JP7261794B2 - 薬害軽減剤 - Google Patents

Description

本発明は、薬害軽減剤、薬害軽減組成物、雑草を防除する方法、および除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法に関する。
本願は、２０１８年５月１６日に、日本に出願された特願２０１８－０９４４８３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

雑草は、有益な植物への養分を奪ったり、背丈が伸びて太陽の光を遮ったり、生育不良の原因となる。雑草を防除するために除草剤が使用される。しかし、除草剤は、雑草だけでなく、有益な植物にも害を及ぼすことがある。有益な植物への薬害を軽減しつつ雑草を防除するものとして、フェンクロリム、フェンクロラゾール等のような除草剤用薬害軽減剤が知られている。

本発明に関連する技術として、特許文献１は、テトラゾイルオキシム誘導体を有効成分として含有する植物成長促進剤を開示している。特許文献１は、このテトラゾイルオキシム誘導体を、各種の公知慣用の農園芸用殺菌剤、植物生長調節剤、殺虫剤、殺ダニ剤等の農薬や、肥料等と混合して用いることができると、述べている。しかしながら、除草剤と混用できることも、除草剤による薬害の軽減効果があることも記載されていない。
特許文献２および３は、殺菌剤ヒドロキシモイル－テトラゾール誘導体と、増量剤及び／又は界面活性剤と、殺虫剤、誘引剤、不妊剤、殺細菌剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、成長調節剤、除草剤、肥料、薬害軽減剤及び情報化学物質からなる群から選ばれる少なくとも１つの活性成分を含有する殺菌剤組成物を開示している。しかしながら殺菌剤ヒドロキシモイル－テトラゾール誘導体が薬害軽減効果を発揮するとの記載はなく、また、そのような効果を惹起する記載もない。
特許文献４は、テトラゾイルオキシム誘導体を、各種の公知慣用の農園芸用殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、殺虫剤、殺ダニ剤等の農薬や、肥料等と混合して用いることができると述べている。しかしながら、テトラゾイルオキシム誘導体が薬害軽減効果を発揮するとの記載はなく、また、そのような効果を惹起する記載もない。
このように殺菌剤として知られている化合物が、除草剤による薬害を軽減する効果を有する知見は無い。また、テトラゾイルオキシム誘導体に、除草剤による薬害を軽減する効果を有しているという知見も無い。

ＷＯ２０１０／００１５６３Ａ 特表２０１４－５１２３５８号公報 特表２０１４－５０９５９９号公報 特開２００３－１３７８７５号公報

本発明の課題は、薬害軽減剤、薬害軽減組成物、雑草を防除する方法、および除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法を提供することである。

上記の課題を解決するための手段として、以下の形態を包含する本発明を完成するに至った。

〔１〕 ピカルブトラゾクスを含有して成る、除草剤用薬害軽減剤。
〔２〕 ピカルブトラゾクス、および除草活性成分を含有する、薬害軽減組成物。
〔３〕 界面活性剤をさらに含有する、前記〔２〕に記載の薬害軽減組成物。
〔４〕 有益な植物の栽培の際に、前記〔２〕または〔３〕に記載の薬害軽減組成物を施用することを含む、前記薬害軽減組成物に含まれる除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
〔５〕 有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用すると伴に、ピカルブトラゾクスを施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
〔６〕 有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用し、次いで、ピカルブトラゾクスを施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
〔７〕 有益な植物の栽培の際に、ピカルブトラゾクスを施用し、次いで、除草活性成分を施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
〔８〕 有益な植物が、芝、コムギ、トウモロコシ、ナタネ、イネまたは大豆である、前記〔４〕～〔７〕のいずれかひとつに記載の方法。

本発明の除草剤用薬害軽減剤は、除草剤などに含まれている除草活性成分による有益な植物への害を軽減することができる。
本発明の薬害軽減組成物および除草方法によれば、芝、コムギ、トウモロコシ、ナタネ、イネ、大豆などの有益な植物の成長を阻害せずに、その周辺に繁茂する雑草を防除することができる。

（（Ａ）ピカルブトラゾクス）
本発明の除草剤用薬害軽減剤は、ピカルブトラゾクスを含有してなるものである。
ピカルブトラゾクスは、式（Ｉ）で表される化合物（ＣＡＳ番号５００２０７－０４－５）である。本発明の除草剤用薬害軽減剤は、ピカルブトラゾクスそのままであってもよいし、粉剤、粒剤、水和剤、水溶剤、顆粒水和剤、顆粒水溶剤、フロアブル剤、乳剤等の各種剤型を成した製剤であってもよい。製剤化に当たって、公知の添加剤、担体を用いることができる。製剤化されたピカルブトラゾクスは、市販されたものを用いてもよく、クインテクト（登録商標）顆粒水和剤（２０質量％含有品、日本曹達社製）、ピシロック（登録商標）フロアブル（５質量％含有品、日本曹達社製）、ナエファイン（登録商標）粉剤（０．７質量％含有品、日本曹達社製）等が知られている。

（薬害軽減組成物）
本発明の薬害軽減組成物は、ピカルブトラゾクス、および除草活性成分を含有するものである。
本発明に用いられる除草活性成分は、雑草を防除できるものであれば、特に制限されず、例えば、農園芸用の除草剤などに含有されている成分である。

（（Ｂ）除草活性成分）
除草活性成分の具体例として、
２，４－Ｄ、２，４－ＤＢ、２，４－ＤＰ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ（MCPB-ethyl）、ＭＣＰＰ（mecoprop）、クロメプロップ（clomeprop）等のフェノキシ系；２，３，６－ＴＢＡ、ジカンバ（dicamba）、クロランベン（chloramben）等の安息香酸系；ピクロラム（picloram）、トリクロピル（triclopyr）、クロピラリド（clopyralid）、アミノピラリド（aminopyralid）、フルロキシピル（fluroxypyr）等のピリジンカルボン酸系；キンクロラック（quinclorac）、キンメラック（quinmerac）等のキノリンカルボン酸系、その他ベナゾリン（benazolin）等の植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：インドール酢酸様活性、除草剤抵抗性対策委員会（Herbicide Resistance ActionCommittee）の分類（以下、「HRAC分類」)：Ｏ）；
ナプタラム（naptalam）、ジフルフェンゾピル（diflufenzopyr）等のフタラメートセミカルバゾン系等の植物のオーキシン移動を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：オーキシン移動阻害、HRAC分類：Ｐ）；

