JP7286837B2 - ポリカーボネート樹脂、および光学成形体 - Google Patents

Description

本発明は、化合物、当該化合物から得られる樹脂およびポリカーボネート樹脂、ならびに当該樹脂およびポリカーボネート樹脂を含む光学成形体に関する。

カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学レンズの材料として、光学ガラスあるいは光学用樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性、透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れ、様々な屈折率やアッベ数を有する多種類の材料が存在している。しかし、材料コストが高く、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。

一方、光学用樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能であるという利点を有している。例えば、カメラ用レンズにおいて、ポリカーボネート樹脂等が使用されている。しかしながら、近年、製品の軽薄短小化により、高い屈折率の樹脂の開発が求められている。一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントを、より曲率の小さい面で実現できるため、この面で発生する収差量を小さくできる。その結果、レンズの枚数を減らしたり、レンズの偏心感度を低減したり、レンズ厚みを薄くして軽量化することが可能になる。

光学用樹脂に関する技術としては、例えば、特許文献１および２に記載のものが挙げられる。

特許文献１（特開２００５－２４１９６２号公報）にはフルオレン構造を有するポリカーボネート樹脂からなる光学レンズが記載されている。

特許文献２（特開２００５－１８７６６１号公報）には、フルオレン含有ポリエステルに硫黄含有化合物をブレンド（混合、添加）することで簡便に屈折率を向上させる手法が記載されている。

特開２００５－２４１９６２号公報 特開２００５－１８７６６１号公報

しかし、特許文献１に記載されているようなポリカーボネート樹脂は屈折率が低く、十分に満足するものではなかった。
また、特許文献２に記載のように、フルオレン含有ポリエステルに硫黄含有化合物をブレンドすると屈折率が向上するが、低分子量成分を添加するために熱安定性が低下し、ブレンドする二成分の相溶性が悪い場合、透明性が低下してしまう。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる樹脂およびポリカーボネート樹脂を提供するものである。

本発明者らは、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できるポリカーボネート樹脂を提供するために鋭意検討した。その結果、下記式（１）で表される化合物を重合して得られる樹脂が、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できることを見出し、本発明に到達した。

本発明によれば、以下の一般式（１）で表される化合物、当該化合物より得られる樹脂、当該化合物より誘導されるポリカーボネート樹脂、および光学成形体が提供される。

［１］一般式（１）で表される化合物。

（一般式（１）中、Ａｒ_１およびＡｒ_２は、独立して、

から選ばれる基を表し、Ｒ_１～Ｒ_６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ_１～Ａ_５およびＢ_１～Ｂ_５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ_１～Ａ_５の少なくとも一つは－Ｙ_１－Ａｒ_３基であり、Ｂ_１～Ｂ_５の少なくとも一つは－Ｙ_２－Ａｒ_４基であり、Ｙ_１およびＹ_２は単結合または連結基を表し、Ａｒ_３およびＡｒ_４は芳香族基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－、または－Ｃ（Ｍｅ）_２－であり、Ｚ_１～Ｚ_４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す）。
［２］上記一般式（１）中のｏおよびｐは、２である、上記［１］に記載の化合物
［３］上記一般式（１）中のＡｒ_１およびＡｒ_２は、独立して、

から選ばれる基を表し、Ｒ_１～Ｒ_６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す、上記［１］または［２］に記載の化合物。
［４］上記［１］～［３］のいずれかに記載の一般式（１）で表される化合物を重合してなる樹脂。
［５］上記［１］～［３］のいずれかに記載の一般式（１）で表される化合物から誘導されるポリカーボネート樹脂。
［６］上記［４］または［５］に記載の樹脂を含む光学成形体。
［７］光学レンズである上記［６］に記載の光学成形体。
［８］光学フィルムである上記［６］に記載の光学成形体。

本発明によれば、高屈折率で、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる樹脂およびポリカーボネート樹脂を提供することができる。

以下に、本発明の実施形態について説明する。なお、文中の数字の間にある「～」は特に断りがなければ、以上から以下を表す。

［化合物］
本実施形態に係る化合物について説明する。本実施形態に係る化合物は、一般式（１）で表される化合物である。

一般式（１）中、Ａｒ_１およびＡｒ_２は、独立して、

から選ばれる基を表し、
Ｒ_１～Ｒ_６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
Ａ_１～Ａ_５およびＢ_１～Ｂ_５は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、Ａ_１～Ａ_５の少なくとも一つは－Ｙ_１－Ａｒ_３基であり、
Ｂ_１～Ｂ_５の少なくとも一つは－Ｙ_２－Ａｒ_４基であり、
Ｙ_１およびＹ_２は単結合または連結基を表し、Ａｒ_３およびＡｒ_４は芳香族基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４は－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ'－、または－Ｃ（Ｍｅ）_２－であり、
Ｚ_１～Ｚ_４は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
Ｒ'は水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
ｏおよびｐは１～４の整数を表す。

一般式（１）において、Ｒ_１～Ｒ_６はそれぞれ独立に水素原子および炭素数１～３のアルキル基または炭素数６～２０のアリール基から選ばれることが好ましく、Ｒ_１～Ｒ_６はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基から選ばれることがより好ましく、Ｒ_１～Ｒ_６は水素原子であることがさらに好ましい。

一般式（１）において、ｏおよびｐは１～４の整数であり、好ましくは１または２であり、より好ましくは、２である。ｏおよびｐが上記範囲であることにより、一般式（１）の化合物から得られるポリカーボネート樹脂は、優れた耐熱性を有する。

一実施形態において、前記一般式（１）中のＡｒ_１およびＡｒ_２は、独立して、

から選ばれる基を表し、Ｒ_１～Ｒ_６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す。

一般式（１）におけるＡｒ_１およびＡｒ_２の好ましい態様としては、以下が挙げられる。

上記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'―ヒドロキシメチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'―ヒドロキシメチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジ－ｐ－ビフェニルー９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ジ－ｍ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェニルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ、ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス（４"－フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（１'－ヒドロキシメチル）－２，７－ビス〔３－ナフタレン－２－イル〕フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｐ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｍ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジ－ｏ－ビフェニル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェニルフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ、ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（３"，５"－ジフェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－１－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－１－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェナントリル－９"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'－ヒドロキシプロピル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'―ヒドロキシプロピル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'―ヒドロキシプロピル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（３'－ヒドロキシプロピル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'―ヒドロキシブチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'―ヒドロキシブチル）－３，６－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－３，６－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－ナフタレン、９，９－ビス（４'－ヒドロキシブチル）－３，６－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン等が挙げられる。

