JP7310717B2 - 表面分析装置 - Google Patents
表面分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7310717B2 JP7310717B2 JP2020092131A JP2020092131A JP7310717B2 JP 7310717 B2 JP7310717 B2 JP 7310717B2 JP 2020092131 A JP2020092131 A JP 2020092131A JP 2020092131 A JP2020092131 A JP 2020092131A JP 7310717 B2 JP7310717 B2 JP 7310717B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- contact member
- sample
- link
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q30/00—Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
- G01Q30/20—Sample handling devices or methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q30/00—Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
x=r-y=r-r・cosθ=r・(1-cosθ)
の式により求められる。
以上のように、本実施形態は以下のような開示を含む。
試料表面を分析する表面分析装置であって、測定部と、試料を載置する試料台と、上記測定部と上記試料台とを相対的に変位させる移動機構とを備え、上記移動機構は、第1ブロック、上記試料台を保持する第2ブロック、ならびに上記第1ブロックおよび上記第2ブロックに軸支されるリンク部材を含むリンク機構と、上記第1ブロックを第1方向に往復移動させるスライド機構と、上記第2ブロックまたは上記リンク部材に当接して上記第2ブロックの第2方向の昇降移動をガイドする当接部材とを含み、上記リンク部材は、上記第1方向および上記第2方向に直交する第3方向の回動軸まわりに回動可能となるように上記第1ブロックおよび上記第2ブロックに軸支され、上記第1ブロックが上記当接部材側に移動するときに、上記第2ブロックまたは上記リンク部材が上記当接部材に最初に当接する第1の接触点において、上記当接部材の表面は、上記第1方向に対して0度より大きく90度より小さい角度で交差する斜め上方向の法線ベクトルを有する、表面分析装置。
上記法線ベクトルは、上記第1方向に対して45度以上90度より小さい角度で交差する、構成1に記載の表面分析装置。
試料表面を分析する表面分析装置であって、測定部と、試料を載置する試料台と、上記測定部と上記試料台とを相対的に変位させる移動機構とを備え、上記移動機構は、第1ブロック、上記試料台を保持する第2ブロック、ならびに上記第1ブロックおよび上記第2ブロックに軸支されるリンク部材を含むリンク機構と、上記第1ブロックを第1方向に往復移動させるスライド機構と、上記第2ブロックまたは上記リンク部材に当接して上記第2ブロックの第2方向の昇降移動をガイドする当接部材とを含み、上記リンク部材は、上記第1方向および上記第2方向に直交する第3方向の回動軸まわりに回動可能となるように上記第1ブロックおよび上記第2ブロックに軸支され、上記当接部材は、上記第3方向から見て円形の断面を有し、上記第1ブロックが上記当接部材側に移動するときに、上記円形の断面の中心軸に対して斜め上方に位置する第1の接触点において、上記第2ブロックまたは上記リンク部材が上記当接部材に最初に当接する、表面分析装置。
上記第1の接触点は、上記第1方向に対して上記円形の断面の周方向に45度以上90度より小さい角度だけ離れた位置にある、構成3に記載の表面分析装置。
上記第2ブロックは、上記当接部材側に位置する端部を有し、上記端部の一部に上記当接部材側に突出する突出部が設けられ、上記第1ブロックが上記当接部材側に移動するときに、上記第2ブロックにおける上記突出部が上記当接部材に最初に当接する、構成1から構成4のいずれかに記載の表面分析装置。
上記第2ブロックの上記当接部材側の端面は、上記突出部の下方に連なる曲面を含み、上記曲面は、該曲面に当接する上記当接部材の曲率半径よりも大きな曲率半径を有する円弧面を含む、構成5に記載の表面分析装置。
上記第2ブロックの上記当接部材側の端面は、上記突出部よりも下方に位置し、上記第2方向に延在する平面を含み、上記試料台が上記測定部に対向する位置にあるとき、上記当接部材は上記平面に当接する、構成5または構成6に記載の表面分析装置。
上記当接部材は、上記リンク部材の上記第3方向の上記回動軸と平行な回転軸まわりに回転可能なローラを含む、構成1から構成7のいずれかに記載の表面分析装置。
Claims (8)
- 試料表面を分析する表面分析装置であって、
測定部と、
試料を載置する試料台と、
前記測定部と前記試料台とを相対的に変位させる移動機構とを備え、
前記移動機構は、
第1ブロック、前記試料台を保持する第2ブロック、ならびに前記第1ブロックおよび前記第2ブロックに軸支されるリンク部材を含むリンク機構と、
前記第1ブロックを第1方向に往復移動させるスライド機構と、
前記第2ブロックまたは前記リンク部材に当接して前記第2ブロックの第2方向の昇降移動をガイドする当接部材とを含み、
前記リンク部材は、前記第1方向および前記第2方向に直交する第3方向の回動軸まわりに回動可能となるように前記第1ブロックおよび前記第2ブロックに軸支され、
前記第1ブロックが前記当接部材側に移動するときに、前記第2ブロックまたは前記リンク部材が前記当接部材に最初に当接する第1の接触点において、前記当接部材の表面は、前記第1方向に対して0度より大きく90度より小さい角度で交差する斜め上方向の法線ベクトルを有する、表面分析装置。 - 前記法線ベクトルは、前記第1方向に対して45度以上90度より小さい角度で交差する、請求項1に記載の表面分析装置。
- 試料表面を分析する表面分析装置であって、
測定部と、
試料を載置する試料台と、
前記測定部と前記試料台とを相対的に変位させる移動機構とを備え、
前記移動機構は、
第1ブロック、前記試料台を保持する第2ブロック、ならびに前記第1ブロックおよび前記第2ブロックに軸支されるリンク部材を含むリンク機構と、