クロロトルロン（chlorotoluron）、ジウロン（diuron）、フルオメツロン（fluometuron）、リニュロン（linuron）、イソプロツロン（isoproturon）、テブチウロン（tebuthiuron）、イソウロン（isouron）、シデュロン（siduron）、クロロクスロン（chloroxuron）、クロルブロムロン（chlorbromuron）、ジメフロン（dimefuron）、エチジムロン（ethidimuron）、フェニュロン（fenuron）、メタベンズチアズロン（methabenzthiazuron）、メトブロムロン（metobromuron）、メトキスロン（metoxuron）、モノリニュロン（monolinuron）、ネブロン（neburon）等のウレア系；シマジン（simazine）、アトラジン（atrazine）、アトラトン（atraton）、シメトリン（simetryn）、プロメトリン（prometryn）、ジメタメトリン（dimethametryn）、ヘキサジノン（hexazinone）、メトリブジン（metribuzin）、メタミトロン（metamitron）、テルブチラジン（terbuthylazine）、シアナジン（cyanazine）、アメトリン（ametryn）、シブトリン（cybutryne）、プロパジン（propazine）、デスメトリン（desmetryn）、プロメトン（prometon）、テルブメトン（terbumeton）、テルブトリン（terbutryn）、トリエタジン（trietazine）等のトリアジン系；ブロマシル（bromacil）、レナシル（lenacil）、ターバシル（terbacil）等のウラシル系；プロパニル（propanil）、ペンタノクロール（pentanochlor）等のアニリド系；デスメディファム（desmedipham）、フェンメディファム（phenmedipham）等のカーバメート系；ブロモキシニル（bromoxynil）、アイオキシニル（ioxynil）、ブロモフェノキシム（bromofenoxim）等のヒドロキシベンゾニトリル系；その他ピリデート（pyridate）、クロリダゾン（chloridazon）、ベンタゾン（bentazone）、アミカルバゾン（amicarbazone）、メタゾール（methazole）、ピリダフォル（pyridafol）等の植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：光合成（光化学系ＩＩ）阻害剤、HRAC分類：Ｃ１～Ｃ３）；

それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコート（paraquat）、ジクワット（diquat）等の４級アンモニウム塩系除草活性成分（作用部位：光化学系Ｉ電子変換、HRAC分類：Ｄ）；

クロメトキシフェン（chlomethoxyfen）、ビフェノックス（bifenox）、アシフルオルフェン（acifluorfen）、ホメサフェン（fomesafen）、オキシフローフェン（oxyfluorfen）、ラクトフェン（lactofen）、エトキシフェンエチル（ethoxyfen-ethyl）、フルオログリコフェンエチル（fluoroglycofen-ethyl）、ハロサフェン（halosafen）等のジフェニルエーテル系；クロルフタリム（chlorphthalim）、フルミオキサジン（flumioxazin）、フルミクロラックペンチル（flumiclorac-pentyl）、シニドンエチル（cinidon-ethyl）等の環状イミド系；フルチアセットメチル（fluthiacet-methyl）、チジアジミン（thidiazimin）等のチアジアゾール系；オキサジアルギル（oxadiargyl）、オキサジアゾン（oxadiazon）等のオキサジアゾール系；アザフェニジン（azafenidin）、スルフェントラゾン（sulfentrazone）、カルフェントラゾンエチル（carfentrazone-ethyl）、ベンカルバゾン（bencarbazone）等のトリアゾリノン系；フルアゾレート（fluazolate）、ピラフルフェンエチル（pyraflufen-ethyl）等のフェニルピラゾール系；ベンズフェンジゾン（benzfendizone）、ブタフェナシル（butafenacil）等のピリミジンジオン系；その他ペントキサゾン（pentoxazone）、プロフルアゾール（profluazol）、ピラクロニル（pyraclonil）、フルフェンピルエチル（flufenpyr-ethy）等の植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：プロトポルフィリノーゲン酸化酵素阻害、HRAC分類：Ｅ）；

ピラゾリネート（pyrazolynate）、ピラゾキシフェン（pyrazoxyfen）、ベンゾフェナップ（benzofenap）、トプラメゾン（topramezone）、ピラスルホトール（pyrasulfotole）等のピラゾール系；スルコトリオン（sulcotrione）、メソトリオン（mesotrione）、テフリルトリオン（tefuryltrione）、テムボトリオン（tembotrione）等のトリケトン系；イソキサフルトール（isoxaflutole）、イソキサクロルトール（isoxachlortole）等のイソキサゾール系；その他アミトロール（amitrole）、フルオメツロン（fluometuron）、アクロニフェン（aclonifen）、ノルフルラゾン（norflurazon）、フルリドン（fluridone）、フルルタモン（flurtamone）、ジフルフェニカン（diflufenican）、クロマゾン（clomazone）、ベンゾビシクロン（benzobicyclon）、ピコリナフェン（picolinafen）、ベフルブタミド（beflubutamid）、フルロクロリドン（flurochloridone）等のカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：色素生合成阻害剤、HRAC分類：Ｆ１～Ｆ４）；

ジクロホップメチル（diclofop-methyl）、フラムプロップエムメチル（flamprop-M-methyl）、フルアジホップブチル（ｆluazifop-butyl）、ハロキシホップメチル（haloxyfop-methyl）、キザロホップエチル（quizalofop-ethyl）、シハロホップブチル（cyhalofop-butyl）、フェノキサプロップエチル（fenoxaprop-ethyl）、メタミホップ（metamifop）、クロジナホッププロパルギル（clodinafop-propargyl）、プロパキザホップＰエチル（propaquizafop-P-ethyl）等のアリールオキシフェノキシプロピオン酸系；アロキシジム（alloxydim）、クレトジム（clethodim）、セトキシジム（sethoxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、テプラロキシジム（tepraloxydim）、プロホキシジム（profoxydim）、シクロキシジム（cycloxydim）等のシクロヘキサンジオン系；ピノキサデン（pinoxaden）等のフェニルピラゾリン系等の植物のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼを阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害、HRAC分類：Ａ）；