これらの中でも、好ましくは、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン、９，９－ビス（２'―ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"－イル－９Ｈ－フルオレンを挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いてもよい。

［一般式（１）で表される化合物の製造方法］
本実施形態の一般式（１）で表される化合物は、以下の工程（ｉ）および工程（ｉｉ）により合成することができる。
工程（ｉ）：２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは３，６－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン等のジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンを、溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン）中、塩基（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、メトキシナトリウム、エトキシナトリウム、ｔ－ブトキシナトリウム、ｔ－ブトキシカリウム、ｎ－ブチルリチウム）で処理することにより、ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンの９位の水素を引き抜き、その後、脱離基を有するヒドロキシアルキル（ここで脱離基としては、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基、メチルスルホニルオキシ基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる）を作用させ、９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは９，９－ビス（ヒドロキシアルキル－３，６－９Ｈ－フルオレン等の９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンを製造する。

工程（ｉｉ）：工程（ｉ）で得られた、９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンまたは９，９－ビス（ヒドロキシアルキル－３，６－９Ｈ－フルオレン等の９，９－ビス（ヒドロキシアルキル）－ジハロゲノ－９Ｈ－フルオレンに、溶媒（例えば、トルエンおよび水、テトラヒドロフランおよび水、ジメチルスルホキシドおよび水）中、塩基（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム等のパラジウム系触媒の存在下で、ナフチルホウ酸を作用させ、所謂、鈴木－宮浦カップリングの条件により、目的の一般式（１）の化合物を製造する。

ここで、工程（ｉ）の反応は－７８℃から溶媒の沸点の間の任意の温度により実施することができる。また、反応条件は、一般的なアルキル化反応の条件を適用することができる。所望により脱離基を有するヒドロキシアルキルのヒドロキシ基を、任意の保護基（例えば、アセチル基等のエステル基、テトラヒドロピラニル基等のエーテル基、ｔ－ブトキシカルボニル基等の炭酸エステル基で保護しておいて、最後に脱保護してもよい。

工程（ｉｉ）の反応は室温から溶媒の沸点までの任意の温度により実施することができる。反応条件は、所謂、鈴木－宮浦カップリングで一般的に使用される反応条件を適用することができる。

［樹脂］
本発明の一つの態様は、一般式（１）で表される化合物を重合してなる樹脂である。
ここで、一般式（１）で表される化合物を重合して得られる樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂などが挙げられる。

ポリエステル樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、芳香族ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸）、または脂肪族ジカルボン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸）とを反応させることにより得られる。

ポリウレタン樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、芳香族ジイソシアネート（例えば、トルイレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート）、または脂肪族ジイソシアネート（例えば、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジメチレンジイソシアネート）とを反応させることにより得られる。

ポリカーボネート樹脂は、後述するとおり、一般式（１）で表される化合物と、炭酸ジエステル等のカーボネート前駆物質とを反応させることにより得られる。

ポリエーテル樹脂は、一般式（１）で表される化合物と、脂肪族ジハロゲン化合物（例えば、ジブロモエタン、ジブロモプロパン）とを、塩基の存在下で反応させることにより得られる。

これらの樹脂において、本願の一般式（１）で表される化合物以外の反応物は単独で用いてもよく、複数併用してもよい。また、本願の一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物を併用して樹脂を重合することも可能である。

本願の一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物を併用する場合、本願の一般式（１）で表される化合物と一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物の合計に対して、一般式（１）で表される化合物の割合は５モル％以上９９モル以下が好ましく、１０モル％以上９９モル％以下がより好ましく、１５モル％以上９９モル％以下がさらに好ましい。

ここで、一般式（１）で表される化合物以外のジヒドロキシ化合物としては、例えば、９，９－ビス〔４－（２―ヒドキシエトキシ）フェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－エチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｎ－プロピルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－イソプロピルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｎ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｓｅｃ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－シクロヘキシルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２―ヒドロキシエトキシ）－２－フェニルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル〕フルオレン、９，９－ビス〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－（３－メチルフェニル）フェニル〕フルオレン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕スルフィド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル〕スルホン、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホキシド、ビス〔４－（２'－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕スルホキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）プロパン、４，４－ジヒドロキシフェニル－１，１－ｍ－ジイソプロピルベンゼン等のビス（４－ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、２，２，２，２－テトラヒドロ－３，３，３，３－テトラメチル－１，１－スピロビス〔１Ｈインデン〕－６，６－ジオール等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；ビス（４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）エーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）フルオレン；エチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、１，１０－デカンジオール、ジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ノルボルナンジメタノール、デカヒドロナフタレンジメタノール、トリシクロ［５．２．１．０^２．６］デカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、シクロペンタン－１，３－ジメタノール、スピログリコール等を挙げることができる。

［ポリカーボネート樹脂］
本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、本実施形態の一般式（１）で表される化合物を用いて製造される。本実施形態のポリカーボネート樹脂は、式（１ｐ）で表される、一般式（１）で表される化合物由来の構造単位を有する。このようなポリカーボネート樹脂は、高屈折率であり、かつ、透明性に優れた光学成形体を実現できる。その結果、光学レンズの材料として好適に使用することができる。

式（１ｐ）において、Ａｒ_１およびＡｒ_２、Ｒ_１およびＲ_２、ならびにｏおよびｐは、式（１）におけるものと同義である。好ましい態様についても同様である。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１．５×１０^３以上２．０×１０^５以下であり、より好ましくは２．０×１０^３以上１．２×１０^５以下である。

