JP7263120B2 - 表示装置及び表示パネル - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、表示装置及び表示パネルに関する。
近年、種々の形状の表示装置が提案されている。一例では、映像表示部と透明表示部との間に遮光部を有する液晶表示装置が開示されている。その他の例では、表示部と、カメラに重なる透明部と、を有する液晶表示装置が開示されている。
本実施形態の目的は、製造歩留まりの改善が可能な表示装置及び表示パネルを提供することにある。
本実施形態によれば、
第1基板と、第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板を貫通した貫通孔と、前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、前記対向領域は、平面視で前記貫通孔の外側に位置し画像を表示する表示領域と、前記貫通孔と前記表示領域との間に位置し前記貫通孔を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、前記第2基板は、前記額縁領域に位置する遮光層及び着色層を備え、前記遮光層は、前記貫通孔に沿って閉じた環状に形成され前記第1基板から前記第2基板に向かって貫通した第1溝部を有し、前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示装置が提供される。
第1基板と、第2基板と、前記第1基板及び前記第2基板を貫通した貫通孔と、前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、前記対向領域は、平面視で前記貫通孔の外側に位置し画像を表示する表示領域と、前記貫通孔と前記表示領域との間に位置し前記貫通孔を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、前記第2基板は、前記額縁領域に位置する遮光層及び着色層を備え、前記遮光層は、前記貫通孔に沿って閉じた環状に形成され前記第1基板から前記第2基板に向かって貫通した第1溝部を有し、前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示装置が提供される。
本実施形態によれば、
第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、前記対向領域は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の内側に位置する孔加工領域と、前記表示領域と前記孔加工領域との間に位置し前記孔加工領域を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、前記第2基板は、前記額縁領域に位置する第1溝部と、前記孔加工領域に位置し前記第1溝部から離れた第2溝部と、を有する遮光層と、着色層と、を備え、前記第1溝部は、前記孔加工領域に沿って閉じた環状に形成され、前記第2溝部は、前記第1溝部に沿って環状に形成され、前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示パネルが提供される。
第1基板と、第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、前記対向領域は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の内側に位置する孔加工領域と、前記表示領域と前記孔加工領域との間に位置し前記孔加工領域を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、前記第2基板は、前記額縁領域に位置する第1溝部と、前記孔加工領域に位置し前記第1溝部から離れた第2溝部と、を有する遮光層と、着色層と、を備え、前記第1溝部は、前記孔加工領域に沿って閉じた環状に形成され、前記第2溝部は、前記第1溝部に沿って環状に形成され、前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示パネルが提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、一実施形態の電子機器100の断面図である。一例では、第1方向X、第2方向Y、及び、第3方向Zは、互いに直交しているが、90度以外の角度で交差していてもよい。本明細書において、第3方向Zを示す矢印の先端側の位置を上と称し、矢印の先端とは逆側の位置を下と称する。また、上から下に向かって、第1方向X及び第2方向Yで規定されるX-Y平面に向かって見ることを平面視という。
図1に示すように、電子機器100は、表示装置DSPと、照明装置ILと、受光素子PAと、を備えている。
表示装置DSPは例えば液晶表示装置などの表示パネルPNLと独立した光源を必要とする表示装置や、有機EL(Electro Luminescence)表示装置やマイクロLED(Light Emitting Diode)などの自発光型の表示装置であっても良く、電気泳動表示装置であっても良い。以降の実施形態では液晶表示装置を例に説明する。
表示装置DSPは、透明基板CGと、表示パネルPNLと、を備えている。
表示パネルPNLは、第1基板SUB1と、第2基板SUB2と、光学素子OD1と、光学素子OD2と、を備えている。表示パネルPNLは、貫通孔THと、対向領域FAと、を有している。貫通孔THは、第3方向Zにおいて第1基板SUB1及び第2基板SUB2それぞれを貫通した貫通孔である。図示した例では、貫通孔THは、光学素子OD1、第1基板SUB1、遮光層BMP、第2基板SUB2及び光学素子OD2のそれぞれを貫通している。対向領域FAは、第1基板SUB1と第2基板SUB2とが対向している領域である。