クロリムロンエチル（chlorimuron-ethyl）、スルホメツロンメチル（sulfometuron-methyl）、プリミスルフロン（primisulfuron-methyl）、ベンスルフロンメチル（bensulfuron-methyl）、クロルスルフロン（chlorsulfuron）、メトスルフロンメチル（metsulfuron-methyl）、シノスルフロン（cinosulfuron）、ピラゾスルフロンエチル（pyrazosulfuron-ethyl）、アジムスルフロン（azimsulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）、リムスルフロン（rimsulfuron）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、イマゾスルフロン（imazosulfuron）、シクロスルファムロン（cyclosulfamuron）、プロスルフロン（prosulfuron）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron）、ハロスルフロンメチル（halosulfuron-methyl）、チフェンスルフロンメチル（thifensulfuron-methyl）、エトキシスルフロン（ethoxysulfuron）、オキサスルフロン（oxasulfuron）、エタメトスルフルロンメチル（ethametsulfuron-methyl）、ヨードスルフロン（iodosulfuron）、スルホスルフロン（sulfosulfuron）、トリアスルフロン（triasulfuron）、トリベヌロンメチル、トリトスルフロン（tritosulfuron）、ホラムスルフロン（foramsulfuron）、トリベニュロンメチル（tribenuron-methyl）、メソスルフロンメチル（mesosulfuron-methyl）、オルトスルファムロン（ohosulfamuron）、トリフルスルフロンメチル（triflusulfuron-methy）、アミドスルフロン（amidosulfuron）、プロピリスルフロン（propyrisulfuron）、ＴＨ－５４７等のスルホニルウレア系；フルメツラム（flumetsulam）、メトスラム（metosulam）、ジクロスラム（diclosulam）、クロランスラムメチル（cloransulam-methyl）、フロラスラム（florasulam）、ペノキススラム（penoxsulam）、ピロクススラム（pyroxsulam）等のトリアゾロピリミジンスルホンアミド系；イマザピル（imazapyr）、イマゼタピル（imazethapyr）、イマザキン（imazaquin）、イマザモックス（imazamox）、イマザメタベンズ（imazamethabenz）、イマザピック（imazapic）等のイミダゾリノン系；ピリチオバック（pyrithiobac）、ビスピリバックナトリウム塩（bispyribac-sodium）、ピリミノバックメチル（pyriminobac-methyl）、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリフタリド（pyriftalid）、ピリミスルファン（pyrimisulfan）等のピリミジニルサリチル酸系；フルカルバゾン（flucarbazone）、プロポキシカルバゾン（propoxycarbazone）、チエンカルバゾンメチル（thiencarbazone-methyl）等のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系等の植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：アセト乳酸合成酵素阻害、HRAC分類：Ｂ）；
グリホサート（glyphosate）、グリホサートアンモニウム塩（glyphosate-ammonium）、グリホサートイソプロピルアミン塩（glyphosate-isopropylammonium）、スルホサート（sulfosate）等のグリシン系等の植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：ＥＰＳＰ合成酵素阻害、HRAC分類：Ｇ）；
グルホシネート（glufosinate）、ビラナホス（bilanafos）等のホスフィン酸系等の植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：グルタミン合成酵素阻害、HRAC分類：Ｈ）；

トリフルラリン（trifluralin）、オリザリン（oryzalin）、ペンディメタリン（pendimethalin）、エタルフルラリン（ethalfluralin）、ベンフルラリン（benfluralin）、プロジアミン（prodiamine）、ブトルアリン（butoralin）、ジニトラミン等のジニトロアニリン系；プロピザミド（propyzamide）、テブタム（tebutam）等のベンズアミド系；アミプロホス（amiprofos-methyl）、ブタミホス（butamifos）等の有機リン系；ジチオピル（dithiopyr）、チアゾピル（thiazopyr）等のピリジン系等の植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：微小管重合阻害、HRAC分類：Ｋ１）；
プロファム（propham）、クロルプロファム（chlorpropham）、カルベタミド（carbetamide）等のフェニルカーバメート系等の植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：有糸分裂／微小管形成阻害、HRAC分類：Ｋ２）；

アラクロール（alachlor）、メタザクロール（metazachlor）、ブタクロール（butachlor）、プレチラクロール（pretilachlor）、メトラクロール（metolachlor）、Ｓ－メトラクロール（S-metolachlor）、テニルクロール（thenylchlor）、ペトキサミド（pethoxamid）、アセトクロール（acetochlor）、プロパクロール（propachlor）、プロピソクロール（propisochlor）、ジメテナミド（dimethenamid）、ジメテナミドＰ（dimethenamid-P）、ジメタクロール（dimethachlor）等のクロロアセトアミド系；ジフェナミド（diphenamid）、ナプロパミド（napropamide）、ナプロアニリド（naproanilide）等のアセトアミド系；フルフェナセット（flufenacet）、メフェナセット（mefenacet）等のオキシアセトアミド系；ピロキサスルホン（pyroxasulfone）等の長鎖脂肪酸阻害剤系；その他フェントラザミド（fentrazamide）、カフェンストロール（cafenstrole）、、アニロホス（anilofos）、ピペロホス（piperophos）等の植物の細胞分裂阻害あるいは超長鎖脂肪酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：VLCFAの阻害、HRAC分類：Ｋ３）；

モリネート（molinate）、ジメピペレート（dimepiperate）、ＥＰＴＣ、ブチレート（butylate）、シクロエート（cycloate）、エスプロカルブ（esprocarb）、オルベンカルブ（orbencarb）、ペブレート（pebulate）、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、チオベンカルブ（thiobencarb）、チオカルバジル（tiocarbazil）、トリアレート（tri-allate）、ベルノレート（vernolate）等のチオカーバメート系；ベンフレセート（benfuresate）、エトフメセート（ethofumesate）等のベンゾフラン系；その他ベンスリド（bensulide）、ＴＣＡ（TCA-sodium）、ダラポン（dalapon）、フルプロパネート（flupropanate）等の植物の脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：脂質合成阻害(非ACCase阻害)、HRAC分類：Ｎ）；および

アシュラム（asulam）等のカーバメート系等の植物の合成酵素を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：ジヒドロプテロイン酸合成酵素阻害、HRAC分類：Ｉ）；
ジノセブ（dinoseb）、ジノテルブ（dinoterb）等のジニトロフェノール系等の植物の膜破壊することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：アンカップリング、HRAC分類：Ｍ）；
フルポキサム（flupoxam）等のトリアゾロカルボキサミド系；ジクロベニル（dichlobenil）、クロルチアミド（chlorthiamid）等のニトリル系；イソキサベン（isoxaben）等のベンズアミド系等の植物の細胞壁合成を阻害することで除草効力を示すとされている除草活性成分（作用部位：細胞壁合成阻害、HRAC分類：Ｌ）；
ＭＳＭＡ、ＤＳＭＡ、エンドタール（endothal）、塩素酸塩（sodium chlorate）、ペラルゴン酸（pelargonic acid）、ホサミンアンモニウム（fosamine-ammonium）、フランプロップイソプロピル（flamprop-isopropyl）、ジフェンゾコート（difenzoquat）、ブロモブチド（bromobutide）、クロルフルレノール（chlorflurenol）、シンメチリン（cinmethylin）、クミルロン（cumyluron）、ダゾメット（dazomet）、ダイムロン（daimuron）、メチルダイムロン（methyldymron）、エトベンザニド（etobenzanid）、メタム（matam）、オキサジクロメホン（oxaziclomefone）、ピリブチカルブ（pyributicarb）、インダノファン（indanofan）、ＨＯＫ－２０１のその他の除草効力を有する除草活性成分（作用部位：作用部位は不明、HRAC分類：Ｚ）などを挙げることができる。

