JP7266181B2 - 微粒子製造装置及び微粒子製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、リチウムイオン電池の電極材、触媒材料、食品包装のフィルム材などへのコーティング材、又は電子機器配線などに使用されるインク原料などに利用される、微粒子製造装置及び微粒子製造方法に関するものである。
近年、ナノメートルオーダーの微粒子は、様々なデバイスに応用が検討されている。例えばニッケル(Ni)の金属微粒子は、現在、セラミックコンデンサーに使用されており、次世代のセラミックコンデンサーには、粒径200ナノメートル以下で分散性の良い微粒子の使用が検討されている。
さらに、二酸化シリコンよりも酸素含有率の低い一酸化シリコン(SiO:x=1~1.6)の微粒子は、光学レンズの反射防止膜又は食品包装用のガスバリアフィルムの蒸着材料として活用されている。最近では、リチウムイオン二次電池の負極材料などへの応用が期待されている。
これらナノメートルオーダーの微粒子の一般的な製造方法としては、原料となるバルク材をセラミック又はジルコニア等のビーズと一緒に導入し、機械的粉砕によって材料を微粒子化する方法、又は、材料を溶融及び蒸発させて空気又は水に噴射して微粒子を得る方法、又は、電解若しくは還元など化学的に微粒子を得る方法などがある。中でも、高周波放電、直流、又は交流アーク放電などの熱プラズマ(約10000℃)を利用し、気相中で微粒子を作製する方法は、不純物(コンタミネーション)が少なく、生産された微粒子の分散性が優れる、及び、複数の種類の材料からなる複合微粒子の合成において組成制御が容易である、などの観点から非常に有用である。
図3、図4に、従来例1のマルチアークプラズマを利用した微粒子の製造装置の概略断面図を示す。
反応室301の天井部の中央に電源305のアース端子350に接続したアース電極351が設置され、その外周に3本の棒状電極304が配置されている。それぞれの電極304は、反応室301の中央のアース電極353に向かって電極間隔が狭くなるように調整されている。反応室301には、ガスを導入できるようになっており、材料を還元雰囲気にて微粒子化処理が可能である。各電極304には、交流電源305が接続され、位相の異なる電圧を順次に印加し、それぞれの電極304間又はアース電極351との間でアーク放電316を発生させる。アーク放電316の上部には、微粒子の原料となる材料を投入する装置とともに材料投入配管311が配置され、それぞれの電極304間に発生するアーク放電316に向けて材料を投入する。10000℃以上の高温のアーク放電316によって、投入された材料が蒸発し、発生した反応物質(酸素原子、窒素原子など)と反応し、気相中に急冷されることで、各種化合物の微粒子が生成される。上記反応室301の下側部には、アーク放電316によって生成された微粒子を排出する排出口301a、排出された微粒子を一時的に貯蔵する微粒子回収部303が設けられている。
特開2002-45684号公報
従来例1では、図4に示したように、電極中央にアース電極351があり、各電極304間でアーク放電316が発生するため放電領域が狭い。そのため、材料を蒸発に寄与する放電で発生した高温領域も狭く、処理速度が非常に遅い。また、処理速度向上のためアーク放電316を広げるために、各電極304の傾斜角を保ったまま間隔を広げようとすると、アーク放電316を維持するための放電電圧が上昇し、一周期(16.8ミリ秒)内での電圧変動が大きくなり、放電316が不安定になり、放電316が消えてしまう現象が発生した。
本発明は、上述された従来の課題を考慮し、熱プラズマの放電安定性を高め、微粒子の処理効率を向上、生産量を増加させることができる微粒子製造装置及び微粒子製造方法を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明の1つの態様にかかる微粒子製造装置は、プラズマを発生させ、材料粒子から微粒子を製造する微粒子製造装置であって、
反応室と、