前記第1ブロックを第1方向に往復移動させるスライド機構と、
前記第2ブロックまたは前記リンク部材に当接して前記第2ブロックの第2方向の昇降移動をガイドする当接部材とを含み、
前記リンク部材は、前記第1方向および前記第2方向に直交する第3方向の回動軸まわりに回動可能となるように前記第1ブロックおよび前記第2ブロックに軸支され、
前記当接部材は、前記第3方向から見て円形の断面を有し、
前記第1ブロックが前記当接部材側に移動するときに、前記円形の断面の中心軸に対して斜め上方に位置する第1の接触点において、前記第2ブロックまたは前記リンク部材が前記当接部材に最初に当接する、表面分析装置。 - 前記第1の接触点は、前記第1方向に対して前記円形の断面の周方向に45度以上90度より小さい角度だけ離れた位置にある、請求項3に記載の表面分析装置。
- 前記第2ブロックは、前記当接部材側に位置する端部を有し、
前記端部の一部に前記当接部材側に突出する突出部が設けられ、
前記第1ブロックが前記当接部材側に移動するときに、前記第2ブロックにおける前記突出部が前記当接部材に最初に当接する、請求項1から請求項4のいずれかに記載の表面分析装置。 - 前記第2ブロックの前記当接部材側の端面は、前記突出部の下方に連なる曲面を含み、
前記曲面は、該曲面に当接する前記当接部材の曲率半径よりも大きな曲率半径を有する円弧面を含む、請求項5に記載の表面分析装置。 - 前記第2ブロックの前記当接部材側の端面は、前記突出部よりも下方に位置し、前記第2方向に延在する平面を含み、
前記試料台が前記測定部に対向する位置にあるとき、前記当接部材は前記平面に当接する、請求項5または請求項6に記載の表面分析装置。 - 前記当接部材は、前記リンク部材の前記第3方向の前記回動軸と平行な回転軸まわりに回転可能なローラを含む、請求項1から請求項7のいずれかに記載の表面分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020092131A JP7310717B2 (ja) | 2020-05-27 | 2020-05-27 | 表面分析装置 |
US17/156,976 US11162975B1 (en) | 2020-05-27 | 2021-01-25 | Surface analyzer |
CN202110282045.2A CN113740563B (zh) | 2020-05-27 | 2021-03-16 | 表面分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020092131A JP7310717B2 (ja) | 2020-05-27 | 2020-05-27 | 表面分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021188953A JP2021188953A (ja) | 2021-12-13 |
JP7310717B2 true JP7310717B2 (ja) | 2023-07-19 |
Family
ID=78372472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020092131A Active JP7310717B2 (ja) | 2020-05-27 | 2020-05-27 | 表面分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11162975B1 (ja) |
JP (1) | JP7310717B2 (ja) |
CN (1) | CN113740563B (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6631674B1 (ja) | 2018-10-16 | 2020-01-15 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4537082A (en) * | 1984-01-24 | 1985-08-27 | Mts Systems Corporation | Reference frame and hold-down support system for remote supported axial torsional extensometer |
JPS6296389A (ja) | 1985-10-18 | 1987-05-02 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶製造装置 |
US5656769A (en) * | 1994-08-11 | 1997-08-12 | Nikon Corporation | Scanning probe microscope |
JP3179369B2 (ja) * | 1997-06-16 | 2001-06-25 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 微小領域走査装置 |
JP2005283540A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Japan Science & Technology Agency | 走査型プローブ顕微鏡および試料表面形状の計測方法 |
EP1816100A1 (en) * | 2004-11-22 | 2007-08-08 | National University Corporation Kagawa University | Nano tweezers and scanning probe microscope having the same |
JP2012026757A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-02-09 | Shimadzu Corp | 表面分析装置及びそれに用いられる試料ホルダ |
DE102011004214A1 (de) * | 2011-02-16 | 2012-08-16 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Analysieren und Verändern einer Probenoberfläche |