これらのうち、本発明においては、インドール酢酸様活性（HRAC分類：Ｏ）、光合成（光化学系ＩＩ）阻害剤（HRAC分類：Ｃ１～Ｃ３）、プロトポルフィリノーゲン酸化酵素阻害（HRAC分類：Ｅ）、色素生合成阻害剤（HRAC分類：Ｆ１～Ｆ４）、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤（HRAC分類：Ａ）、VLCFAの阻害（HRAC分類：Ｋ３）、アセト乳酸合成酵素阻害（HRAC分類：Ｂ）、ＥＰＳＰ合成酵素阻害（HRAC分類：Ｇ）、グルタミン合成酵素阻害（HRAC分類：Ｈ）、有糸分裂／微小管形成阻害（HRAC分類：Ｋ２）、脂質合成阻害(非ACCase阻害)（HRAC分類：Ｎ）およびその他の効力（HRAC分類：Ｚ）を有する除草活性成分に対する薬害軽減効果が良好であり、
さらに、光合成阻害剤、プロトポルフィリノーゲン酸化酵素阻害、色素生合成阻害剤、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、VLCFAの阻害、アセト乳酸合成酵素阻害、ＥＰＳＰ合成酵素阻害、グルタミン合成酵素阻害、脂質合成阻害(非ACCase阻害)およびその他の効力を有する除草活性成分に対する薬害軽減効果が良好であり、
さらにプロトポルフィリノーゲン酸化酵素阻害、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、VLCFAの阻害、アセト乳酸合成酵素阻害およびその他の効力を有する除草活性成分に対する薬害軽減効果が良好である。

また、有益な植物が芝の場合の除草活性成分（「芝用除草活性成分」）としては、ＭＣＰＰ、Ｓ－メトラクロール、アイオキシニル、アシュラム、アトラジン、アミカルバゾン、アラクロール、イソキサベン、イマザキン、イマゾスルフロン、エトキシスルフロン、エトベンザニド、オキサジアルギル、オキサジクロメホン、オリザリン、カフェンストロール、カルフェントラゾンエチル、クミルロン、グリホサートイソプロピルアミン塩、グルホシネート、クロリムロンエチル、クロルフタリム、シアナジン、シクロスルファムロン、ジチオピル、トリクロピル、トリフルラリン、ナプロパミド、ハロスルフロンメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ピラゾスルフロンエチル、ピラフルフェンエチル、ピリブチカルブ、ピロキサスルホン、ブタミホス、フラザスルフロン、フルフェナセット、フルポキサム、フルミオキサジン、プロジアミン、プロピザミド、フロラスラム、ベンタゾン、ペンディメタリン、ベンフレセート、ホラムスルフロン、メソトリオン、メタミホップ、メトスルフロンメチル、メトラクロール、リムスルフロン、レナシル等を例示することができる。

有益な植物がコムギの場合の除草活性成分（「コムギ用除草活性成分））としては、インダノファン、エスプロカルブ、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、グルホシネート、ジフルフェニカン、チフェンスルフロンメチル、トリフルラリン、ピラフルフェンエチル、フルフェナセット、プロスルホカルブ、プロメトリン、ベンタゾン、ペンディメタリン、リニュロン等を例示することができる。

有益な植物がトウモロコシの場合の除草活性成分（「トウモロコシ用除草活性成分」）としては、Ｓ－メトラクロール、アトラジン、アラクロール、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、ジクワット、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、チフェンスルフロンメチル、トプラメゾン、ニコスルフロン、パラコート、ハロスルフロンメチル、フルチアセットメチル、プロスルホカルブ、プロメトリン、ベンタゾン、ペンディメタリン、メソトリオン、メトラクロール、リニュロン等を例示することができる。

有益な植物がナタネの場合の除草活性成分（「ナタネ用除草活性成分」）としては、グルホシネート、セトキシジム、トリフルラリン等を例示することができる。

有益な植物がイネの場合の除草活性成分（「イネ用除草活性成分」）としては、ＭＣＰＢ、アジムスルフロン、イマゾスルフロン、インダノファン、エスプロカルブ、エトキシスルフロン、エトベンザニド、オキサジアゾン、オキサジアルギル、オキサジクロメホン、カフェンストロール、カルフェントラゾンエチル、クミルロン、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、クロメプロップ、シクロスルファムロン、ジクワット、シハロホップブチル、ジメタメトリン、シメトリン、ダイムロン、テニルクロール、テフリルトリオン、トリフルラリン、パラコート、ハロスルフロンメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ピラクロニル、ピラゾキシフェン、ピラゾスルフロンエチル、ピラフルフェンエチル、ピリフタリド、ピリブチカルブ、ピリミスルファン、ピリミノバックメチル、フェントラザミド、ブタクロール、ブタミホス、プレチラクロール、プロピリスルフロン、プロメトリン、ブロモブチド、ペノキススラム、ベンスルフロンメチル、ベンゾビシクロン、ベンゾフェナップ、ベンタゾン、ペンディメタリン、ペントキサゾン、ベンフレセート、メソトリオン、メタミホップ、メフェナセット、モリネート、塩素酸塩等を例示することができる。

有益な植物が大豆の場合の除草活性成分（「大豆用除草活性成分」）としては、Ｓ－メトラクロール、アラクロール、キザロホップエチル、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートイソプロピルアミン塩、グルホシネート、クレトジム、ジクワット、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、セトキシジム、テプラロキシジム、トリフルラリン、パラコート、ピラフルフェンエチル、フルチアセットメチル、フルミオキサジン、プロメトリン、ベンタゾン、ペンディメタリン、メトラクロール、リニュロン等を例示することができる。

特に具体的な除草活性成分としては、イマゾスルフロン、ピリミノバックメチル、ブロモブチド、ピラゾスルフロンエチル、プロピリスルフロン、ベンスルフロンメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ペノキススラム、カフェンストロール、ピリブチカルブ、ピラクロニル、シハロホップブチル、またはプレチラクロールに対する薬害軽減効果が良好である。

本発明に用いられる除草活性成分は、除草活性成分そのままであってもよいし、粉剤、粒剤、水和剤、水溶剤、顆粒水和剤、顆粒水溶剤、フロアブル剤、乳剤等の各種剤型を成した製剤であってもよい。製剤化に当たって、公知の添加剤、担体を用いることができる。製剤化された除草活性成分は、市販されたものを用いてもよく、市販されたものとしては、テイクオフ（登録商標）粒剤（イマゾスルフロン０．３質量％含有品、住友化学社製）、ヒエクリーン（登録商標）１キロ粒剤（ピリミノバックメチル１．２質量％含有品、クミアイ化学工業社製）、ショキニー（登録商標）２５０グラム（ブロモブチド２４質量％含有品、クミアイ化学工業社製）、シリウス（登録商標）粒剤（ピラゾスルフロンエチル０．０７質量％含有品、日産化学社製）、ゼータワン（登録商標）１キロ粒剤（プロピリスルフロン０．９質量％含有品、住友化学社製）、ザーク（登録商標）粒剤２５（ベンスルフロンメチル０．２５質量％含有品、デュポン・プロダクション・アグリサイエンス社製）、ノミニー（登録商標）液剤（ビスピリバックナトリウム塩２質量％含有品、クミアイ化学工業社製）、ワイドアタック（登録商標）ＳＣ（ペノキススラム３．６質量％含有品、ダウ・ケミカル日本社製）、ＭＩＣクサトリエース（登録商標）Ｌジャンボ（カフェンストロール７質量％含有品、三井化学アグロ社製）、エイゲン（登録商標）水和剤（ピリブチカルブ４７質量％含有品、日本曹達社製）、ピラクロン（登録商標）１キロ粒剤（ピラクロニル１．８質量％含有品、協友アグリ社製）、アグロス（登録商標）クリンチャー１キロ粒剤（シハロホップブチル１．８質量％含有品、住友化学社製）、アグリーン（登録商標）顆粒水和剤（ピラゾスルフロンエチル７０質量％含有品、日産化学社製）、エリジャンＥＷ乳剤（プレチラクロール３８．５質量％含有品、シンジェンタ ジャパン社製）等を例示することができる。

（（Ｃ）界面活性剤）
本発明の薬害軽減組成物には、界面活性剤をさらに含むことが好ましい。界面活性剤は、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分それぞれに含有させた後に混合しても良く、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分を混合させた後に界面活性剤を混合しても良い。界面活性剤を含有させることによって、ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分の水への分散性、雑草への展着性などを向上させることができる。本発明に用いられる界面活性剤は、農薬製剤に用いられる界面活性剤であれば、特に限定されない。界面活性剤の具体例としては、ソルビタン脂肪酸エステル（Ｃ１２～１８）、ＰＯＥソルビタン脂肪酸エステル（Ｃ１２～１８）、ショ糖脂肪酸エステルなどの糖エステル型界面活性剤；ＰＯＥ脂肪酸エステル（Ｃ１２～１８）、ＰＯＥ樹脂酸エステル、ＰＯＥ脂肪酸ジエステル（Ｃ１２～１８）などの脂肪酸エステル型界面活性剤；ＰＯＥアルキルエーテル（Ｃ１２～１８）等のアルコール型界面活性剤；ＰＯＥベンジルフェニルエーテル、ＰＯＥモノスチリルフェニルエーテル、ＰＯＥジスチリルフェニルエーテル、ＰＯＥトリスチリルフェニルエーテル等のＰＯＥアリールエーテル等のエーテル型界面活性剤；ＰＯＥアルキル（Ｃ８～１２）フェニルエーテル、ＰＯＥジアルキル（Ｃ８～１２）フェニルエーテル、ＰＯＥアルキル（Ｃ８～１２）フェニルエーテルホルマリン縮合物などのアルキルフェノール型界面活性剤；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー；アルキル（Ｃ１２～１８）ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマーエーテルなどのポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー型界面活性剤；ＰＯＥアルキルアミン（Ｃ１２～１８）、ＰＯＥ脂肪酸アミド（Ｃ１２～１８）などのアルキルアミン型界面活性剤；ＰＯＥ脂肪酸ビスフェニルエーテルなどのビスフェノール型界面活性剤；ＰＯＡベンジルフェニル（又はフェニルフェニル）エーテル、ＰＯＡスチリルフェニル（又はフェニルフェニル）エーテルなどの多芳香環型界面活性剤；ＰＯＥエーテル及びエステル型シリコン及びフッ素系界面活性剤などのシリコン系、フッ素系界面活性剤；ＰＯＥヒマシ油、ＰＯＥ硬化ヒマシ油などの植物油型界面活性剤；等に代表される非イオン性界面活性剤；

アルキルサルフェート（Ｃ１２～１８、Ｎａ、ＮＨ４、アルカノールアミン）、ＰＯＥアルキルエーテルサルフェート（Ｃ１２～１８、Ｎａ、ＮＨ４、アルカノールアミン）、ＰＯＥアルキルフェニルエーテルサルフェート（Ｃ１２～１８、ＮＨ４、アルカノールアミン）、ＰＯＥベンジル（又はスチリル）フェニル（又はフェニルフェニル）エーテルサルフェート（Ｎａ、ＮＨ４、アルカノールアミン）、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレンブロックポリマーサルフェート（Ｎａ、ＮＨ４、アルカノールアミン）などのサルフェート型界面活性剤；パラフィン（アルカン）スルホネート（Ｃ１２～２２、Ｎａ、Ｃａ、アルカノールアミン）、ＡＯＳ（Ｃ１４～１６、Ｎａ、アルカノールアミン）、ジアルキルスルホサクシネート（Ｃ８～１２、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ）、アルキルベンゼンスルホネート（Ｃ１２、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ、ＮＨ４、アルキルアミン、アルカノール、アミン、シクロヘキシルアミン）、モノ又はジアルキル（Ｃ３～６）ナフタレンスルホネート（Ｎａ、ＮＨ４、アルカノールアミン、Ｃａ、Ｍｇ）、ナフタレンスルホネート・ホルマリン縮合物（Ｎａ、ＮＨ４）、アルキル（Ｃ８～１２）ジフェニルエーテルジスルホネート（Ｎａ、ＮＨ４）、リグニンスルホネート（Ｎａ、Ｃａ）、ＰＯＥアルキル（Ｃ８～１２）フェニルエーテルスルホネート（Ｎａ）、ＰＯＥアルキル（Ｃ１２～１８）エーテルスルホコハク酸ハーフエステル（Ｎａ）などのスルホネート型界面活性剤；カルボン酸型脂肪酸塩（Ｃ１２～１８、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、アルカノールアミン）、Ｎ-メチル-脂肪酸サルコシネート（Ｃ１２～１８、Ｎａ）、樹脂酸塩（Ｎａ、Ｋ）などＰＯＥアルキル（Ｃ１２～１８）エーテルホスフェート（Ｎａ、アルカノールアミン）、ＰＯＥモノ又はジアルキル（Ｃ８～１２）フェニルエーテルホスフェート（Ｎａ、アルカノールアミン）、ＰＯＥベンジル（又はスチリル）化フェニル（又はフェニルフェニル）エーテルホスフェート（Ｎａ、アルカノールアミン）、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー（Ｎａ、アルカノールアミン）、ホスファチジルコリン・ホスファチジルエタノールイミン（レシチン）、アルキル（Ｃ８～１２）ホスフェートなどのホスフェート型界面活性剤；等に代表されるアニオン性界面活性剤；

アルキルトリメチルアンモニウムクロライド（Ｃ１２～１８）、メチル・ポリオキシエチレン・アルキルアンモニウムクロライド（Ｃ１２～１８）、アルキル・Ｎ-メチルピリジウムブロマイド（Ｃ１２～１８）、モノ又はジアルキル（Ｃ１２～１８）メチル化アンモニウムクロライド、アルキル（Ｃ１２～１８）ペンタメチルプロピレンジアミンジクロライドなどのアンモニウム型界面活性剤；アルキルジメチルベンザルコニウムクロライド（Ｃ１２～１８）、ベンゼトニウムクロライド（オクチルフェノキシエトキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド）等のベンザルコニウム型界面活性剤；等に代表されるカチオン性界面活性剤；および

ジアルキル（Ｃ８～１２）ジアミノエチルベタイン、アルキル（Ｃ１２～１８）ジメチルベンジルベタイン等のベタイン型界面活性剤；ジアルキル（Ｃ８～１２）ジアミノエチルグリシン、アルキル（Ｃ１２～１８）ジメチルベンジルグリシンなどのグリシン型界面活性剤；等に代表される両性界面活性剤を挙げることができる。
前記「ＰＯＥ」は、ポリオキシエチレンの略である。また、括弧内に記載の「Ｃ」と付記している数字の意味としては、例えば、「アルキル（Ｃ１２～１８）」の記載は炭素数が１２～１８のアルキルを示している。
界面活性剤は１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明の薬害軽減組成物に含まれる、ピカルブトラゾクスに対する界面活性剤の質量比は、特に限定されないが、好ましくは０～６０、より好ましくは０．００５～２０、さらに好ましくは０．０１～２である。

（（Ｄ）その他の成分）
本発明の薬害軽減組成物は、さらに、その他の成分として、ｐＨ調整剤、着色剤、消泡剤、比重調整剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、ドリフト防止剤、混用改良剤、保湿剤、拡展剤、固着剤、キレート剤、香料、有機溶媒、水等を含有することができる。その他の成分は、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分それぞれに含有させて、その後混合しても良く、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分を混合させた後、その他の成分を混合しても良い。
本発明の薬害軽減組成物に含まれる、その他の成分のピカルブトラゾクスに対する質量比は、特に限定されないが、好ましくは０～２００、より好ましくは１～１００、さらに好ましくは５～２０である。

（好ましい範囲）
本発明の薬害軽減組成物中の（Ａ）ピカルブトラゾクス、（Ｂ）除草活性成分、（Ｃ）界面活性剤、および（Ｄ）その他成分の好ましい質量比の範囲は、希釈用の水を含まず、なおかつ、成分（Ａ）～成分（Ｄ）の合計の質量を１００質量％として
（Ａ）ピカルブトラゾクス ０．５質量％～ ５０質量％
（Ｂ）除草活性成分 ０．５質量％～ ６０質量％
（Ｃ）界面活性剤 ０質量％～ ３０質量％
（Ｄ）その他成分 ０質量％～ ９９質量％
であり、さらに好ましくは、
（Ａ）ピカルブトラゾクス １質量％～ ２０質量％
（Ｂ）除草活性成分 １質量％～ ６０質量％
（Ｃ）界面活性剤 ０．１質量％～ ２０質量％
（Ｄ）その他成分 ２０質量％～９７．９質量％
であり、さらに好ましくは、
（Ａ）ピカルブトラゾクス ５質量％～ １０質量％
（Ｂ）除草活性成分 ５質量％～ ３０質量％
（Ｃ）界面活性剤 ０．１質量％～ １０質量％
（Ｄ）その他成分 ５０質量％～８９．９質量％
である。

本発明の薬害軽減組成物中の（Ａ）ピカルブトラゾクスと、（Ｂ）除草活性成分の好ましい質量比を成分（Ｂ）／成分（Ａ）で表すと０．００１～１０００であり、さらに好ましくは０．００５～２００であり、さらに好ましくは０．０１～１２０であり、さらに好ましくは０．０５～６０であり、さらに好ましくは０．５～６である。

（薬害軽減組成物を含有する製剤）
本発明の薬害軽減組成物は、粉剤（Dustable powder）、粒剤（Granule）、水和剤（Wettable powder）、水溶剤（Water soluble powder）、顆粒水和剤（Water dispersible granule）、顆粒水溶剤（Water soluble granule）、フロアブル剤（Suspo-emulsion, Suspension concentrate, Emulsionoil in water,Flowable）、乳剤（Emulsifiable concentrate）等の各種剤型を成した製剤であってもよい。製剤化に当たって、公知の添加剤、担体などを用いることができる。製剤化は、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分それぞれ別々に製剤化させて、その後混合しても良く、ピカルブトラゾクスおよび除草活性成分を混合させた後、製剤化しても良い。別々に製剤化させる場合は、同じ型の製剤を作成して混合させ、その後、水などで希釈して用いても良く、水などで希釈した後、混合させて用いても良く、水などで希釈した後、混合させずに別々に散布してもよく、別々に散布する場合は、同時に散布しても、どちらかを先にもう片方をその後に散布しても良い。

（希釈用の水）
前記「水などで希釈した」に用いられる液は、薬害軽減剤、薬害軽減組成物、除草活性成分、製剤化した薬害軽減剤、製剤化した薬害軽減組成物、又は製剤化された除草活性成分等を希釈して、散布しやすくするため等であれば特に限定されるものではないが、水道水、工業用水、井戸水、川の水、地下水等を例示することができる。また、単に「希釈用の水」と呼ぶこともできる。

（製剤化のための添加剤）
製剤化のための添加剤は特に限定されるものではなく、農薬製剤で一般的に使用される添加剤を用いることができる。例えば、フロアブル剤の場合は水、消泡剤等を添加させ、乳剤の場合は有機溶媒（油性溶媒）等を添加させ、顆粒水和剤や顆粒水溶剤の場合は顆粒作成時に含有させ、その後乾燥により除去する水等を添加させることができる。