表示パネルPNLは、第1基板SUB1と、第2基板SUB2と、光学素子OD1と、光学素子OD2と、を備えている。表示パネルPNLは、貫通孔THと、対向領域FAと、を有している。貫通孔THは、第3方向Zにおいて第1基板SUB1及び第2基板SUB2それぞれを貫通した貫通孔である。図示した例では、貫通孔THは、光学素子OD1、第1基板SUB1、遮光層BMP、第2基板SUB2及び光学素子OD2のそれぞれを貫通している。対向領域FAは、第1基板SUB1と第2基板SUB2とが対向している領域である。
第2基板SUB2は遮光層BMPを備えている。遮光層BMPは、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に位置している。偏光板PL1を含む光学素子OD1は、第1基板SUB1に接着されている。偏光板PL2を含む光学素子OD2は、第2基板SUB2に接着されている。なお、光学素子OD1及びOD2は、必要に応じて位相差板、散乱層、反射防止層などを備えていてもよい。
透明基板CGは、透明接着層ADによって表示パネルPNLに接着されている。透明基板CGは、遮光層BMCを備えている。図示した例では、遮光層BMCは、透明基板CGの下面に設けられ、第3方向Zにおいて遮光層BMPに重なっている。透明基板CGは、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などである。
照明装置ILは、表示パネルPNLを照明するものである。図示した例では、照明装置ILは、第3方向Zにおいて貫通孔THに重なる貫通孔を有している。
受光素子PAは、一例としてカメラである。なお、受光素子PAは、一例として、可視光を検出するもの、赤外線を検出するもの、検出対象物の近接をセンシングする近接センサ、検出対象物から反射された赤外線を検出する検出素子などや、それぞれを組み合わせたものでもよい。受光素子PAは、第3方向Zにおいて、貫通孔TH内に設けられ、透明基板CGに覆われている。受光素子PAは、透明基板CGを介して受光する。
図2は、図1に示した表示装置DSPの平面図である。
図2に示すように、表示装置DSPは、さらに、配線基板F1とICチップ1とを備えている。
図2に示すように、表示装置DSPは、さらに、配線基板F1とICチップ1とを備えている。
第1基板SUB1は、第2方向Yにおいて対向領域FAと並んだ延出領域EAを有している。第2基板SUB2は、平面視で、対向領域FAに重畳し、延出領域EAには重畳していない。対向領域FAは第1基板SUB1と第2基板SUB2とが重なり合う表示パネルPNLの2枚部分、延出領域EAは第1基板SUB1が第2基板SUB2から露出する表示パネルPNLの1枚部分ということも出来る。
第1基板SUB1は、第1方向Xに沿って延出した端部E11及びE12と、第2方向Yに沿って延出した端部E13及びE14とを有している。第2基板SUB2は、第1方向に沿って延出した端部E21及びE22と、第2方向Yに沿って延出した端部E23及びE24とを有している。端部E22は、対向領域FAと延出領域EAとの境界に沿った基板端に相当する。つまり、対向領域FAは、平面視で、端部E11、端部E22、端部E13、端部E14によって囲まれた領域に相当する。延出領域EAは、平面視で、端部E12と端部E22との間の領域に相当する。
第1基板SUB1は、第1方向Xに沿って延出した端部E11及びE12と、第2方向Yに沿って延出した端部E13及びE14とを有している。第2基板SUB2は、第1方向に沿って延出した端部E21及びE22と、第2方向Yに沿って延出した端部E23及びE24とを有している。端部E22は、対向領域FAと延出領域EAとの境界に沿った基板端に相当する。つまり、対向領域FAは、平面視で、端部E11、端部E22、端部E13、端部E14によって囲まれた領域に相当する。延出領域EAは、平面視で、端部E12と端部E22との間の領域に相当する。
対向領域FAは、画像を表示する表示領域DAと、表示領域DAを囲む額縁状の非表示領域NDAと、額縁領域FRAと、を含んでいる。表示領域DAは、平面視で貫通孔THの外側に位置している。額縁領域FRAは、平面視で貫通孔THと表示領域DAとの間に位置し貫通孔THを囲む額縁状である。額縁領域FRAは、貫通孔THの外側に隣接し閉じた環状である。図示した例では、貫通孔THは真円であるが、楕円等の他の円形や円形以外の多角形であってもよい。
表示領域DAは、第1方向(列方向)X及び第2方向(行方向)Yにマトリクス状(行列状)に配置された複数の画素PXを備えている。ここでの画素PXとは、画素信号に応じて個別に制御することができる最小単位を示し、副画素と称する場合がある。画素PXは、例えば、赤色を表示する赤画素、緑色を表示する緑画素、青色を表示する青画素、または、白色を表示する白画素のいずれかである。
非表示領域NDAは、対向領域FAにおける表示領域DAの外側及び延出領域EAに相当する。ICチップ1及び配線基板F1は、表示パネルPNLからの信号を読み出す場合もあるが、主として表示パネルPNLに信号を供給する信号源として機能する。ICチップ1は、配線基板F1に実装され、配線基板F1に電気的に接続されている。なお、ICチップ1は、延出領域EAに実装され、延出領域EAに電気的に接続されていてもよい。ICチップ1は、画像を表示する画像表示モードにおいて画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバDDを内蔵している。また、図示した例では、ICチップ1は、表示装置DSPへの物体の接近又は接触を検出するタッチセンシングモードを制御するタッチコントローラTCNを内蔵している。図中において、ディスプレイドライバDD及びタッチコントローラTCNは点線で示している。配線基板F1は、折り曲げ可能なフレキシブルプリント基板である。
表示パネルPNLは、さらに液晶層LCと、シールSEと、シールFSEと、を備えている。シールSEは非表示領域NDAに位置し、シールFSEは額縁領域FRAに位置している。第1基板SUB1及び第2基板SUB2は、シールSE及びFSEによって接着されている。液晶層LCは、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に保持され、シールSE及びFSEによって封止されている。液晶層LCは、額縁領域FRA及び表示領域DAのそれぞれにわたって設けられている。図2において、シールSE及びFSEはそれぞれ右上がりの斜線で示し、液晶層LCは右下がりの斜線で示している。
本実施形態の表示パネルPNLは、第1基板SUB1の背面側からの光を選択的に透過させることで画像を表示する透過表示機能を備えた透過型の表示パネルPNL、第2基板SUB2の前面側からの光を選択的に反射させることで画像を表示する反射表示機能を備えた反射型の表示パネルPNL、あるいは、透過表示機能及び反射表示機能を備えた半透過型の表示パネルPNLいずれであってもよい。
表示パネルPNLの詳細な構成について、ここでは説明を省略するが、表示パネルPNLは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、第1方向X及び第2方向Yで規定されるX-Y平面と平行な面である。
図3は、図2に示した画素PXの基本構成及び等価回路を示す図である。
図3に示すように、複数本の走査線Gは走査線駆動回路GDに接続され、複数本の信号線Sは信号線駆動回路SDに接続されている。走査線G及び信号線Sは、それぞれ、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、クロム(Cr)などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。走査線G及び信号線Sは、それぞれ、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。なお、走査線G及び信号線Sは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、それらの一部が屈曲していてもよい。
図3に示すように、複数本の走査線Gは走査線駆動回路GDに接続され、複数本の信号線Sは信号線駆動回路SDに接続されている。走査線G及び信号線Sは、それぞれ、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、クロム(Cr)などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。走査線G及び信号線Sは、それぞれ、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。なお、走査線G及び信号線Sは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、それらの一部が屈曲していてもよい。
共通電極CEは、複数の画素PXにわたって配置されている。共通電極CEは、電圧供給部CD及び図2に示したタッチコントローラTCNに接続されている。画像表示モードにおいては、電圧供給部CDは、共通電極CEにコモン電圧(Vcom)を供給する。タッチセンシングモードにおいては、タッチコントローラTCNは、コモン電圧とは異なるタッチ駆動電圧を共通電極CEに供給する。
各画素PXは、スイッチング素子SW、画素電極PE、共通電極CE、液晶層LC等を備えている。スイッチング素子SWは、例えば薄膜トランジスタ(TFT)によって構成され、走査線G及び信号線Sと電気的に接続されている。走査線Gは、第1方向Xに並んだ画素PXの各々におけるスイッチング素子SWと電気的に接続されている。信号線Sは、第2方向Yに並んだ画素PXの各々におけるスイッチング素子SWと電気的に接続されている。走査線Gには、スイッチング素子SWを制御するための制御信号が供給される。信号線Sには、制御信号とは異なる信号として、映像信号が供給される。画素電極PEは、スイッチング素子SWと電気的に接続されている。液晶層LCは、画素電極PEと共通電極CEとの間に生じる電界によって駆動されている。容量CSは、例えば、共通電極CEと同電位の電極、及び、画素電極PEと同電位の電極の間に形成される。
図4は、図1に示した表示装置DSPの一構成例を示す断面図である。図示した例は、横電界を利用する表示モードの一つであるFFS(Fringe Field Switching)モードが適用された例に相当する。
図4に示すように、第1基板SUB1は、絶縁基板10、絶縁層11乃至16、半導体層SC、信号線S、金属配線ML、共通電極CE、画素電極PE、配向膜AL1などを備えている。絶縁基板10は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。絶縁層11は、絶縁基板10の上に位置している。半導体層SCは、絶縁層11の上に位置し、絶縁層12によって覆われている。半導体層SCは、例えば、多結晶シリコンによって形成されているが、アモルファスシリコンや酸化物半導体によって形成されていてもよい。絶縁層12は、絶縁層13によって覆われている。図3に示した走査線Gは、絶縁層12及び13の間に位置している。絶縁層14は、第1部14Aを有している。絶縁層15は、第3部15Aを有している。信号線Sは、絶縁層13の上に位置し、第1部14Aによって覆われている。金属配線MLは、第1部14Aの上に位置し、第3部15Aによって覆われている。金属配線MLは、例えば、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、クロム(Cr)などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。金属配線MLは、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。金属配線MLは、それぞれ信号線Sと平行に延出し、信号線Sの直上に位置している。