前記反応室の一端側に接続されて、前記材料粒子を前記反応室内に延びた材料供給管の材料供給口から供給する材料供給装置と、
前記材料供給口の周りに配置され、位相が互いに異なる交流電力がそれぞれ印加されて前記反応室内に前記プラズマを発生させる複数の電極と、
前記反応室の他端に接続されて前記微粒子を回収する回収部と、を備え、
前記複数の電極には、多相変換回路を介した交流電力が接続され、
前記複数の電極は、前記反応室の水平面に対して45°以上でかつ90°未満の傾斜を有した6本以上の鉛直上向きの電極であるとともに、
前記プラズマは、前記反応室の前記水平面に対して45°以上でかつ90°未満に傾斜させ配置した前記6本以上の複数の鉛直上向きの電極によって生成されることにより、前記材料粒子の通過方向である前記反応室の中心軸に沿った縦長の放電領域を形成するアーク放電であり、
前記材料供給装置により、前記材料供給口から前記放電領域に向かって前記材料粒子を供給する
前記目的を達成するために、本発明の別の態様にかかる微粒子製造方法は、反応室の放電ガス内において、前記反応室の水平面に対して傾斜した6本以上の複数の鉛直上向きの電極に、交流電源から多相変換回路を介して位相が互いに異なる交流電力を供給することにより熱プラズマを生成し、
前記反応室の一端に接続された材料供給装置の材料供給口から前記熱プラズマの領域内に材料粒子を供給し、
前記材料粒子が前記熱プラズマの前記領域を前記反応室の他端の回収部側に通過するときに、蒸発又は気化して材料ガスとなり、さらに、前記材料ガスが前記熱プラズマの前記領域から抜けた後に、前記材料ガスが急激に冷やされて微粒子が生成される、ことを含
前記熱プラズマは、前記反応室の前記水平面に対して45°以上でかつ90°未満に傾斜させ配置した6本以上の複数の鉛直上向きの電極によって生成されることにより、前記材料粒子の通過方向である前記反応室の中心軸に沿った縦長の放電領域を形成するアーク放電であり、
前記材料粒子を供給するとき、前記材料供給口から前記放電領域に向かって前記材料粒子を供給する


本発明の前記態様によって、商用3相交流電源に多相変換回路を介することで、アース電極を省略し、6本以上の多相交流アーク放電を生成させることができる。これにより、各電極間をつなげてできる放電経路の数は、2倍以上に増加するため各電極での放電が起こりやすくなり、放電が安定し、放電電圧の変動が小さくなる。したがって、傾斜電極においても安定的なアーク放電を得ることができ、熱プラズマの放電安定性を高め、微粒子の処理効率を向上、生産量を増加させることができる微粒子製造装置及び微粒子製造方法を提供することができる。放電が安定化するため、45°以上でかつ90°未満の傾斜電極でも放電が可能になる。これにより、材料粒子がアーク放電の高温領域に滞在する時間を延ばすことができ、材料蒸発を促進させることができ、材料処理効率を上昇させることができる。
本発明における第1実施形態の微粒子製造装置の概略断面図 本発明における第1実施形態の微粒子製造装置の電極近傍の概略平面図 本発明における第1実施形態の微粒子製造装置の3-6多相変換回路の説明図 本発明における第2実施形態の微粒子製造装置の電極近傍の概略平面図 本発明における第2実施形態の微粒子製造装置の3-12多相変換回路の説明図 従来例1の微粒子製造装置の概略断面図 従来例1の微粒子製造装置の電源部と電極の結線図
以下、図面を参照しながら、本発明における実施の形態について詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1Aは、第1実施形態に係わる微粒子製造装置の概略断面図を示す。図1Bは、第1実施形態に係わる微粒子製造装置において電極部分で横方向に切断した状態での概略平面図を示す。図1Cは第1実施形態の微粒子製造装置の3-6多相変換回路を示す。図1A~図1Cで構成された第1実施形態に係わる微粒子製造装置を用いて、一例として、シリコンのナノメートルオーダーの微粒子を製造する例を説明する。
第1実施形態に関わる微粒子製造装置は、少なくとも、反応室1と、材料供給装置10と、複数本の電極4と、生成した微粒子を回収する回収部の一例としての微粒子回収部3とを備えて、反応室1内でアーク放電16を発生させ、材料粒子17から微粒子18を製造するようにしている。反応室1は、接地された円筒状の反応室壁1bで囲まれて構成されている。
複数本の電極4、例えば、6本の電極4は、図1Cに示した多相変換回路60を介した交流電源5と接続し、アーク放電16を生成可能とする。
さらに、第1実施形態の微粒子製造装置では、前記構成に加えて、反応室1に、材料供給管11と、材料粒子17及び材料が気化した原料ガスの流れを制御する放電ガス供給管14と、気化した原料ガスを冷却する冷却ガス供給管15とが設置されている。また、微粒子回収部3の後段の下流側には、圧力調整バルブ6と、排気ポンプ7とを設けて、反応室1内の圧力を調整できる構成になっている。
以下、構成について、詳細に説明する。
材料供給装置10は、反応室1の底部下方に配置されて、反応室1の中心軸Zに沿って反応室1の中央に上向きに設置した材料供給管11の上端の材料供給口12から、キャリアガスによって材料粒子17を反応室1内に上向きに供給している。
反応室1の側壁には、図示しない水冷機構を有している。
さらに、反応室1の側壁の内面は、アーク放電16の熱を保持するため、炭素材料からなる円筒状の断熱部材2で覆われた構造になっている。断熱部材2の具体的な1つの実施例としては、断熱部材2の材料として炭素系材料を使用することができるが、作製する微粒子の種類又は使用するデバイスの種類によって、不純物が入りにくい材料(たとえば、セラミック系材料など)を使用しても良い。
放電ガス供給管14は、反応室1の底側の複数の放電ガス供給管であって、反応室1の中心軸Z周りに、反応室1の鉛直上向きに所定間隔毎に放射状に配置されている。具体的には、各放電ガス供給管14は、材料供給口12よりも反応室1の下部側に開口が配置され、ガス供給装置30からガス流量調整器31を介して、放電ガスを供給している。例えば、放電ガス供給管14は、鉛直上向きにガスを供給しているが、これに限られるものではなく、電極4との間の領域で中心部に向かうガス流れが放電ガス供給管14で生成されれば良い。
冷却ガス供給管15は、反応室1の上側の複数の冷却ガス供給管であって、断熱部材2の上側に、反応室1の中央向きに冷却ガス供給可能に反応室1の中心軸Z周りに所定間隔毎に放射状に配置されている。具体的には、冷却ガス供給管15は、電極4よりも反応室1の上部側に開口が配置され、ガス供給装置30からガス流量調整器31を介して、冷却ガスを供給している。例えば、冷却ガス供給管15は、水平面から鉛直上向き30°でかつ水平面から法線方向に冷却ガスを噴出させることで、アーク放電16により蒸発及び気化したガスを効率良く冷却し、作製する微粒子18の粒子径を制御する。
アーク放電16を生成させる金属製の電極4は、図1Cに示した多相変換回路60を介した交流電源5と接続されている。多相変換回路60は、一次コイル側にスター結線、二次コイル側に中間タップを有する変圧器を備えた変換トランスで構成されている。多相変換回路60に商用3相の交流を印加すると、交流電源5-A~5-Fには、それぞれ60°の位相差を有した交流が印加される。交流電源5-A~5-Fで、電流調整を行い、各電極4に印加して、熱プラズマであるアーク放電16を生成する。
このような構成によれば、6相以上の多相交流を使用することで、電圧変動が小さい安定的放電を生成し、維持できる。
アーク放電16を生成させる金属製の電極4は、図1A及び図1Bに示すように、反応室1内に先端が上方向に(例えば、各電極4は反応室1の水平面(この水平面を0°とする。)に対して鉛直上向き45°傾斜)突出した状態で、材料粒子17が流れる方向(例えば下から上向きの方向)から見たときに、反応室1の円周壁に60°間隔で、6本、放射状に配置している。電極4を材料粒子17が流れる方向へ傾斜させることによって、粘性の高い熱プラズマ16に材料粒子17が弾かれる事なく、材料粒子17を熱プラズマ16に導入することや、中央の上昇気流に材料粒子17を乗せることができ、材料粒子17の広がりを抑制することができる。さらに、電極4の傾斜角度を反応室1の水平面に対して45°以上でかつ90°未満の範囲で大きくするほど、材料粒子17が流れる方向へアーク放電16の領域を伸ばすことができる。これにより、材料粒子17がアーク放電16の高温領域に滞在する時間を延ばすことができ、材料蒸発を促進させることができる。これにより、材料処理効率を上昇させることができる。逆に、反応室1の水平面に対する電極4の傾斜角を45°より小さくすると、材料が蒸発する高温領域は、放電が面内横方向に大きくなり、材料粒子17の流れる方向に対しては、短くなる。そのため、沸点が高い材料又は粒子径が大きい材料など蒸発させにくい材料では、処理効率が下がってしまう。
また、図1Aに示すように材料供給口12の位置を、電極4の電極先端部20に比べて材料粒子17が流れる方向側に設置することで、より材料供給口12が、より熱プラズマに近接せるため、材料を熱プラズマに供給しやすくなる。
これらの構成により、材料処理効率を上昇させることができる。
電極4は、金属電極で構成され、作製する微粒子18の不純物として金属材料が混ざらないようにするため、図示はしていないが水冷及び冷却ガスを流して、金属電極の蒸発による消耗を低減させている。また、電極4の材料の一例として、高融点金属であるタングステン電極にランタナを数%程度混ぜた材料を使用することができるが、これに代えて、タングステン又はタンタルなどの他の高融点金属、タングステンにトリウム、セリウム又はイットリウムなどを数%混ぜた電極材料又は炭素材料で構成される電極を使用しても良い。
電極4は、それぞれ独立して、モータなどで構成される電極駆動装置8により、反応室1の中心に対して放射線方向に前後移動する可動式に構成している。電極駆動装置8としては、一例として、モータによりボールネジを正逆回転させて、ボールネジに螺合したナット部材に連結された電極4を軸方向に進退させるものである。
微粒子回収部3は、反応室1の上端に接続されて配置され、配管40を通じて排気ポンプ7により排気され、反応室1で生成された微粒子18を回収している。
制御装置100は、電極駆動装置8と、並列化された交流電源5(5-A~5-F)と、材料供給装置10と、圧力調整バルブ6と、排気ポンプ7と、ガス供給装置30と、ガス流量調整器31とのそれぞれの駆動を制御して、微粒子製造装置の製造動作を制御している。
前記したように、複数本の電極4は、反応室1の底面部に配置され、制御装置100の制御の下に制御対象の装置又は部材が駆動されて、反応室1内で熱プラズマ(すなわち、アーク放電)16を発生させ、発生させた熱プラズマ16により、材料供給装置10から供給された材料粒子17から微粒子18を製造している。
前記構成にかかる微粒子製造装置を使用する微粒子製造方法は、
熱プラズマ16を生成し、
材料粒子17を熱プラズマ16に供給し、
微粒子18を生成する、
といった3つのステップで少なくとも構成されている。これらを自動的に実施する場合には、制御装置100の制御の下で、関連する機器を動作制御しつつ実施する。
まず、熱プラズマ16を生成するとき、反応室1内で、材料粒子17が流れる方向に傾斜させて放射状に配置した電極4に、互いに位相が異なる交流電力を交流電源5からそれぞれに印加して、材料粒子17が流れる方向(すなわち、下から上)に向かって縦長の熱プラズマ16を反応室1内に生成する。
次いで、材料粒子17を熱プラズマ16に供給するとき、材料供給装置10の材料供給口12から熱プラズマ16の領域内に材料粒子17を供給する。
次いで、微粒子18を生成するとき、材料粒子17が、熱プラズマ16の領域中を通過するときに、蒸発又は気化して材料ガスとなり、さらに、材料ガスが熱プラズマ16の領域から抜けた瞬間、冷却ガス供給管15からの冷却ガスにより、材料ガスが急激に冷やされて微粒子18を生成する。
以下、この微粒子製造方法について、実際に行う手順に沿って詳しく説明する。
始めに、制御装置100の制御の下で、反応室1と微粒子回収部3と材料供給装置10とを排気ポンプ7によって数Paまで排気することで、大気の酸素の影響を低減させる。