（製剤化のための担体）
粉剤、粒剤、水和剤等の製剤のために担体を含有させることができる。担体は特に限定されるものではなく、農薬製剤で一般的に使用される担体を用いることができる。担体としては、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸カリウム、硫酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、二酸化ケイ素、珪藻土（diatomite）、アパタイト（apatite）、タルク（talc）、ベントナイト（bentonite）、パイロフィライト（pyrophyllite）、クレー（clay）、目土（joint soil）等を例示することができる。

（施用方法）
本発明に係る除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法は、（１）有益な植物の栽培の際に、本発明の薬害軽減組成物を施用すること、（２）有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用すると伴に、ピカルブトラゾクスを施用すること、（３）有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用し、次いで、ピカルブトラゾクスを施用すること、または（４）有益な植物の栽培の際に、ピカルブトラゾクスを施用し、次いで、除草活性成分を施用することを含む。

本発明の薬害軽減組成物、ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分の施用は、例えば、薬害軽減組成物、ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分をそのままで、薬害軽減組成物、ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分を水で所定濃度に希釈して、行うことができる。ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分の施用は、ピカルブトラゾクスおよび／または除草活性成分を製剤化したもので行ってもよい。施用は、剤型に応じて、散布、噴霧、混和、潅注などの仕方で行うことができる。施用は、土壌、雑草の茎葉、種子などに対して行うことができる。

（有益な植物）
施用の対象となる有益植物は、雑草によって、養分を奪われたり、光を遮られたりすることで、成長を阻害される可能性のある植物であれば、特に限定されない。本発明において施用の対象となる好ましい有益植物は、芝、コムギ、トウモロコシ、ナタネ、イネまたは大豆等である。施用時の有益植物は、その成長段階のいずれの段階のものであってもよく、例えば、種籾の段階、幼苗の段階などであってもよい。