Ｍｗが上記下限値以上であると、得られる成形体が脆くなることをより抑制できるため好ましい。Ｍｗが上記上限値以下であると、溶融粘度がより適度となるため製造後の樹脂の取り出しがより容易になり、さらに流動性がより良好になり溶融状態で射出成形しやすくなるため好ましい。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の２３℃、波長６３３ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．７０以上１．８５以下、より好ましくは１．７０以上１．８２以下、さらに好ましくは１．７１以上１．８１以下、特に好ましくは１．７２以上１．８１以下である。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂に他の樹脂をブレンドして、成形体の製造に供することができる。他の樹脂としては、例えば、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。

さらに本実施形態に係るポリカーボネート樹脂には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤、抗菌剤等を添加することができる。

成形方法としては、射出成形の他、圧縮成形、注型、ロール加工、押出成形、延伸等が例示されるがこれらに限らない。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は８０℃以上１９０℃以下であり、より好ましくは８５℃以上１８０℃以下であり、さらに好ましくは９０℃以上１７０℃以下である。Ｔｇが上記下限値以上であると、使用温度範囲がより広くなるため好ましい。またＴｇが上記上限値以下であると、樹脂の溶融温度がより低くなり、樹脂の分解や着色がより発生し難くなるため好ましい。またＴｇが上記上限値以下であると、汎用の金型温調機でも、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差を小さくすることができる。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途において使用し易く好ましい。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて得られる光学成形体は、ＪＩＳ Ｋ－７３６１－１（１９９７）に準拠して測定される全光線透過率が、好ましくは８２％以上、より好ましくは８５％以上であり、ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂等と比べても遜色がない。

［ポリカーボネート樹脂の製造方法］
実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、上記一般式（１）で表される化合物を原料として使用して製造することができる。具体的には、一般式（１）で表される化合物および炭酸ジエステル等のカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、または無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の製造に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジ－ｐ－トリルカーボネート、ジ－ｍ－トリルカーボネート、ジ－ｏ－トリルカーボネート、ビス（ｐ－クロロフェニル）カーボネート、ビス（ｍ－クロロフェニル）カーボネート、ビス（ｏ－クロロフェニル）カーボネート、ｍ－クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ－ｎ－ブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、一般式（１）で表される化合物１モルに対して０．９７～１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、より好ましくは０．９８～１．１０モルの比率である。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂の製造に用いられる塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。このような化合物としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド、または４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。

アルカリ金属化合物としては、例えば、アルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物またはアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。

アルカリ土類金属化合物としては、例えば、アルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。

含窒素化合物としては、例えば、４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラｎ－プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラｎ－ブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン等の１級アミン類；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラｎ－ブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラｎ－ブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２－エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が用いられる。
これらの触媒は、一般式（１）で表される化合物の合計１モルに対して、１０^－９～１０^－３モルの比率で、好ましくは１０^－７～１０^－４モルの比率で用いられる。

溶融重縮合法は、上記の原料および触媒を用いて、加熱下に、常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。
本実施形態に係る溶融重縮合法は、上記一般式（１）で表される化合物、および炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で、反応を行うことが望ましい。

滞留させるために、反応装置を閉塞したり、減圧したり加圧したりする等して圧力を制御することができる。この工程の反応時間は、好ましくは２０分以上２４０分以下であり、より好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましくは６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少ない。しかし、副生したモノヒドロキシ化合物を反応容器中に一定時間滞留させると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が多いものが得られる。

一般的には溶融重縮合反応は二段以上の多段工程で実施される。具体的には、第一段目の反応を好ましくは１２０～２６０℃、より好ましくは１８０～２４０℃の温度で、常圧もしくは加圧下に好ましくは０．１～５時間、より好ましくは０．５～３時間反応させる。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めて一般式（１）で表される化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１３３Ｐａ（１ｍｍＨｇ）以下の減圧度、２００～３５０℃の温度で０．０５～２時間重縮合反応を行うことが好ましい。

溶融重縮合反応は、連続式で行ってもよいし、バッチ式で行ってもよい。
反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、重縮合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよい。一般的には公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ－トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ－トルエンスルホン酸ブチル、ｐ－トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ－プロピル、亜リン酸ジｎ－ブチル、亜リン酸ジｎ－ヘキシル、亜リン酸ジｎ－オクチル、亜リン酸モノｎ－オクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジｎ－ブチル、リン酸ジｎ－オクチル、リン酸モノｎ－オクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジｎ－オクチルホスホン酸、ジｎ－ブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ｎ－ドデシルベンゼンスルホン酸テトラｎ－ブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ－トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して好ましくは０．０１～５０倍モル、より好ましくは０．３～２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、１３～１３３Ｐａ（０．１～１ｍｍＨｇ）の圧力、２００～３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けてもよい。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は、当然低ダスト環境であることが好ましく、クラス１０００以下のクリーン度であることがより好ましい。

［光学成形体］
本実施形態に係る光学成形体は本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を含むものであり、本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて光学成形体を製造できる。
例えば、射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法等任意の方法により成形される。
本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂等の他の樹脂と混合して使用することができる。

また、本実施形態の目的を損なわない範囲で各種特性を付与するために、各種添加剤を使用することができる。添加剤としては、酸化防止剤、加工安定剤、離型剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、熱線遮蔽剤、蛍光染料（蛍光増白剤含む）、顔料、光散乱剤、強化充填剤、界面活性剤、抗菌剤、可塑剤、相溶化剤、他の樹脂やエラストマー等を挙げることができる。

酸化防止剤としては、例えば、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６－ヘキサンジオール－ビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール－テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマイド）、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンジルホスホネート－ジエチルエステル、トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９－ビス｛１，１－ジメチル－２－［β－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が挙げられる。
ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．３質量部であることが好ましい。

加工安定剤としては、例えば、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。

リン系加工熱安定剤としては、例えば、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリｎ－デシルホスファイト、トリｎ－オクチルホスファイト、トリｎ－オクタデシルホスファイト、ジｎ－デシルモノフェニルホスファイト、ジｎ－オクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノｎ－ブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノｎ－オクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ｎ－ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリｎ－ブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジｎ－ブチルホスフェート、ジｎ－オクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，４'－ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，３'－ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－３，３'－ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－４－フェニル－フェニルホスホナイトおよびビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－３－フェニル－フェニルホスホナイト等が挙げられる。
ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．２質量部が好ましい。

硫黄系加工熱安定剤としては、例えば、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール－テトラキス（３－ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル－３，３'－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３'－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３'－チオジプロピオネート等が挙げられる。
ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００１～０．２質量部が好ましい。

離型剤としては、その９０質量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１～２０の一価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、上記多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１～２５の多価アルコールと炭素原子数１０～３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。

一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、例えば、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ｎ－ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、例えば、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ－ト、ソルビタンモノステアレート、２－エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。

これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して０．００５～２．０質量部の範囲が好ましく、０．０１～０．６質量部の範囲がより好ましく、０．０２～０．５質量部の範囲がさらに好ましい。

紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（２－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２，２'－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｎ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール］、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２，２'－メチレンビス（４－クミル－６－ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２'－ｐ－フェニレンビス（１，３－ベンゾオキサジン－４－オン）、２－［２－ヒドロキシ－３－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５－メチルフェニル］ベンゾトリアゾ－ル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクチルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４，４'－ジメトキシベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４，４'－ジメトキシ－５－ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５－ベンゾイル－４－ヒドロキシ－２－メトキシフェニル）メタン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－ドデシルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２'－カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ｎ－ヘキシル）オキシ］－フェノール、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ｎ－オクチル）オキシ］－フェノール等が挙げられる。

環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、例えば、２，２'－ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－ｐ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－ｍ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（４，４'－ジフェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２，６－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（１，５－ナフタレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２－メチル－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）、２，２'－（２－ニトロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）および２，２'－（２－クロロ－ｐ－フェニレン）ビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）等が挙げられる。

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、例えば、１，３－ビス－［（２'－シアノ－３'，３'－ジフェニルアクリロイル）オキシ］－２，２－ビス［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３－ビス－［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼン等が挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．０１～３．０質量部であり、より好ましくは０．０２～１．０質量部であり、さらに好ましくは０．０５～０．８質量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。

ブルーイング剤としては、例えば、バイエル社のマクロレックスバイオレットＢおよびマクロレックスブルーＲＲ並びにクラリアント社のポリシンスレンブルーＲＬＳ等が挙げられる。

ブルーイング剤は、ポリカーボネート樹脂の黄色味を消すために有効である。特に耐候性を付与したポリカーボネート樹脂の場合は一定量の紫外線吸収剤が配合されるため、「紫外線吸収剤の作用や色」によってポリカーボネート樹脂成型品が黄色味を帯びやすい傾向があり、特にシートやレンズに自然な透明感を付与するためにはブルーイング剤の配合は有効である。
ブルーイング剤の配合量は、例えば、ポリカーボネート樹脂に対して、好ましくは０．０５～１．５ｐｐｍであり、より好ましくは０．１～１．２ｐｐｍである。

本実施形態に係るポリカーボネート樹脂は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイ等の光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形体として有利に使用することができる。

光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていてもよい。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。

（光学レンズ）
本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。したがって、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
本実施形態に係る光学レンズは、例えば、射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法等任意の方法により成形される。本実施形態により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。

（光学フィルム）
本実施形態に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。

以下、本実施形態を、実施例・比較例を参照して詳細に説明する。なお、本実施形態は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。

１．測定・評価方法
以下の実施例・比較例において、各物性の測定および評価は、以下の方法により行った。

１）ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ：Ｗａｔｅｒｓ社製 １５１５、２４１４および２４８９）を用い、クロロホルムを溶出液として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。

２）屈折率（ｎ６３３）：シリコンウエハー上に８．５ｗｔ％濃度の樹脂のクロロホルム溶液をスピンコーターを用いて２００ｒｐｍ２０秒、１０００ｒｐｍ５秒でコートし、１２０℃で５分、２００℃で２分ベークしてサンプルを調整し、分光エリプソメーターＧＥＳ５Ｅ（セミラボ［ＳＥＭＩＬＡＢ］社製）を用いて波長２００－１０００ｎｍにおける光学測定データに、次に示す光学モデルをフィッティングすることで、フィルムの屈折率および膜厚の算出を行った。
（光学モデル）
積層構造：フィルム／ＳｉＯ_２（２ｎｍ厚）／Ｓｉ基板（５００μｍ厚）
フィルムの分散式：コーシー ＋ ローレンツ振動子モデル

３）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ：島津製作所製ＤＳＣ－６０）により測定した。

１．式（１）で表される化合物の調製
（実施例１）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
工程（ｉ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの合成
５００ｍｌのフラスコに２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン６６．５ｇ（０．２ｍｏｌ）、水酸化カリウム（粉末状）５６ｇ（０．９９８ｍｏｌ）、ヨウ化カリウム３．４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ジメチルスルホキシド１５０ｍｌを装入し、氷水で１０℃に冷却した。その後、２－ブロモエタノール５８．４ｇ（０．４６７ｍｏｌ）を４５分かけて滴下し、その後、室温で一晩攪拌した。その後、反応液を５０℃に加熱して４０時間加熱攪拌した。反応混合物を蒸留水２リットルに排出し、濃塩酸でｐＨを６に合わせた。得られた固体を濾別して水３リットルで洗浄した。得られた固体を酢酸エチル１リットルに溶解し、蒸留水５００ｍｌで洗浄後、エバポレーターで濃縮し、クロロホルムを添加することで、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンを３４．８ｇの無色の結晶として得た。

工程（ｉｉ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの調製
１リットルのフラスコに９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン２０．７５ｇ（５０ｍｍｏｌ）、ナフタレン－２－ボロン酸１９．１７ｇ（０．１１ｍｏｌ）、炭酸カリウム１５．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）、蒸留水２５０ｇおよびジメチルスルホキシド４００ｇを装入した。この反応混合物にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム３．０ｇを添加して、１００℃に加熱して５時間加熱攪拌した。冷却後、生成した固体を濾別して、水５００ｇで洗浄し、５０℃で真空乾燥した。乾燥後、固体をクロロホルムで懸濁洗浄し、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．８７ｇを無色の結晶として得た。ＤＳＣで測定した融点は２３６℃であった。

（実施例２）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
工程（ｉ）：２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピランの合成
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えた２リットルの丸底フラスコに、２－ブロモエタノール１５０ｇ（１．２０ｍｏｌ）およびジクロロメタン８００ｍｌを装入し、氷水により冷却した。その後、内温が５℃になった時点で、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン１３０ｇ（１．５６ｍｏｌ）を１０℃以下で滴下した。滴下終了後、ピリジニウムｐ－トルエンスルホネート３０ｇ（０．１２ｍｏｌ）を添加し、室温で一晩攪拌した。その後、炭酸水素ナトリウム飽和水を添加し、ジクロロメタン層を水洗した。得られたジクロロメタン層をエバポレーターにより濃縮して、淡黄色の油状物として、２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピラン２５５ｇを得た。

工程（ｉｉ）：９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの合成
撹拌機、温度計および還流管を備えた２リットル丸底フラスコに２－（２'－ブロモエトキシ）テトラヒドロピラン２５５ｇ、トルエン２７０ｍｌおよび２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン１６４ｇ（０．５０６ｍｏｌ）を仕込み、ここに５０％水酸化ナトリウム水溶液２７０ｍｌを添加した。その後、テトラブチルアンモニウムブロマイド８．５ｇ（２６．２ｍｍｏｌ）を添加し、１００℃に加熱して、１１．５時間加熱攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、水層を分液した後、酢酸エチル７００ｍｌおよび蒸留水７００ｍｌを添加し、水洗を行った。さらに水洗を繰り返した後、酢酸エチルおよびトルエンからなる層を分離し、エバポレーターにて濃縮した。濃縮後得られた粘調な液体に、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレンの種結晶を少量添加し、メタノールを添加した結晶化を行った。得られた結晶をろ過し、少量のメタノールで洗浄した後、メタノール５００ｍｌから加熱再結晶を行い、目的とする９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニル）エトキシ〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン２４６ｇを淡黄色結晶として得た。
ｍ．ｐ．９８．５℃
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．３０－１．５３（ｍ，１２Ｈ）、２．３４－２．３８（ｔ，４Ｈ）、２．７０－３．５（ｍ、８Ｈ）、４．１（ｔ、２Ｈ）、７．４３－７．５５（ｍ、６Ｈ）

工程（ｉｉｉ）：９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
撹拌機、温度計および還流管を備えた１リット丸底フラスコに９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン７２．５５ｇ（１２５ｍｍｏｌ）、トルエン４７５ｍｌ、炭酸カリウム６１ｇ（４４２ｍｍｏｌ）、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）および蒸留水２１１ｍｌを仕込み攪拌しながら、この反応混合物にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．４ｇを添加して、８０℃まで昇温した。８０℃で１２時間加熱攪拌を行い、その後、室温まで冷却した。水層を分液した後、蒸留水でトルエン層を洗浄し、その後、トルエン層をエバポレーターにより濃縮した。濃縮残渣にメタノール７３０ｍｌを添加し、生じた固体を濾別し、メタノールで洗浄した。その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液トルエン～トルエン／酢酸エチル＝９／１）にて精製し、その後、メチルセロソルブから再結晶して目的物を１２１．０１ｇ得た。収率７２％、ＨＰＬＣ純度９９．３％、ｍ．ｐ．１４８℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２０－１．７０（ｍ、１２Ｈ）、２，５５（ｔ、４Ｈ）、２．８－３．５（ｍ、８Ｈ）、４．１６（ｍ，２Ｈ）、７．４０－７．６５（ｍ、４Ｈ）、７．７０－８．０５（ｍ、１４Ｈ）、８．１（ｓ、２Ｈ）

工程（ｉｖ）：９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
撹拌機、温度計および還流管を備えた１リットル丸底フラスコに、９，９‐ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル‐９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを仕込み、攪拌しながら１１５℃に昇温し、同温度で４時間加熱攪拌した。その後、室温まで冷却し、水１８０ｍｌを添加して、生じた結晶を濾別した。得られた結晶を蒸留水で洗浄した後、５０℃で減圧乾燥し、その後、熱メチルセロソルブで懸濁洗浄を行い、目的物３８．７３ｇを得た。収率８５％、ｍ．ｐ．２４９．５℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．４３（ｔ、４Ｈ）、２．８０（ｔ、４Ｈ）、４．１６（ｔ、２Ｈ）、７．５０－７．６０（ｍ，４Ｈ）、７．８－８．１（ｍ，１２Ｈ）、８．３５（ｓ，２Ｈ）

（実施例３）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４－イルボロン酸５８．８５ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６６．０５ｇを得た。収率７０％、ＨＰＬＣ純度９７．５％、ｍ．ｐ．１７６．７℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２９－１．４５ （１０Ｈ， ｍ）， １．５８ （２Ｈ， ｍ）， ２．５８ （４Ｈ， ｔ）， ２．９８ （２Ｈ， ｑ）， ３．２４ （２Ｈ， ｄｔ）， ３．４０ （２Ｈ， ｑ）， ３．５５ （２Ｈ， ｄｔ）， ４．２３ （２Ｈ， ｓ）， ７．３９ （２Ｈ， ｔ）， ７．４８ （４Ｈ， ｑ）， ７．６４ （２Ｈ， ｄ）， ７．６８－７．７１ （２Ｈ， ｍ）， ７．９０－８．０３ （１０Ｈ， ｍ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７９．４ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５４０ｍｌ、蒸留水２２ｍｌおよび濃塩酸６．２ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．０３ｇを得た。収率８８％、ＨＰＬＣ純度９９．４％、ｍ．ｐ．２４７．４℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．４０ （４Ｈ， ｔ）， ２．９８ （４Ｈ， ｍ）， ４．２４ （２Ｈ， ｔ）， ７．４６ （２Ｈ， ｔ）， ７．５８ （４Ｈ， ｄｔ）， ７．８２ （４Ｈ， ｄｄ）， ８．０３－８．１０ （６Ｈ， ｍ）， ８．２２ （４Ｈ， ｄｄ）

（実施例４）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－（ナフタレン－２－イル）フェニルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６８．２３ｇを得た。収率６６％、ＨＰＬＣ純度９９．２％、ｍ．ｐ．２０９．４℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２６－１．６１ （１２Ｈ， ｍ）， ２．５５ （４Ｈ， ｔ）， ２．８６ （２Ｈ， ｑ）， ３．２２－３．３２ （４Ｈ， ｍ）， ３．５１－３．５６ （２Ｈ， ｍ）， ４．１７ （２Ｈ， ｔ）， ７．４９－７．５５ （４Ｈ， ｍ）， ７．６７ （２Ｈ， ｄ）， ７．７５ （２Ｈ， ｄ）， ７．７８－７．８２ （６Ｈ， ｍ）， ７．８４－７．９０ （８Ｈ， ｍ）， ７．９５ （４Ｈ， ｔ）， ８．１３ （２Ｈ， ｓ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸６ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．１０ｇを得た。収率８６％、ＨＰＬＣ純度９９．６％、ｍ．ｐ．３４１．３℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．４１ （４Ｈ， ｔ）， ２．８３ （４Ｈ， ｑ）， ４．２０ （２Ｈ， ｔ）， ７．５３－７．６０ （４Ｈ， ｍ）， ７．８３ （２Ｈ， ｄ）， ７．９４－８．００ （１６Ｈ， ｍ）， ８．０６ （４Ｈ， ｄ）， ８．３３ （２Ｈ， ｓ）

（実施例５）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、３－（ナフタレン－２－イル）フェニルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン７０．３０ｇを得た。収率６８％、ＨＰＬＣ純度９８．９％、ｍ．ｐ．１７１．６℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２６－１．５８ （１２Ｈ， ｍ）， ２．５４ （４Ｈ， ｔ）， ２．８６ （２Ｈ， ｑ）， ３．２２－３．３０ （４Ｈ， ｍ）， ３．４９－３．５４ （２Ｈ， ｍ）， ４．１６ （２Ｈ， ｔ）， ７．５１－７．６１ （６Ｈ， ｍ）， ７．６６－７．７４ （８Ｈ， ｍ）， ７．８１ （２Ｈ， ｄ）， ７．８４ （２Ｈ， ｄｄ）， ７．９０ （２Ｈ， ｄ）， ７．９４－７．９９ （６Ｈ， ｍ）， ８．１４ （２Ｈ， ｓ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７２．５ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸５．７ｇを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４１．５８ｇを得た。収率８７％。なお最終品の精製は、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／８⇒１／４）により実施した。ＨＰＬＣ純度９９．７％、ｍ．ｐ．１４３．１℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ： ２．５２ （４Ｈ， ｔ）， ３．１７ （４Ｈ， ｑ）， ７．５１－７．５４ （４Ｈ， ｍ）， ７．６０ （２Ｈ， ｔ）， ７．６７－７．６９ （２Ｈ， ｍ）， ７．７４ （２Ｈ， ｄｄ）， ７．７６ （２Ｈ， ｓ）， ７．８２－７．９１ （６Ｈ， ｍ）， ７．９４－７．９９ （６Ｈ， ｍ）， ８．１４ （２Ｈ， ｓ）

（実施例６）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、フェナントレン－９－イルボロン酸６１．０６ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジフェナントレン９"－イル－９Ｈ－フルオレン７３．６２ｇを得た。収率７６％、ＨＰＬＣ純度９５．９％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．３６－１．６４ （１２Ｈ， ｍ）， ２．５０ （４Ｈ， ｔ）， ２．９９ （２Ｈ， ｑ）， ３．３０－３．４３ （４Ｈ， ｍ）， ３．５８ （２Ｈ， ｄｔ）， ４．２９ （２Ｈ， ｓ）， ７．５７ （４Ｈ， ｄ）， ７．６３－７．７２ （８Ｈ， ｍ）， ７．７７ （２Ｈ， ｓ）， ７．９０ （２Ｈ， ｄ）， ７．９３－７．９５ （２Ｈ， ｍ）， ８．０３ （２Ｈ， ｄ）， ８．７９ （４Ｈ， ｄｄ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（９０．３ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６１０ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用した以外は、実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４８．２２ｇを得た。収率８８％。なお最終品の精製は、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／クロロホルム＝１／６⇒１／４）により実施した。ＨＰＬＣ純度９９．３％、ｍ．ｐ．２２６．９℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．４８ （４Ｈ， ｔ）， ３．３１ （４Ｈ， ｑ）， ７．５７－７．７３ （１２Ｈ， ｍ）， ７．７７ （２Ｈ， ｓ）， ７．９５ （６Ｈ， ｄｄ）， ８．７９ （４Ｈ， ｄｄ）

（実施例７）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４－イルボロン酸６２．７２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６８．８７ｇを得た。収率７０％、ＨＰＬＣ純度９９．１％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２８－１．４３ （１０Ｈ， ｍ）， １．５５ （２Ｈ， ｍ）， ２．５６ （４Ｈ， ｔ）， ２．９５ （２Ｈ， ｑ）， ３．２２ （２Ｈ， ｄｔ）， ３．３７ （２Ｈ， ｑ）， ３．５２ （２Ｈ， ｄｔ）， ４．２０ （２Ｈ， ｓ）， ７．５１ （２Ｈ， ｔ）， ７．６８ （４Ｈ， ｑ）， ７．８５ （２Ｈ， ｄ）， ７．８２－７．８９ （２Ｈ， ｍ）， ８．１１－８．２４ （１０Ｈ， ｍ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７６．４ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５００ｍｌ、蒸留水２０ｍｌおよび濃塩酸６．０ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４０．１０ｇを得た。収率８５％、ＨＰＬＣ純度９８．９％、ｍ．ｐ．２２３．６℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．３８ （４Ｈ， ｔ）， ２．９３ （４Ｈ， ｄｔ）， ４．２６ （２Ｈ， ｔ）， ７．５７ （４Ｈ， ｄｄ）， ７．６９－７．７１ （４Ｈ， ｍ）， ７．７９ （２Ｈ， ｄ）， ７．９７ （２Ｈ， ｓ）， ８．０４ （２Ｈ， ｄｄ）， ８．１０ （２Ｈ， ｄ）， ８．４３－８．４７ （４Ｈ， ｄｄ）

（実施例８）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４"－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－フェノキシフェニルボロン酸５８．８６ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレン６８．３１ｇを得た。収率７２％、ＨＰＬＣ純度９８．８％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２４－１．５９ （１２Ｈ， ｍ）， ２．４８ （４Ｈ， ｔ）， ２．８１ （２Ｈ， ｑ）， ３．２０－３．２７ （４Ｈ， ｍ）， ３．４８－３．５４ （２Ｈ， ｍ）， ４．１４ （２Ｈ， ｔ）， ７．０７－７．１５ （１０Ｈ， ｍ）， ７．３７ （４Ｈ， ｄｔ）， ７．５５ （２Ｈ， ｄ）， ７．６０－７．６３ （６Ｈ， ｍ）， ７．７４ （２Ｈ， ｄ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェノキシフェニル〕－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（７９．１ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５３０ｍｌ、蒸留水２２ｍｌおよび濃塩酸６．２ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物３８．２９ｇを得た。収率８２％、ＨＰＬＣ純度９９．７％、ｍ．ｐ．１３４．１℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．３４ （４Ｈ， ｔ）， ２．７６ （４Ｈ， ｑ）， ４．１４ （２Ｈ， ｔ）， ７．０７－７．２０ （１０Ｈ， ｍ）， ７．４３ （４Ｈ， ｔ）， ７．６７ （２Ｈ， ｄｄ）， ７．８１ （６Ｈ， ｔ）， ７．９０ （２Ｈ， ｄ）

（実施例９）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、４－フェニルナフタレン－１－イルボロン酸６８．２２ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７３．４ｇを得た。収率７１％、ＨＰＬＣ純度９９．８％、ｍ．ｐ．２３０．３℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．３６－１．６１ （１２Ｈ， ｍ）， ２．５０ （４Ｈ， ｔ）， ２．９７ （２Ｈ， ｑ）， ３．３０ （２Ｈ， ｄｔ）， ３．３８ （２Ｈ， ｑ）， ３．５７ （２Ｈ， ｄｔ）， ４．２７ （２Ｈ， ｓ）， ７．４５－７．５８ （２０Ｈ， ｍ）， ７．６６ （２Ｈ， ｓ）， ７．８９ （２Ｈ， ｄ）， ７．９８－８．００ （２Ｈ， ｍ）， ８．０５－８．１０ （２Ｈ， ｍ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔４"－フェニルナフタレン－１"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（８４．６ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５７０ｍｌ、蒸留水２４ｍｌおよび濃塩酸７．０ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４７．９５ｇを得た。収率８６％、ＨＰＬＣ純度９９．０％、ｍ．ｐ．２７１．４℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．３４ （４Ｈ， ｔ）， ２．９５ （４Ｈ， ｄｔ）， ４．２４ （２Ｈ， ｔ）， ７．５１－７．６３ （２０Ｈ， ｍ）， ７．７２ （２Ｈ， ｓ）， ７．９０－７．９３ （２Ｈ， ｍ）， ７．９９－８．０１ （２Ｈ， ｍ）， ８．０８ （２Ｈ， ｄ）

（実施例１０）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ジメチル－９Ｈ－フルオレン－２－イルボロン酸６５．４７ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７６．６７ｇを得た。収率７６％、ＨＰＬＣ純度９１．０％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．２５－１．５０ （１２Ｈ， ｍ）， １．５８ （１２Ｈ， ｓ）， ２．５６ （４Ｈ， ｔ）， ２．８７ （２Ｈ， ｑ）， ３．２３－３．３２ （４Ｈ， ｍ）， ３．５１－３．５７ （２Ｈ， ｍ）， ４．１６ （２Ｈ， ｔ）， ７．３２－７．３９ （４Ｈ， ｍ）， ７．４７ （２Ｈ， ｄｄ）， ７．６２－７．６７ （４Ｈ， ｍ）， ７．６９－７．７２ （４Ｈ， ｍ）， ７．７６－７．８２ （６Ｈ， ｍ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ６００ｍｌ、蒸留水２５ｍｌおよび濃塩酸７ｍｌを使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ビス〔９"，９"－ジメチル－９"Ｈ－フルオレン－２"－イル〕－９Ｈ－フルオレン７０．００ｇ（８９．７ｍｍｏｌ）、メチルセロソルブ５９０ｍｌ、蒸留水２４ｍｌおよび濃塩酸６．８ｍｌを使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物４８．２１ｇを得た。収率８７％、ＨＰＬＣ純度９６．９％、ｍ．ｐ．２７２．３℃、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ１．５５ （１２Ｈ， ｓ）， ２．４２ （４Ｈ， ｔ）， ２．７９ （４Ｈ， ｍ）， ４．１８ （２Ｈ， ｔ）， ７．３３－７．４０ （４Ｈ， ｍ）， ７．５９ （２Ｈ， ｄｄ）， ７．７６－７．７９ （４Ｈ， ｍ）， ７．８８ （２Ｈ， ｄ）， ７．９５ （８Ｈ， ｄｄ）

（実施例１１）
９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－１"イル－９Ｈ－フルオレンの合成
実施例２の工程（ｉｉｉ）において、２－ナフタレンボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、１－ナフタレンルボロン酸４７．２９ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｉｉ）に記載の操作に従い、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフチル－１"－イル－９Ｈ－フルオレン６５．８０ｇを得た。収率７８％、ＨＰＬＣ純度９１．０％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３） δ１．１４－１．４６（ｍ、１２Ｈ）、２．４７（ｔ、４Ｈ）、２．９－３．６（ｍ、８Ｈ）、４．２（ｓ、２Ｈ）、７．５－８．１（ｍ、２０Ｈ）

実施例２の工程（ｉｖ）において、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ビス〔２－（２'－テトラヒドロピラニルオキシ）エチル〕－２，７－ジナフタレン－１"イル－９Ｈ－フルオレン６０．００ｇ（８８．９ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２の工程（ｉｖ）に記載の操作に従い、目的物３５．１３ｇを得た。収率７８％、ＨＰＬＣ純度９５．４％、粘調固体、
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６） δ２．３ （ｔ、４Ｈ）， ２．９ （ｔ、４Ｈ）， ４．２ （２，２Ｈ）， ７．５－８．２（ｍ、２０Ｈ）