次に、制御装置100の制御の下で、ガス供給装置30からガス流量調整器31を介して、電極4と材料供給装置10と放電ガス供給管14と冷却ガス供給管15とにそれぞれガスを供給し、排気ポンプ7の前段に取付けた圧力調整バルブ6で反応室1内の圧力を調整する。反応室1の下側の放電ガス供給管14からは、鉛直上向きに放電ガスを供給する。
反応室1の上側の冷却ガス供給管15は、複数個の供給口から冷却ガスを反応室1内に供給して、水平面から鉛直上向き30°かつ図1Bに示すように水平面から法線方向に冷却ガスを噴出させることで、アーク放電16により蒸発及び気化したガスを効率良く冷却し、作製する微粒子18の粒子径を制御する。
一例として、この第1実施形態の1つの実施例では、シリコンの微粒子を製造させるため、反応室1内には、ガス供給装置30から放電ガス供給管14と冷却ガス供給管15とを介してアルゴンガスをそれぞれ供給して、反応室1内を、アルゴンの不活性ガス雰囲気の0.3気圧以上1.2気圧以下の所望の圧力に維持して、以下の微粒子製造工程を行った。ここでは、一例として放電ガス及び冷却ガスとして不活性ガスであるアルゴンを使用している。材料の還元を促進させるため、反応室1内に、ガス供給装置30から放電ガス供給管14と冷却ガス供給管15とを介して、微量の水素ガス及び微量の炭化系ガスを混合して導入しても良い。また、同様に材料を酸化、窒化、又は炭化させたり、炭素膜コーティングするために、微量の酸素ガス、窒素ガス、又は炭化系ガスを混合させても良い。
次に、制御装置100の制御の下で、アーク放電16(言い換えれば、熱プラズマ)を生成させる。一例として、アーク放電16を生成させる金属製の電極4は、図1A~図1Bに示すように、反応室1内に先端が上方向に突出した状態で、反応室1の円周壁に60°間隔で6本、配置している。
これらの電極4の隣り合うそれぞれの電極4には、図1Cで示した多相変換回路60を介して交流電源5から位相をずらした交流電力を印加する。一例としては、電極4の6本に、それぞれ位相を60°ずつずらした60Hzの交流電力を印加し、約10000℃の熱プラズマである縦長のアーク放電16を生成する。
制御装置100の制御の下で、アーク放電16を着火させるときには、任意の2本もしくは3本の電極4を電極駆動装置8により反応室1の中心側に移動させた後、前記交流電力を印加する。制御装置100の制御の下で、電極4を電極駆動装置8により反応室1の中心側に移動させることにより、電極4の傾斜角度が反応室1の水平面0°に対して45°以上でかつ90°未満の範囲である本第1実施形態においても、アーク放電16の着火が容易になる。アーク放電16が着火後、制御装置100の制御の下で、其々電極4にかかる電流が一定になるように調整し、其々電極4を放射線方向(放射状に配置した其々電極4の先端同士で形成される円の中心位置から外側に向かう方向)に電極駆動装置8により移動させ、電極4をそれぞれ所望の位置にする。
次に、制御装置100の制御の下で、処理する材料の供給を開始する。一例として、微粒子18の原料となる材料粒子17は、約16ミクロンメートルのシリコン粉末を用い、材料供給装置10内に設置する。この第1実施形態では、一例として、16ミクロンメートルの粒子を使用しているが、プラズマ条件にも依存するが100ミクロン以下の粒子径であれば、熱プラズマ16にて蒸発し、ナノメートルオーダーの微粒子18を製造することは可能である。100ミクロンメートルより大きい粒子径の材料を使用すると、材料を完全に蒸発させることができず、生成される微粒子がミクロンメートルオーダーに大きくなってしまうことがある。
材料供給装置10は、一例として、局部流動式粉末供給装置を用いることができる。この局部流動式粉末供給装置では、キャリアガスの流量と材料を導入した器の回転数とによって材料の供給量を制御して、粉末材料を一定の割合で材料供給管11に送ることができる。材料供給装置10の他の例としては、レーザーなどを用いて、粉末材料の表面とノズルの距離とを制御する表面倣い式粉末供給器、又は、ホッパーなどから溝に定量の粉末材料を供給して吸引する定量式粉末供給器などがある。どの方式の粉末材料供給装置を使用しても良いが、供給する粉末材料の量又は粉末材料の種類又は粒子径によって、粉末材料供給装置の方式を使い分ける。
図1Aに示すように、材料粒子17は、材料供給装置10から材料供給管11に送られ、材料供給口12から反応室1内に導入される。反応室1内に導入された材料粒子17は、アーク放電16の中を通過するときに、蒸発及び気化して材料粒子17はガス化する。
一般に、材料が供給された場所のアーク放電(熱プラズマ)は、材料粒子17の蒸発にプラズマの熱が奪われてしまうため、材料を蒸発させた場所のプラズマの温度が下がってしまう。従来、一般的な誘導結合型プラズマ(ICP)トーチなどの連続的放電に連続的に材料を投入する場合では、材料を多く供給した場合、材料の蒸発によってプラズマの温度が下がってしまい、材料を完全に蒸発させることができず、比較的大きな微粒子が生成されてしまい、粒径分布が悪化してしまう。また、所望の粒子径の微粒子を製造したり、製造した微粒子の粒径分布を良化させるためには、材料の投入量を制限するしかなく、処理量が低下してしまう。
これに対して、第1実施形態で用いた電極4で生成するアーク放電(多相交流アークプラズマ)16は、位相が互いに異なる交流電力を印加しているため、放電がパルス状になっており、常に高温の熱プラズマ16を生成することができる。
アーク放電16又はICPトーチなどの熱プラズマは、粘性気体であるため、ある速度を有した材料粒子17でないと、アーク放電16の中に導入されず、処理されない。このため、前記したように電極4をガス又は材料粒子17が流れる方向に傾斜させておくと、ガス又は放電の流れによって材料粒子17がアーク放電16に導入しやすくなり、処理効率を上げることができる。
最後に、図1Aに示すように、アーク放電16により生成された微粒子18は、放電ガス供給管14からのガスの流れ、アーク放電16による上昇気流又はガスの排気による流れにより微粒子回収部3に運ばれる。図示していないが、微粒子回収部3には、任意の微粒子径以上を分級できるサイクロンと、所望の微粒を回収できるバグフィルタとが取付けられている。また、回収した微粒子を大気に取出す際は、発火の恐れがあるため、大気(酸素を含んだ気体)を1%程度含んだ雰囲気下で数時間放置し、徐酸化処理を行い、大気中に取り出す。
これにより、シリコン微粒子の表面は、数ナノメートルの表面酸化膜を有するため、安全に取出すことが可能になる。これらの上記のプロセスにより、バグフィルタからは10以上300ナノメートル以下のシリコン微粒子を回収することができる。
第1の実施形態では、シリコン(Si)のナノメートルオーダーの微粒子を製造する方法について説明しているが、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、フラーレン又はナノチューブを始めとする炭素物質、若しくは銅(Cu)、鉄(Fe)などの金属、又は、ガラス(SiO)、窒化シリコン(SiN)、炭化シリコン(SiC)、アルミナ(Al)、若しくは窒化ボロン(BN)などの無機系の材料を微粒子生成用材料として微粒子を生成しても良い。また、反応室1に導入するガスと反応させることで、例えば、シリコン材料を用いて、一酸化シリコン(SiO:x=1~1.6)、窒化シリコン(SiN:x=0.1~1.3)又は炭化シリコン(SiC:x=0.1~1)の微粒子を生成しても良い。さらには、内側にシリコンの核を有し、外側には非晶質酸化シリコン、アルミナ、又は炭化シリコンなどで覆われているような複数の材料から構成される複合材料の生成に利用することもできる。
また、第1実施形態は、前記に記載した材料又は他の材料の球状化処理にも使用できる。材料の供給速度を上げたり、材料粒子17の粒子径を大きくすることで、材料粒子17の表面を融点以上の温度に上げ、冷却できるため球状の粒子を生成することができる。
前記第1実施形態によれば、商用3相交流電源に多相変換回路を介することで、アース電極を省略し、6本以上の多相交流アーク放電を生成させることができる。これにより、各電極間をつなげてできる放電経路の数は、2倍以上に増加するため各電極での放電が起こりやすくなり、放電が安定し、放電電圧の変動が小さくなる。したがって、傾斜電極においても安定的なアーク放電を得ることができ、熱プラズマの放電安定性を高め、微粒子の処理効率を向上、生産量を増加させることができる微粒子製造装置及び微粒子製造方法を提供することができる。