JP2015200537A (ja) * | 2014-04-07 | 2015-11-12 | 株式会社ディスコ | 凹凸検出装置 |
JP6172041B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2017-08-02 | 株式会社島津製作所 | 材料試験機 |
WO2017002152A1 (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 試料高さ調整方法及び観察システム |
JP2018163878A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
JP6848640B2 (ja) * | 2017-04-17 | 2021-03-24 | 株式会社島津製作所 | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP6939686B2 (ja) * | 2018-04-16 | 2021-09-22 | 株式会社島津製作所 | 走査型プローブ顕微鏡及びカンチレバー移動方法 |
JP2019200179A (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-21 | 株式会社島津製作所 | 試料容器用装着部材及び試料容器の密閉方法 |
JP2020071163A (ja) * | 2018-11-01 | 2020-05-07 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
-
2020
- 2020-05-27 JP JP2020092131A patent/JP7310717B2/ja active Active
-
2021
- 2021-01-25 US US17/156,976 patent/US11162975B1/en active Active
- 2021-03-16 CN CN202110282045.2A patent/CN113740563B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6631674B1 (ja) | 2018-10-16 | 2020-01-15 | 株式会社島津製作所 | 表面分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113740563B (zh) | 2024-03-26 |
US11162975B1 (en) | 2021-11-02 |
CN113740563A (zh) | 2021-12-03 |
JP2021188953A (ja) | 2021-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20140178169A1 (en) | Imaging systems, cassettes, and methods of using the same | |
US20090002811A1 (en) | Microscopic Image Capturing Device | |
KR102461129B1 (ko) | 주사 프로브 현미경 | |
US20090316143A1 (en) | Visual inspection apparatus, visual inspection method, and peripheral edge inspection unit that can be mounted on visual inspection apparatus. | |
KR100783618B1 (ko) | 매크로 검사장치 | |
CN101603911B (zh) | 大样品大范围高分辨原子力显微检测方法及装置 | |
CN106483337A (zh) | 扫描探针显微镜和扫描探针显微镜的光轴调整方法 | |
CN104634997A (zh) | 一种适用于高速扫描的原子力显微镜系统 | |
JP7310717B2 (ja) | 表面分析装置 | |
JP3678192B2 (ja) | 計測装置 | |
US20090147250A1 (en) | Semiconductor wafer surface inspection apparatus | |
US20090038383A1 (en) | Photomask defect correction device and photomask defect correction method | |
JP5005945B2 (ja) | 基板検査装置 | |
TW201020507A (en) | Three-dimensional profile inspecting apparatus | |
CN111060718B (zh) | 表面分析装置 | |
US9389189B2 (en) | Dark-field semiconductor wafer inspection device | |
JP2013250069A (ja) | 光学部品の検査用治具 | |
US10768405B2 (en) | Microscope having an objective-exchanging device | |
JP2013019818A (ja) | 硬さ試験機 | |
JP2001194311A (ja) | 基板検査装置 | |
JP2003140053A (ja) | 光学顕微鏡別軸一体型走査型プローブ顕微鏡 | |
JP2833491B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
KR20040094967A (ko) | 웨이퍼 에지 검사 장치 | |
CN213302655U (zh) | 一种激光扫描共聚焦显微镜及其扫描路径移动装置 | |
JPH0660817U (ja) | 顕微鏡用試料載置台 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220822 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230531 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7310717 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |