試薬の添加する順序は特に限定はないが、イミダゾール類（２）と塩基を反応させた後に、トリフルオロヨードメタンを加えることが好ましい。
イミダゾール類（２）と塩基とのモル比は、１：１から１：５が好ましく、収率が良い点で１：１から１：２がさらに好ましい。
イミダゾール類（２）とトリフルオロヨードメタンとのモル比は、特に限定はないが、１：１から１：２０が好ましい。
反応温度は、－１１０℃から１００℃までの範囲で適宜選ばれた温度で行うことができる。収率が良い点で－７８℃から室温の範囲が好ましい。
反応後の溶液からＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ａ）とＮ－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾール類（１ｂ）の混合物を単離する方法に特に限定はないが、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、分取薄層クロマトグラフィー、分取液体クロマトグラフィー、再結晶または昇華等の汎用的な方法で目的物を得ることができる。
次に本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例－１
アルゴン雰囲気下、４－フェニルイミダゾール（５０ｍｇ，３５０μｍｏｌ）と内部標準物質であるドデカン（１５μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液に、リチウムヘキサメチルジシラザン（１．０Ｍ ＴＨＦ溶液，５２０μＬ，５２０μｍｏｌ）を滴下した後、室温で１時間攪拌した。反応雰囲気をトリフルオロヨードメタン（８００ｍｇ，４．１ｍｍｏｌ）で置換した後、更に室温で１時間攪拌した。反応溶液に酢酸（５００μＬ）を加え、減圧下濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し（ＡｃＯＥｔ：Ｈｅｘａｎｅ＝１：４９）、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物（４４ｍｇ，１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール：１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾール＝６８：３２，収率４０％）を褐色固体として得た。１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．８７（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｍ，５Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１７．２。１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾール：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．０３（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｍ，１Ｈ），７．４２（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｍ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１９．７。
アルゴン雰囲気下、４－フェニルイミダゾール（５０ｍｇ，３５０μｍｏｌ）と内部標準物質であるドデカン（１５μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液に、リチウムヘキサメチルジシラザン（１．０Ｍ ＴＨＦ溶液，５２０μＬ，５２０μｍｏｌ）を滴下した後、室温で１時間攪拌した。反応雰囲気をトリフルオロヨードメタン（８００ｍｇ，４．１ｍｍｏｌ）で置換した後、更に室温で１時間攪拌した。反応溶液に酢酸（５００μＬ）を加え、減圧下濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し（ＡｃＯＥｔ：Ｈｅｘａｎｅ＝１：４９）、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物（４４ｍｇ，１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール：１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾール＝６８：３２，収率４０％）を褐色固体として得た。１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾール：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．８７（ｓ，１Ｈ），７．３８（ｍ，５Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１７．２。１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾール：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．０３（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｍ，２Ｈ），７．４８（ｍ，１Ｈ），７．４２（ｍ，２Ｈ），７．３４（ｍ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１９．７。
実施例－２
リチウムヘキサメチルジシラザンの代わりにナトリウムヘキサメチルジシラザンを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物を４０％（ＧＣ収率）で得た。
リチウムヘキサメチルジシラザンの代わりにナトリウムヘキサメチルジシラザンを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物を４０％（ＧＣ収率）で得た。
実施例－３
リチウムヘキサメチルジシラザンの代わりに水素化ナトリウムを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物を１２％（ＧＣ収率）で得た。
リチウムヘキサメチルジシラザンの代わりに水素化ナトリウムを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物を１２％（ＧＣ収率）で得た。
実施例－４
４－フェニルイミダゾールの代わりにイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾールを５０％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．８０（ｓ，１Ｈ），７．１５（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．９３；ＭＳ（ＥＩ）：２４４［Ｍ］＋。
４－フェニルイミダゾールの代わりにイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）イミダゾールを５０％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．８０（ｓ，１Ｈ），７．１５（ｓ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．９３；ＭＳ（ＥＩ）：２４４［Ｍ］＋。
実施例－５
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－メチルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－メチルイミダゾールを８５％（ＧＣ収率）で得た。１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１９．４；ＭＳ（ＥＩ）：２５８［Ｍ］＋。
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－メチルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－メチルイミダゾールを８５％（ＧＣ収率）で得た。１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－１９．４；ＭＳ（ＥＩ）：２５８［Ｍ］＋。
実施例－６
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－エチルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－エチルイミダゾールを４０％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．０４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８４（ｂｒｓ，１Ｈ），２．７２（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｍ，３Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．５；ＭＳ（ＥＩ）：２７２［Ｍ］＋。
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－エチルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－エチルイミダゾールを４０％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．０４（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８４（ｂｒｓ，１Ｈ），２．７２（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｍ，３Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．５；ＭＳ（ＥＩ）：２７２［Ｍ］＋。
実施例－７
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－イソプロピルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－イソプロピルイミダゾールを３５％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：６．９７－７．００（ｍ，２Ｈ），３．０３（ｍ，１Ｈ），１．３２（ｍ，６Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．１；ＭＳ（ＥＩ）：２８６［Ｍ］＋。
４－フェニルイミダゾールの代わりに２－イソプロピルイミダゾールを用いた以外は実施例－１と同様の操作を行い、１－（ジフルオロヨードメチル）－２－イソプロピルイミダゾールを３５％（ＧＣ収率）で得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：６．９７－７．００（ｍ，２Ｈ），３．０３（ｍ，１Ｈ），１．３２（ｍ，６Ｈ）；１９Ｆ ＮＭＲ（３７７ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：－５．１；ＭＳ（ＥＩ）：２８６［Ｍ］＋。
参考例－１
実施例１で得られた１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物（３０ｍｇ，９３μｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、遮光した状態でＡｇＢＦ４（３８ｍｇ，１９０μｍｏｌ）を加えて、室温で１０分間攪拌した。ＧＣ－ＭＳより１－（トリフルオロメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（トリフルオロメチル）－４－フェニルイミダゾールの生成を確認した。 １－（トリフルオロメチル）－５－フェニルイミダゾール：ＭＳ（ＥＩ）：２１２［Ｍ］＋。 １－（トリフルオロメチル）－４－フェニルイミダゾール：ＭＳ（ＥＩ）：２１２［Ｍ］＋。
実施例１で得られた１－（ジフルオロヨードメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（ジフルオロヨードメチル）－４－フェニルイミダゾールの混合物（３０ｍｇ，９３μｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、遮光した状態でＡｇＢＦ４（３８ｍｇ，１９０μｍｏｌ）を加えて、室温で１０分間攪拌した。ＧＣ－ＭＳより１－（トリフルオロメチル）－５－フェニルイミダゾールと１－（トリフルオロメチル）－４－フェニルイミダゾールの生成を確認した。 １－（トリフルオロメチル）－５－フェニルイミダゾール：ＭＳ（ＥＩ）：２１２［Ｍ］＋。 １－（トリフルオロメチル）－４－フェニルイミダゾール：ＭＳ（ＥＩ）：２１２［Ｍ］＋。
Claims (3)
- 一般式（１）
- 一般式（２）
- 塩基が、リチウムヘキサメチルジシラジドである請求項２に記載の製造方法。
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| JP2021116227A (ja) | 2021-08-10 |
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