この結果、放電が安定化するため、電極4の傾斜角度を反応室1の水平面0°に対して45°以上でかつ90°未満に調整することができ、アーク放電を材料が通過する方向へ伸ばすことができ、材料の通過方向へ縦長の高温領域を有した熱プラズマ16を生成できる。そのため、材料の高温領域の通過時間が長くなり、処理効率を高くすることができる。この結果、材料を大量に処理することができるため、微粒子18の生成量を上げ、低コストで生産することができる。
(第2実施形態)
図2Aは、第2実施形態に係わる微粒子製造装置において電極部分で横方向に切断した状態での概略平面図を示す。図2Bは第2実施形態の微粒子製造装置の3-12多相変換回路61を示す。図1A~図2Bを用いて、第1実施形態と同様、シリコンのナノメートルオーダーの微粒子を製造する例を説明する。
第2実施形態に関わる微粒子製造装置は、少なくとも、反応室1と、材料供給装置10と、図2Bに示した多相変換回路61を介した交流電源5と接続し、アーク放電16を生成する12本の電極4と、生成した微粒子18を回収する回収部の一例としての微粒子回収部3とを備えて、反応室1内でアーク放電16を発生させ、材料粒子17から微粒子18を製造するようにしている。
以下、構成について、第1実施形態との違いを詳細に説明する。
アーク放電16を生成させる金属製の電極4は、図2Bに示した多相変換回路61を介した交流電源5と接続されている。多相変換回路61は、一次コイル側にスター結線、二次コイル側に中間タップを有する変圧器を備えた変換トランスと、一次コイル側がデルタ結線され二次側に中間タップを有する変換トランスの並列二段で構成されている。商用3相の交流を印加すると、交流電源5-A~5-Lには、それぞれ30°の位相差を有した交流電源に印加される。交流電源5で、それぞれ30°位相差を持った交流の電流を調整して、各電極4に印加して熱プラズマであるアーク放電16を生成する。12相の多相交流を使用することで、第1実施形態で示した6相多相交流よりも、さらに電圧変動が少なく、安定的な放電を生成できる。
アーク放電16を生成させる金属製の電極4は、図1A及び図2Aに示すように、反応室1内に先端が上方向に(例えば、各電極4は反応室1の水平面に対して鉛直上向きに45°傾斜)突出した状態で、材料粒子17が流れる方向(例えば下から上向きの方向)から見たときに、反応室1の円周壁に30°間隔で、12本、放射状に配置することができる。12本の多相交流を用いることで、材料粒子17が流れる方向への放電広がりを維持したまま、面内方向にも放電拡張できるため、更なる処理効率向上と処理速度の向上が見込まれる。
前記第2実施形態によれば、商用3相交流電源5に多相変換回路61を介することで、アース電極を省略し、12本以上の多相交流アーク放電を生成させることができる。これにより、各電極4間をつなげてできる放電経路の数は、2倍以上に増加するため各電極4での放電がより起こりやすくなり、放電がより安定し、放電電圧の変動がより小さくなる。したがって、傾斜電極4においてもより安定的なアーク放電を得ることができ、熱プラズマ16の放電安定性をより高め、微粒子18の処理効率をより向上させ、生産量をより増加させることができる。
一例として前記第1及び第2実施形態では、6本の電極と12本の電極とを放射状に配置した例を説明したが、電極数は6の倍数であればよいため、電極本数を増やしたり、又は、12本の電極を2段構造、3段以上の更なる多段化した電極配置にしても良い。このような構成の電極により発生させるプラズマの例としての多相交流アークプラズマは、他の熱プラズマを発生させる方法に比べて電極配置の自由度が高いため、材料粒子17を蒸発させるアーク放電(熱プラズマ)16の大きさ又は形状を自由に設計することができる。そのため、多相交流アークプラズマとしては、縦長放電にしたり、平面的に面積の大きな放電にしたり、処理に合わせた任意の放電形状にすることができ、処理効率の向上又は処理量の増大させることが可能である。