（比較合成例１）
実施例１において、ナフタレン－２－ボロン酸を１９．１７ｇ（０．１１ｍｏｌ）使用する代わりに、フェニルボロン酸１３．４１ｇ（０．１１ｍｏｌ）を使用した以外は実施例１に記載の操作に従い、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジジフェニル－９Ｈ－フルオレン１９．９ｇを無色の結晶として得た。

２．ポリカーボネート樹脂の製造
（実施例１２）
実施例１で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（以下、"ＤＰＣ"と略記することがある）８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０^－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を１９ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、同温度同圧力で７０分間反応させた。次に減圧度を１６ｋＰａに調整し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、４０分かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３２３００であり、Ｔｇは１３５℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７６０８であった。

（比較例２）
実施例１２において、実施例１で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジフェニル－９Ｈ－フルオレン１６．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例１２に記載の操作にしたが、ポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は２８３００であり、Ｔｇは１１２℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．６９５９であった。

（実施例１３）
実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"－イル－９Ｈ－フルオレン２０．２６ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０^－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２６０℃、１００ｋＰａで２０分間、２７０℃、１００ｋＰａで３０分間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、同温度同圧力で６０分間反応させた。次に減圧度を１６ｋＰａに調整し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調整し２０分間反応させた後、４０分かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は４２５０であり、Ｔｇは１１５℃、Ｔｍが１７２℃（熱量：１．８７Ｊ／ｇ）の結晶性のポリマーであった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７７０８であった。

（実施例１４）
実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ），ＤＰＣ８．５６ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０^－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後、４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は８４３０であり、Ｔｇは１１８℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７３０であった。

（実施例１５）
実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例５で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス〔３－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン２６．３５ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５２４０であり、Ｔｇは１０５℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７３５であった。

（実施例１６）
実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例６で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ジフェナントレン－９"－イル－９Ｈ－フルオレン２４．２７ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は５５５０であり、Ｔｇは１２６℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１８であった。

（実施例１７）
実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例８で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス（４"－フェノキシフェニル）－９Ｈ－フルオレン２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は４８７０であり、Ｔｇは６７℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１５であった。

（実施例１８）
実施例１４において、実施例３で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン－４"－イル〕－９Ｈ－フルオレン２３．４６ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、実施例９で得られた９，９－ビス（２'－ジドロキシエチル）－２，７－ビス（４"―フェニルナフタレン－１"－イル）－９Ｈ－フルオレン２６．３５ｇ（４０ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１４に記載の操作に従いポリカーボネート樹脂を製造した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は６１７０であり、Ｔｇは１２２℃であり、Ｔｍが２７３℃（熱量：８．８２Ｊ／ｇ）の結晶性のポリマーであった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７９６であった。

（実施例１９）
実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"イル－９Ｈ－フルオレン４．０４ｇ（８ｍｍｏｌ）、９，９－ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン１０．５２ｇ（２４ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ１．３２ｇ（８ｍｍｏｌ）、ＤＰＣ８．５７ｇ（４０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１５μＬ（３×１０^－６モル）を留出装置付きの反応器に装入して、２４０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後、４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３２５００であり、Ｔｇは１３９℃であった。
このポリカーボネート樹脂の屈折率（ｎ６３３）は１．７１３であった。
また、２５０℃で熱プレスしたポリカーボネート樹脂の５００μｍ厚のシートの全光線透過率は８２％であった。

（実施例２０）
実施例４で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ビス〔４－（ナフタレン－２－イル－）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン４．００ｇ（６ｍｍｏｌ）、９，９ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン７．９８ｇ（１８ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ１．３９ｇ（６ｍｍｏｌ）、ＤＰＣ６．５５ｇ（３０ｍｍｏｌ）および０．０２Ｍ－炭酸水素ナトリウム水溶液１０μＬ（２×１０^－６ｍｏｌ）を留出装置付きの反応器に装入して、２７０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２２ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し２０分間反応させた後４０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で７０分間反応させて所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリカーボネート樹脂を抜き出した。
得られたポリカーボネート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は２７８００であり、Ｔｇは１５７℃であった。ポリカーボネート樹脂の外観は無色透明であった。

（実施例２１）
実施例２で得られた９，９－ビス（２'－ヒドロキシエチル）－２，７－ジナフタレン－２"イル－９Ｈ－フルオレン３．０３７５ｇ（６ｍｍｏｌ）、９，９－ビス〔４'－（２"－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕－９Ｈ－フルオレン６．１３８０ｇ（１４ｍｍｏｌ）、２，６－ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステル４．８８５０ｇ（８ｍｍｏｌ）およびチタンテトライソプロポキシド３．７μｌ（Ｔｉとして５０ｐｐｍ）からなる混合物を留出装置付きの反応器に装入して、２８０℃、１００ｋＰａで１時間反応させた。その後、減圧度を２０ｋＰａに調製し、２０分間反応させ、さらに減圧度を１３ｋＰａに調製し、２０分間反応させた後、３０分間かけて減圧度を１３０Ｐａとし、同圧力で３０分間反応させて、所定のトルクになったところで窒素ガスにより真空を放圧して、ポリエステル樹脂を抜き出した。
得られたポリエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は６３００であり、Ｔｇは１１８℃であった。

以上より、本実施形態に係る一般式（１）で表される化合物より得られるポリカーボネート樹脂は、高屈折率を有することが理解できる。

この出願は、２０２０年７月２８日に出願された日本出願特願２０２０－１２７２２１号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (5)

1. 一般式（１）で表される化合物から誘導されるポリカーボネート樹脂であって、
   当該ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、８０℃以上１９０℃以下である、ポリカーボネート樹脂。
   

   

   （一般式（１）中、Ｒ _１ およびＲ _２ は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、
   Ａｒ_１およびＡｒ_２は、独立して、
   

   

   から選ばれる基を表し、Ｒ _３ ～Ｒ_６は、水素原子、炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基を表し、ｏおよびｐは１～４の整数を表す）。
2. 前記一般式（１）中のｏおよびｐは、２である、請求項１に記載のポリカーボネート樹脂。
3. 請求項１または２に記載のポリカーボネート樹脂を含む光学成形体。
4. 光学レンズである請求項３に記載の光学成形体。
5. 光学フィルムである請求項３に記載の光学成形体。