図4に示すように、第1基板SUB1は、絶縁基板10、絶縁層11乃至16、半導体層SC、信号線S、金属配線ML、共通電極CE、画素電極PE、配向膜AL1などを備えている。絶縁基板10は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。絶縁層11は、絶縁基板10の上に位置している。半導体層SCは、絶縁層11の上に位置し、絶縁層12によって覆われている。半導体層SCは、例えば、多結晶シリコンによって形成されているが、アモルファスシリコンや酸化物半導体によって形成されていてもよい。絶縁層12は、絶縁層13によって覆われている。図3に示した走査線Gは、絶縁層12及び13の間に位置している。絶縁層14は、第1部14Aを有している。絶縁層15は、第3部15Aを有している。信号線Sは、絶縁層13の上に位置し、第1部14Aによって覆われている。金属配線MLは、第1部14Aの上に位置し、第3部15Aによって覆われている。金属配線MLは、例えば、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、銅(Cu)、クロム(Cr)などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成されている。金属配線MLは、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。金属配線MLは、それぞれ信号線Sと平行に延出し、信号線Sの直上に位置している。
共通電極CEは、第3部15Aの上に位置し、絶縁層16によって覆われている。画素電極PEは、絶縁層16の上に位置し、配向膜AL1によって覆われている。画素電極PEの各々は、絶縁層16を介して、共通電極CEと対向している。共通電極CE及び画素電極PEは、例えば、ITOやIZOなどの透明な導電材料によって形成されている。画素電極PEは、線状電極であり、共通電極CEは、複数の画素PXにわたって共通に設けられた平板状の電極である。なお、画素電極PEを平板状の電極とし、画素電極PEと液晶層LCとの間に線状の共通電極を設ける構造であってもよい。
絶縁層11、絶縁層12、絶縁層13及び16は、シリコン酸化物(SiO)、シリコン窒化物(SiN)、シリコン酸窒化物(SiON)などの無機絶縁材料によって形成された無機絶縁層である。絶縁層16は、例えば、シリコン窒化物によって形成されている。絶縁層11、絶縁層12、絶縁層13及び16は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。絶縁層14及び15は、例えば、アクリル樹脂などの有機絶縁材料によって形成された有機絶縁層である。
第2基板SUB2は、絶縁基板20と、着色層CFと、遮光層BMと、透明層OCと、配向膜AL2とを備えている。絶縁基板20は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。着色層CF、遮光層BM、及び、透明層OCは、絶縁基板20と液晶層LCとの間に位置している。配向膜AL2は、液晶層LCに接している。配向膜AL1及びAL2は、例えば、水平配向性を呈する材料によって形成されている。透明層OCは、着色層CF及び遮光層BMを覆っている。透明層OCは、例えば、透明な有機絶縁層である。なお、図示した例では、着色層CFは、第2基板SUB2に設けられたが、第1基板SUB1に設けられてもよい。着色層CFは、赤色層CFR、緑色層CFG、及び、青色層CFBを含んでいる。緑色層CFGは、画素電極PEと対向している。赤色層CFR及び青色層CFBも、それぞれ図示しない他の画素電極PEと対向している。
液晶層LCは、第1基板SUB1及び第2基板SUB2の間に位置し、配向膜AL1と配向膜AL2との間に保持されている。液晶層LCは、液晶分子LMを備えている。液晶層LCは、ポジ型(誘電率異方性が正)の液晶材料、あるいは、ネガ型(誘電率異方性が負)の液晶材料によって構成されている。
このような表示パネルPNLにおいては、画素電極PEと共通電極CEとの間に電界が形成されていないオフ状態において、液晶分子LMは、配向膜AL1及びAL2の間で所定の方向に初期配向している。このようなオフ状態では、照明装置ILから表示パネルPNLに向けて照射された照明光は、光学素子OD1及びOD2によって吸収され、暗表示となる。一方、画素電極PEと共通電極CEとの間に電界が形成されたオン状態においては、液晶分子LMは、電界により初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。このようなオン状態では、照明装置ILからの照明光の一部は、光学素子OD1及びOD2を透過し、明表示となる。
次に、図5及び図6を参照しながら、貫通孔THの周辺における信号線S及び金属配線MLの配置について説明する。
図5は、図2に示す貫通孔TH周辺の信号線Sを拡大した平面図である。
図5に示すように、額縁領域FRAは仮領域RAを含んでいる。仮領域RAは貫通孔THの外側に位置している。仮領域RAは、貫通孔THに隣接し閉じた環状の領域である。例えば、仮領域RAは、表示パネルPNLに貫通孔THを設ける際の製造誤差を考慮して設けられた領域である。このため、仮領域RAには、走査線G、信号線S及び金属配線MLは設けられていない。
図5に示すように、額縁領域FRAは仮領域RAを含んでいる。仮領域RAは貫通孔THの外側に位置している。仮領域RAは、貫通孔THに隣接し閉じた環状の領域である。例えば、仮領域RAは、表示パネルPNLに貫通孔THを設ける際の製造誤差を考慮して設けられた領域である。このため、仮領域RAには、走査線G、信号線S及び金属配線MLは設けられていない。
複数の信号線Sは、直線部SSと、迂回部SBと、端部SJAと、端部SJBと、を有している。直線部SSは、第2方向Yに沿って延出している部分である。迂回部SBは、額縁領域FRAにおいて貫通孔THを避けるように迂回している部分である。図示した例では、迂回部SBは平面視で貫通孔THの外周に沿って円弧状に延出している。端部SJA及びSJBは、それぞれ額縁領域FRAに位置する信号線Sの端部である。図示した例では、端部SJAと端部SJBは、第2方向Yに平行な同一直線上に位置している。
複数の信号線Sのうち表示領域DAのみに位置する信号線Sは、直線部SSを有している。複数の信号線Sのうち額縁領域FRAに延出する信号線Sの一部は、直線部SSと迂回部SBとを有している。複数の信号線Sのうち額縁領域FRAに延出する信号線Sの一部は、直線部SSと端部SJA又はSJBとを有している。
図6は、図5に示す貫通孔TH周辺の金属配線MLを拡大した平面図である。図6では、複数の金属配線MLのうち額縁領域FRAに位置する金属配線MLのみ図示している。
図6に示すように、額縁領域FRAは、領域MLAを含んでいる。領域MLAは、一点鎖線で囲まれた領域である。領域MLAは、額縁領域FRAにおいて金属配線MLが設けられている領域である。領域MLAは、仮領域RAの外側に隣接し閉じた環状の領域である。
図6に示すように、額縁領域FRAは、領域MLAを含んでいる。領域MLAは、一点鎖線で囲まれた領域である。領域MLAは、額縁領域FRAにおいて金属配線MLが設けられている領域である。領域MLAは、仮領域RAの外側に隣接し閉じた環状の領域である。
複数の金属配線MLは、迂回部MBと、端部MJAと、端部MJBと、を有している。迂回部MBは、貫通孔THを避けるように迂回している部分である。図示した例では、迂回部MBは平面視で貫通孔THの外周に沿って円弧状に延出している。端部MJAと端部MJBは、第2方向Yに平行な同一直線上に位置している。端部MJAは、例えばコンタクトホールを介して図5に示した端部SJAと接続している。同様に、端部MJBは図5に示した端部SJBと接続している。
本実施形態のように表示領域DAに囲まれた領域に貫通孔THを設ける場合、貫通孔THの周辺(額縁領域FRA)に設けられる配線は、貫通孔THを迂回させて配置する必要がある。本実施形態では、複数の信号線Sの一部を異なる層に形成された金属配線MLに乗り換えることができる。このため、信号線Sの一部を金属配線MLに乗り換えずに信号線Sが貫通孔THを迂回する場合と比較して、貫通孔THを迂回させる信号線Sのうち同一層に形成される信号線Sの数を減少させることができ、額縁領域FRAの拡大を抑制し、表示領域DAが狭くならないようにできる。
図7は、図2に示す貫通孔TH周辺の第2基板SUB2を拡大した平面図である。
図7に示すように、第2基板SUB2は、遮光層BMP及び着色層CF1を備えている。
図7に示すように、第2基板SUB2は、遮光層BMP及び着色層CF1を備えている。
遮光層BMPは、額縁領域FRA全域に設けられている。言い換えると、額縁領域FRAは、遮光層BMPが設けられた領域に相当する。遮光層BMPは、溝部GR1を有している。溝部GR1は、貫通孔THに沿って閉じた環状に形成されている。図8で詳述するが、溝部GR1は遮光層BMPを貫通して形成されている。
着色層CF1は、溝部GR1内に位置し、平面視で溝部GR1の全域に設けられている。図7では、着色層CF1は斜線で示している。
着色層CF1は、溝部GR1内に位置し、平面視で溝部GR1の全域に設けられている。図7では、着色層CF1は斜線で示している。
貫通孔THの直径D1は、約3mm~5mmである。遮光層BMPは、幅W1を有している。幅W1は、一例として、平面視で貫通孔THの中心軸から表示領域DAに向かう方向の長さであり、約0.7mm~1mmである。
図8は、図7に示したA1-A2線に沿った表示パネルPNLの断面図である。図8では、配向膜AL1及びAL2の図示を省略している。
図8に示すように、第1基板SUB1は、さらに、金属配線MMと、透明導電層MPと、信号線S1と、金属配線ML1と、を備えている。
図8に示すように、第1基板SUB1は、さらに、金属配線MMと、透明導電層MPと、信号線S1と、金属配線ML1と、を備えている。
絶縁層14は、額縁領域FRA及び表示領域DAにわたって設けられている第1部14Aと、複数の突出部14Eとを有している。複数の突出部14Eは、第1部14Aと貫通孔THとの間に位置し、貫通孔THから表示領域DAに向かう方向に間隔をおいて並んでいる。突出部14Eは、第2基板SUB2に向かって先細る形状に形成され、絶縁層16に覆われている。このため、製造時に配向膜AL1を第1基板SUB1に塗布したとしても、突出部14Eの上端の直上に位置する領域には配向膜AL1は残らないため、絶縁層16が配向膜AL1から露出する。第1基板SUB1と第2基板SUB2とを張り合わせた際に、突出部14Eの上端に位置する絶縁層16は、シールSEと直接接着する。そのため、表示装置DSPは、十分な接着強度で接着可能な領域を形成することができる。
金属配線MMは、絶縁層12の上に位置し、絶縁層13に覆われている。金属配線MMは、例えば走査線Gと同一材料によって形成されている。図示した例では、金属配線MMは、隣り合う突出部14Eとの間に位置している。なお、突出部14Eは、金属配線MMの直上に設けられてもよい。
信号線S1は端部SJAを有している。信号線S1及び複数の迂回部SBは、それぞれ絶縁層13の上に位置し、第1部14Aに覆われている。信号線S1と複数の迂回部SBは、それぞれ離れている。
第3部15Aは、額縁領域FRA及び表示領域DAにわたって設けられている。金属配線ML1は端部MJAを有している。金属配線ML1及び複数の迂回部MBは、第1部14Aの上に位置し、第3部15Aに覆われている。金属配線ML1と複数の迂回部MBは、それぞれ離れている。迂回部MBはそれぞれ迂回部SBの上方に位置している。信号線S1と金属配線ML1は、図示しないコンタクトホールを介して接続している。
第3部15Aは、開口部OP15を有している。開口部OP15は、第3方向Zにおいて貫通した貫通孔である。開口部OP15は、複数の迂回部MB及び金属配線ML1のそれぞれに重ならない位置に設けられている。開口部OP15は、額縁領域FRAのうち領域MLAを除く領域に設けられている(図6)。
第3部15Aは、開口部OP15を有している。開口部OP15は、第3方向Zにおいて貫通した貫通孔である。開口部OP15は、複数の迂回部MB及び金属配線ML1のそれぞれに重ならない位置に設けられている。開口部OP15は、額縁領域FRAのうち領域MLAを除く領域に設けられている(図6)。
透明導電層MPは、額縁領域FRAに位置し、絶縁層16の上に形成されている。透明導電層MPは、例えば、画素電極PEと同一材料により形成され、フローティングで配置されている。
第2基板SUB2は、さらに、着色層CF2と、着色層CF3と、スペーサSP(SP1、SP2、…)と、を備えている。
遮光層BMPは、絶縁基板20と透明層OCとの間に位置している。遮光層BMPは溝部GR1を有しているため、貫通孔THから遮光層BMPに水分が浸入し、遮光層BMPを伝わって水分が表示領域DA側に浸入することを防止できる。また、遮光層BMPを介した表示領域DAへの電荷の移動を遮断できる。これにより、表示パネルPNLの製造工程において、静電気が表示領域DAに集中するのを抑制し、表示パネルPNLが損傷するのを抑制することが可能である。
着色層CF1は溝部GR1に充填され、遮光層BMPの溝部GR1における端部を覆っている。これにより、溝部GR1からの光漏れを抑制する。着色層CF1は、一例として青色である。着色層CF2は、遮光層BMPと透明層OCとの間に位置している。着色層CF3は、額縁領域FRAにおいて遮光層BMPと透明層OCとの間に位置し、表示領域DAにおいて絶縁基板20と透明層OCとの間に位置している。図示した例では、着色層CF3は、遮光層BMPの表示領域DA側の端部を覆っている。
スペーサSPは、例えば、透明層OCの下面に配置され、第1基板SUB1に向かって突出している。スペーサSPは、樹脂材料によって形成されている。スペーサSP1は、貫通孔THの周方向に沿って位置している。スペーサSP2は、着色層CF2、透明層OC、第1部14A及び第3部15Aのそれぞれに重なる位置に設けられている。スペーサSP3は、透明層OC、第1部14A及び第3部15Aのそれぞれに重なる位置に設けられている。これにより、スペーサSP2及びSP3は、それぞれセルギャップを維持するとともに、シールFSEの表示領域DAへの広がりを抑制している。
シールFSEは、額縁領域FRAに位置し、スペーサSP3と貫通孔THとの間に延出している。液晶層LCは、額縁領域FRAにおいてシールFSEに接している。
本実施形態によれば、絶縁層15の第3部15Aは金属配線MLに重ならない位置に開口部OP15を有している。これにより、ディスペンサーによって塗布されるシール材料の量にバラツキが生じたとしても、過剰なシール材量は開口部OP15によって吸収されるため、シールFSEの表示領域DAへの広がりを抑制することができる。
本実施形態において、溝部GR1は第1溝部に相当し、絶縁層14は第1有機絶縁層に相当し、絶縁層15は第2有機絶縁層に相当し、金属配線MLは第1金属配線に相当する。
次に、上記表示装置DSPの製造方法について説明する。
図9は、上記表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、上記貫通孔THを設ける前の表示パネルPNLの額縁領域FRAを示す平面図である。
図9に示すように、表示パネルPNLの製造が開始されると、図7に示した貫通孔THに相当する第1領域1Aを有した表示パネルPNLを用意する。第1領域1Aは、平面視で、表示領域DAの内側に位置している。額縁領域FRAは、表示領域DAと第1領域1Aとの間に位置し、第1領域1Aを囲む額縁状である。第1領域1Aは、孔加工領域や貫通孔形成予定領域と言い換えてもよい。
図9は、上記表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、上記貫通孔THを設ける前の表示パネルPNLの額縁領域FRAを示す平面図である。
図9に示すように、表示パネルPNLの製造が開始されると、図7に示した貫通孔THに相当する第1領域1Aを有した表示パネルPNLを用意する。第1領域1Aは、平面視で、表示領域DAの内側に位置している。額縁領域FRAは、表示領域DAと第1領域1Aとの間に位置し、第1領域1Aを囲む額縁状である。第1領域1Aは、孔加工領域や貫通孔形成予定領域と言い換えてもよい。
遮光層BMPは、平面視で第1領域1Aの全域にも設けられている。遮光層BMPは、額縁領域FRAに位置する溝部GR1と、第1領域1Aに位置する溝部GR2と、を有している。溝部GR1は、第1領域1Aに沿って閉じた環状に形成されている。溝部GR2は、溝部GR1に沿って環状に形成され、溝部GR1から離れている。着色層CF1は、溝部GR1内に位置し、平面視で溝部GR1の全域に設けられている。
スペーサSP1は、額縁領域FRAと第1領域1Aとの境界に位置し、環状に形成されている。図示した例では、スペーサSP1は溝部GR1と溝部GR2との間に位置している。
スペーサSP1は、額縁領域FRAと第1領域1Aとの境界に位置し、環状に形成されている。図示した例では、スペーサSP1は溝部GR1と溝部GR2との間に位置している。
複数の金属配線MMは、平面視で溝部GR2の法線方向に等間隔に並び、それぞれ溝部GR2を囲むように環状に配置されている。金属配線MMは、溝部GR1と溝部GR2との間に位置している。
図10は、図9に示した表示パネルPNLの断面図である。
図10に示すように、表示パネルPNLは、額縁領域FRAにおいて図8で示した額縁領域FRAと同様の構造を有している。第3部15Aは、額縁領域FRAにおいて、複数の迂回部MB及び金属配線ML1のそれぞれに重ならない位置に開口部OP15を有している。液晶層LCは、額縁領域FRAにおいて、シールFSEに接している。なお、液晶層LCは、第1領域1Aには設けられていない。
図10に示すように、表示パネルPNLは、額縁領域FRAにおいて図8で示した額縁領域FRAと同様の構造を有している。第3部15Aは、額縁領域FRAにおいて、複数の迂回部MB及び金属配線ML1のそれぞれに重ならない位置に開口部OP15を有している。液晶層LCは、額縁領域FRAにおいて、シールFSEに接している。なお、液晶層LCは、第1領域1Aには設けられていない。
絶縁層14は、第2部14Bを有している。第2部14Bは、第1領域1Aに位置し、絶縁層12の上に位置している。第2部14Bは、平面視で溝部GR2より内側に位置している。第2部14Bは、突出部14Eから離れている。
絶縁層15は、第4部15Bを有している。第4部15Bは、第2部14Bの上に位置し絶縁層16によって覆われている。
絶縁層15は、第4部15Bを有している。第4部15Bは、第2部14Bの上に位置し絶縁層16によって覆われている。
第2基板SUB2は、さらに第1領域1Aにおいて、複数のスペーサSP4と、着色層CF4と、を備えている。遮光層BMPの溝部GR2は、遮光層BMPを貫通して形成されている。図示した例では、溝部GR2には透明層OCが充填されている。透明層OCは、溝部GR2内において、絶縁基板20に接している。
着色層CF4は、遮光層BMPと透明層OCとの間に位置している。なお、着色層CF4はなくてもよい。複数のスペーサSP4は、遮光層BMPと第4部15Bとの間に位置し、セルギャップを維持している。図示した例では、スペーサSP4は第1基板SUB1から離れているが、スペーサSP4は第1基板SUB1に接していてもよい。
スペーサSP1は、複数の突出部14Eに重なっている。これにより、シールFSEの表示領域DAへの広がりを抑制している。シールFSEは第1領域1Aにも延出している。
スペーサSP1は、複数の突出部14Eに重なっている。これにより、シールFSEの表示領域DAへの広がりを抑制している。シールFSEは第1領域1Aにも延出している。
図11は、図9及び図10に続く上記表示装置DSPの製造方法を説明するための図であり、孔あけ機GRDを用いて表示パネルPNLに貫通孔THを設けている状態を示す断面図である。
図11に示すように、孔あけ機GRDは、孔あけ部DRと、孔拡張部BPと、を有している。孔あけ部DR及び孔拡張部BPは、それぞれ砥石で形成されている。孔あけ部DRの端部は半球状に形成されている。孔拡張部BPは実質的に円柱状であり、円柱の側面が円柱の中心に向かって窪んだ形状をしている。
図11に示すように、孔あけ機GRDは、孔あけ部DRと、孔拡張部BPと、を有している。孔あけ部DR及び孔拡張部BPは、それぞれ砥石で形成されている。孔あけ部DRの端部は半球状に形成されている。孔拡張部BPは実質的に円柱状であり、円柱の側面が円柱の中心に向かって窪んだ形状をしている。
表示パネルPNLは、貫通孔THによって露出した加工面IPFを有している。加工面IPFは、孔拡張部BPの形状に沿ってできる面である。図示した例では、加工面IPFは、Cの字型又は逆Cの字型形状に形成されている。このため、表示装置DSPの搬送時やハンドリング時の衝撃によるシールFSEの破損を抑制することができる。
図12は、図11の製造方法を詳しく説明するための図であり、表示パネルPNLに貫通孔THを設ける製造方法を示す断面図である。
図12(A)に示すように、図11で示した孔あけ部DRによって、平面視で溝部GR2の内側に起点となる貫通孔OPAを設ける。貫通孔OPAを設けた後、図11で示した孔拡張部BPによって、図12(B)で示すように貫通孔OPAを拡張していく。拡張された貫通孔OPAの外周は、溝部GR2に位置している。さらに貫通孔OPAを拡張していき、図12(C)で示すように、貫通孔THを形成する。貫通孔THは、平面視で溝部GR2の内側に位置している。
図12(A)に示すように、図11で示した孔あけ部DRによって、平面視で溝部GR2の内側に起点となる貫通孔OPAを設ける。貫通孔OPAを設けた後、図11で示した孔拡張部BPによって、図12(B)で示すように貫通孔OPAを拡張していく。拡張された貫通孔OPAの外周は、溝部GR2に位置している。さらに貫通孔OPAを拡張していき、図12(C)で示すように、貫通孔THを形成する。貫通孔THは、平面視で溝部GR2の内側に位置している。