なお、前記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。
本発明の前記態様における微粒子製造装置及び微粒子製造方法は、材料の処理効率を高めかつ大量に処理することができ、微粒子を低コストで生産することができる。そのため、本発明の前記態様は、リチウムイオン二次電池又はセラミックコンデンサーなど大量生産が要望されるデバイスに使用される微粒子製造装置及び微粒子製造方法として有用である。
1 反応室
2 断熱部材
3 微粒子回収部
4 電極
5 交流電源
6 圧力調整バルブ
7 排気ポンプ
8 電極駆動装置
10 材料供給装置
11 材料供給管
12 材料供給口
13 カバー
14 放電ガス供給管
15 冷却ガス供給管
16 アーク放電
17 材料粒子
18 微粒子
20 電極先端
30 ガス供給装置
31 ガス流量調整器
40 配管
41 放電領域
50 アース端子
51 アース電極
60、61 多相変換回路
100 制御装置

Claims (5)

  1. プラズマを発生させ、材料粒子から微粒子を製造する微粒子製造装置であって、
    反応室と、
    前記反応室の一端側に接続されて、前記材料粒子を前記反応室内に延びた材料供給管の材料供給口から供給する材料供給装置と、
    前記材料供給口の周りに配置され、位相が互いに異なる交流電力がそれぞれ印加されて前記反応室内に前記プラズマを発生させる複数の電極と、
    前記反応室の他端に接続されて前記微粒子を回収する回収部と、を備え、
    前記複数の電極には、多相変換回路を介した交流電力が接続され、
    前記複数の電極は、前記反応室の水平面に対して45°以上でかつ90°未満の傾斜を有した6本以上の鉛直上向きの電極であるとともに、
    前記プラズマは、前記反応室の前記水平面に対して45°以上でかつ90°未満に傾斜させ配置した前記6本以上の複数の鉛直上向きの電極によって生成されることにより、前記材料粒子の通過方向である前記反応室の中心軸に沿った縦長の放電領域を形成するアーク放電であり、
    前記材料供給装置により、前記材料供給口から前記放電領域に向かって前記材料粒子を供給する、
    微粒子製造装置。
  2. 前記材料供給口は、前記複数の電極の先端よりも回収部側に配置されている請求項1に記載の微粒子製造装置。
  3. 前記複数の電極のうち少なくとも2本の電極が、前記反応室の前記中心軸に向けて移動可能に構成されている、請求項1又は2に記載の微粒子製造装置。
  4. 反応室の放電ガス内において、前記反応室の水平面に対して傾斜した6本以上の複数の鉛直上向きの電極に、交流電源から多相変換回路を介して位相が互いに異なる交流電力を供給することにより熱プラズマを生成し、
    前記反応室の一端に接続された材料供給装置の材料供給口から前記熱プラズマの領域内に材料粒子を供給し、
    前記材料粒子が前記熱プラズマの前記領域を前記反応室の他端の回収部側に通過するときに、蒸発又は気化して材料ガスとなり、さらに、前記材料ガスが前記熱プラズマの前記領域から抜けた後に、前記材料ガスが急激に冷やされて微粒子が生成される、ことを含
    前記熱プラズマは、前記反応室の前記水平面に対して45°以上でかつ90°未満に傾斜させ配置した6本以上の複数の鉛直上向きの電極によって生成されることにより、前記材料粒子の通過方向である前記反応室の中心軸に沿った縦長の放電領域を形成するアーク放電であり、
    前記材料粒子を供給するとき、前記材料供給口から前記放電領域に向かって前記材料粒子を供給する、
    微粒子製造方法。
  5. 前記材料粒子を供給するとき、前記複数の電極の先端よりも前記反応室の他端側に配置された前記材料供給口から、前記放電領域に向かって材料供給する、請求項に記載の微粒子製造方法。
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