本実施形態によれば、遮光層BMPは、額縁領域FRAに位置する溝部GR1と、第1領域1Aに位置する溝部GR2と、を有している。表示パネルPNLを第2基板SUB2から第1基板SUB1に向かって平面視すると、例えば黒色の遮光層BMPの中に、溝部GR1は青色の環として、溝部GR2は白色の環として視認することができる。これにより、表示パネルPNLに貫通孔THを設ける製造工程後に、溝部GR2が残っていたら貫通孔THのサイズが小さい、溝部GR1が残っていなかったら貫通孔THのサイズが大きい、というように貫通孔THの寸法の目視確認を容易にすることができ、生産性を向上することができる。さらに、複数の金属配線MMが、溝部GR1と溝部GR2との間に等間隔に並んでいる。表示パネルPNLを第1基板SUB1から第2基板SUB2に向かって平面視すると、複数の金属配線MMを溝部GR1と溝部GR2との間の目盛として視認することができる。これにより、第1基板SUB1側から表示パネルPNLを目視しても、貫通孔THの寸法の目視確認をすることができる。
また、第2基板SUB2は、第1領域1Aにおいて、第4部15Bと遮光層BMPとの間に位置する複数のスペーサSP4を備えている。これにより、表示パネルPNLの第1領域1Aにおけるセルギャップが維持される。
本実施形態において、溝部GR2は第2溝部に相当し、絶縁層12は第1無機絶縁層に相当し、絶縁層13は第2無機絶縁層に相当し、金属配線MMは第2金属配線に相当する。
以上説明したように、本実施形態によれば、製造歩留まりの改善が可能な表示装置を提供することができる。
なお、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
100…電子機器 DSP…表示装置 SUB1…第1基板 SUB2…第2基板
FA…対向領域 DA…表示領域 FRA…額縁領域 TH…貫通孔
BMP…遮光層 CF…着色層 FSE…シール LC…液晶層
PA…受光素子 1A…孔加工領域
FA…対向領域 DA…表示領域 FRA…額縁領域 TH…貫通孔
BMP…遮光層 CF…着色層 FSE…シール LC…液晶層
PA…受光素子 1A…孔加工領域
Claims (9)
- 第1基板と、
第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板を貫通した貫通孔と、
前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、
前記対向領域は、平面視で前記貫通孔の外側に位置し画像を表示する表示領域と、前記貫通孔と前記表示領域との間に位置し前記貫通孔を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、
前記第2基板は、前記額縁領域に位置する遮光層及び着色層を備え、
前記遮光層は、前記貫通孔に沿って閉じた環状に形成され前記第1基板から前記第2基板に向かって貫通した第1溝部を有し、
前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示装置。 - さらに、前記額縁領域において前記貫通孔に沿って閉じた環状に形成され、前記第1基板と前記第2基板とを接合するシールと、
前記第1基板と前記第2基板との間に位置し、前記表示領域に設けられている液晶層と、を備え、
前記液晶層は、前記シールに接している請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1基板は、
前記額縁領域に第1部を有する第1有機絶縁層と、
前記第1部の上方に形成された第1金属配線と、
前記第1部及び前記第1金属配線の上方に形成され、前記額縁領域において前記第1金属配線に重ならない位置に開口部を有している第2有機絶縁層と、を備えている請求項2に記載の表示装置。 - さらに、前記貫通孔内に位置する受光素子を備えている請求項2に記載の表示装置。
- 第1基板と、
第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板とが対向する対向領域と、を備え、
前記対向領域は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の内側に位置する孔加工領域と、前記表示領域と前記孔加工領域との間に位置し前記孔加工領域を囲む額縁状の額縁領域と、を含み、
前記第2基板は、
前記額縁領域に位置する第1溝部と、前記孔加工領域に位置し前記第1溝部から離れた第2溝部と、を有する遮光層と、
着色層と、を備え、
前記第1溝部は、前記孔加工領域に沿って閉じた環状に形成され、
前記第2溝部は、前記第1溝部に沿って環状に形成され、
前記着色層は、前記第1溝部内に位置し、平面視で前記第1溝部の全域に設けられている表示パネル。 - 前記第1基板は、第1無機絶縁層と、前記第1無機絶縁層の上方に形成された複数の第2金属配線と、前記複数の第2金属配線それぞれを覆い前記第1無機絶縁層に接している第2無機絶縁層と、を備え、
前記複数の第2金属配線は、平面視で、前記第1溝部と前記第2溝部との間に位置し、環状に配置されている請求項5に記載の表示パネル。 - さらに、前記額縁領域において前記孔加工領域に沿って閉じた環状に形成され、前記第1基板と前記第2基板とを接合するシールと、
前記第1基板と前記第2基板との間に位置し、前記額縁領域及び前記表示領域に設けられている液晶層と、を備え、
前記液晶層は、前記額縁領域において、前記シールに接している請求項5に記載の表示パネル。 - 前記第1基板は、
前記額縁領域及び前記表示領域に位置する第1部と、前記孔加工領域に位置し前記第1部から離れた第2部と、を有する第1有機絶縁層と、
前記額縁領域において、前記第1部の上方に形成された第1金属配線と、
前記第1部及び前記第1金属配線の上方に形成された第3部と、前記第2部の上方に形成された第4部と、を有する第2有機絶縁層と、を備え、
前記第3部は、前記額縁領域において、前記第1金属配線に重ならない位置に開口部を有している請求項7に記載の表示パネル。 - 前記第2基板は、前記孔加工領域において、前記第4部と前記遮光層との間に位置する複数のスペーサを備えている請求項8に記載の表示パネル。
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