（防除できる雑草）
本発明の薬害軽減組成物または方法によって、防除できる雑草は、各除草活性成分のスペクトルに応じて変わるが、例えば、
イヌホウズキ（Solanum nigrum）及びチョウセンアサガオ（Datura stramonium）等に代表されるナス科（Solanaceae）雑草、
アメリカフウロ(Granium caroli nianum)等に代表されるフウロソウ科（Geraniaceae）雑草、
イチビ（Abutilon theophrasti）及びアメリカキンゴジカ（Sida sp inosa）等に代表されるアオイ科（Malvaceae）雑草、
マルバアサガオ（Ipomoea purpurea）等のアサガオ類（Ipomoea spps.）、ヒルガオ類（Calystegia spps.）等に代表されるヒルガオ科（Convolvulaceae）雑草、
イヌビユ（Amaranthus lividus）及びアオビユ（Amaranthus retroflexus）等に代表されるヒユ科（Amaranthaceae）雑草、
オナモミ（xanthium pensylvanicum）、オオオナモミ（Xanthium occidentale）、ブタクサ（Ambrosia artemisiaefolia）、ヒマワリ（Helianthus annuus）、ハキダメギク（Galinsoga ciliata）、セイヨウトゲアザミ（Cirsium arvense）、ノボロギク（Senecio vulgaris）及びヒメジョオン（Erigeron annus）、アメリカセンダングサ（Bidens frondosa）及びタウコギ（Bidens tripartita）、セイヨウタンポポ（Tar axacum officinale）、オオアレチノギク（Conyza sumatr ensis）、ヨモギ（Artemisia indicavar. maximowiczii）、ヒメムカシヨモギ（Conyza canadensis）、ハルジオン（Erigeron philadelphicus）、タカサブロウ（Eclipta thermalis）、ヨメナ（Aster yomena）、セイタカアワダチソウ（Solidago canadensis）、キクイモ（Helianthus tuberosus）、及びコセンダングサ（Bidens pilosa var.Pilosa）等に代表されるキク科（Compositae）雑草、
イヌガラシ（Rorippa in dica）、ノハラガラシ（Sinapis arvensis）、ナズナ（Caps ella Bursapastoris）及びタネツケバナ（Cardamine flexuosa）等に代表されるアブラナ科（Crucifer ae）雑草、
イヌタデ（Polygonum Blumei）、オオイヌタデ（Persicaria lapathifolia）、イタドリ（Fallopia japonica）、ギシギシ(Rumex japonicus)、及びソバカズラ（Poly gonum convolvulus）等に代表されるタデ科（Polygonaceae）雑草、
スベリヒユ（Portulaca oleracea）等に代表されるスベリヒユ科（Portulacaceae）雑草、
シロザ（Chenopodium album）、コアカザ（Chenopodium ficifolium）及びホウキギ（Kochia scoparia）等に代表されるアカザ科（Chenopodiaceae）雑草、
ハコベ（Stellaria media）等に代表されるナデシコ科（Caryophyllaceae）雑草、
アゼナ（Lindernia pyxidaria）、アメリカアゼナ（Lindernia dubia）、ヒメアメリカアゼナ（Lindernia anagallidea）、アゼトウガラシ（Lindernia micrantha）及びスズメノトウガラシ（Lindernia antipoda）に代表されるアゼナ科（Linderniaceae）雑草、
ツユクサ（Commelina communis）及びイボクサ（Murdannia keisak）等に代表されるツユクサ科（Comme linaceae）雑草、
ホトケノザ（Lamium amplexicaule）及びヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）等に代表されるシソ科（Labiatae）雑草、
コニシキソウ（Euphorbia supina）及びオオニシキソウ（Euphorbia maculata）等に代表されるトウダイグサ科（Eup horbiaceae）雑草、
ヤエムグラ（Galium spurium）、アカネ（Rubia akane）及びヘクソカズラ（Paederia scandens）等に代表されるアカネ科（Rubiaceae）雑草、
スミレ（Viola mandshurica）等に代表されるスミレ科（Violaceae）雑草、
クサネム（Aeschynomene indica）、アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata）、エビスグサ（Cassia obtusifolia）、シロツメクサ（Trifolium repens）、ヤハズソウ（Lespedeza striata）、カラスノエンドウ（Vicia sepium）及びクズ（Pueraria montana）等に代表されるマメ科（Legumi nosae）雑草、
カタバミ（Oxsalis courniculata）に代表されるカタバミ科（Oxsaldaseae）雑草、
野生ソルガム（Sorgham bicolor）、オオクサキビ（Panicum dichotomiflorum）、ジョンソングラス（Sorghum halepense）、イヌビエ（Echinochloa crus-galli var.crus-galli）、ヒメイヌビエ（Echinochloa crus-g allivar. praticola）、タイヌビエ（Echinochloa oryzicola）、キシュウスズメノヒエ（Paspalum distichum）、栽培ビエ（Echinochloautilis）、メヒシバ（Digitaria ciliaris）、オヒシバ（Eleusine indica）、アキメヒシバ（Digitaria violascens）、ギョウギシバ（Cynodon dactylon）、ノシバ（Zoysia japonica）、コウライシバ（Zoysia pacifica）、ネズミノオ（Sporobolus fertilis）、カズノコグサ（Beckmannia syzigachne）カラスムギ（Ave na fatua）、エンバク（Avena sativa）、イタリアンライグラス（Lolium multiflorum）、ブラックグラス（Alopecurus myosuroides）、ウィーピングラブグラス（Eragrostis curvula）、チガヤ（Imperata cylindrica）、ススキ（Miscanthus sinensis）、オギ（Miscanthus sacchariflorus）、エノコログサ（Setaria viridis）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）、チモシー（Phleum pratense）、トールフェスク（Festuca arundinacea）、ハルガヤ（Anthoxanthum odoratum）、メガルカヤ（Themeda japonica）、コヌカグサ（Agrostis gigantea）、アゼガヤ（Leptochloa chinensis）、カモガヤ（Dactylis glomerata）、カモジグサ（Elymus tsukushiensis var.transiens）、クサヨシ（Phalaris arundinacea）、アズマネザサ（Pleioblastus chino）、アシカキ（Homalocenchrus japonocus）、スズメノカタビラ（Poa annua）、スズメノテッポウ（Alopecurus aegualis）、サヤヌカグサ（Leersia sayanuka Ohwi）、エゾノサヤヌカグサ（Leersia oryzoides）及びイガガヤツリ（Cyperus polystachyos Rottb.）等に代表されるイネ科雑草（Graminaceous weeds）、
ホシクサ（Eriocaulon cinereum）、イヌノヒゲ（Eriocaulon miquelianum）及びヒロハイヌノヒゲ（Eriocaulon robustius）等に代表されるホシクサ科（Eriocaulaceae）雑草、
ハマスゲ（Cyperus rotundus,Cyperus esculentus）、クログワイ（Eleocharis kuroguwai）、ホタルイ（Scirpus juncoides）、シズイ（Scirpus nipponicus）、ミズガヤツリ（Cyperus serotinus）、タマガヤツリ（Cyperus difformis）、コゴメガヤツリ（Cyperus iria）、ヒナガヤツリ（Cyperus hakonensis）、ヒメクグ（Cyperus brevifolius、Kyllinga brevifolia）、ヒデリコ（Fimbristylis miliacea）、マツバイ（Eleocharis acicularis (L.)Roem. et Schult.var. Longiseta Svenson）、タイワンヤマイ（Schoenoplectiella wallichii）、イヌホタルイ（Scirpus juncoides var.ohwianus）、ハリイ（Eleocharis pellucida）、アゼガヤツリ（Cyperus flavidus Retz.）及びコウキヤガラ（Scirpus martimus）等に代表されるカヤツリグサ科（Cyperaceous weeds）雑草、
ヒルムシロ（Potamoget on distinctus）等に代表されるヒルムシロ科（Potamogetonaceae）雑草、
ヘラオモダカ（Alisma canaliculatum）、ウリカワ（Sagittaria pygmaea）、オモダカ（Sagittaria trifolia）及びサジオモダカ（Alisma plantago-aquatica var.orientale）等に代表されるオモダカ科（Alismataceae）雑草、
ウキクサ（Spirodela polyrhiza）及びアオウキクサ（Lemnapaucicos tata）等に代表されるウキクサ科（Lemnaceae）雑草、
ミズアオイ（Monochoria korsakowii）及びコナギ（Monochoria vaginalis）等に代表されるミズアオイ科（Pontederiaceae）雑草、
ミゾハコベ（Elatine triandra）等に代表されるミゾハコベ科（Elatinaceae）雑草、
ヒメミソハギ（Ammannia mu ltiflora）及びキカシグサ（Rotala indica）等に代表されるミソハギ科（Lythraceae）雑草、
チョウジタデ（Lidwigia epilob ioides）等に代表されるアカバナ科（Oenotheraceae）雑草、
チドメグサ（Hydrocotyle sibt horpioides）に代表されるウコギ科（Araliaceae）雑草、
オオバコ（Plantago asiatica）、ミズハコベ（Callitriche palustris）、オオイヌノフグリ（Veronica persi ca）、アブノメ（Dopatrium junceum）、オオアブノメ（Gratiola japonica）及びキクモ（Limnophila sessilifolia）に代表されるオオバコ科（Plantaginaceae）雑草、
スギナ（Equisetum arvense）に代表されるトクサ科（Equisetaceae）雑草、
アレチウリ（Sicyos angulatus）に代表されるウリ科（Cucurbitaceae）雑草、
ジャノヒゲ（Ophiopogon japonicus）に代表されるキジカクシ科（Asparagaceae）雑草、
セリ（Oenanthe javanica）に代表されるセリ科（Apiaceae）雑草、
カラムシ（Boehmeria nivea var.nipononivea）に代表されるイラクサ科（Urticaceae）雑草、
アゼムシロ（Lobelia chinensis）等に代表されるキキョウ科（Campanulaceae）雑草、
サンショウモ（Salvinia natans (L.)All.）等に代表されるサンショウモ科（Salviniaceae）雑草、
イチョウウキゴケ（Ricciocarpos natans）等に代表されるウキゴケ科（Ricciaceae）雑草、
フサモ（Myriophyllum verticillatum）等に代表されるアリノトウグサ科（Haloragaceae）雑草、
シャジクモ（Chara braunii）等に代表されるシャジクモ科（Characeae）雑草、
アオミドロ（Spirogyra）等に代表されるホシミドロ科（Zygnemataceae）雑草
等を例示することができる。

以下、実施例を挙げて、本発明が奏する優れた効果を説明する。但し、本発明の範囲はこれら実施例に限定されるものではない。

実施例１
（薬害軽減剤(A)の調製）
ピカルブトラゾクス １０質量部、ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテル ２質量部、ジアルキルスルホサクシネートナトリウム塩 ０．５質量部、グリセリン５質量部、キサンタンガム ０．３質量部、および水 ８２．２質量部を混ぜ合わせ、粒度が３μｍ以下になるまで湿式粉砕して、ピカルブトラゾクス １０％（Ｗ／Ｗ）含有のフロアブル剤（薬害軽減剤(A)）を得た。

（薬害軽減組成物(1)の調製）
オサキニ（登録商標）１キロ粒剤（以下、「オサキニ粒剤」と呼ぶ。住友化学株式会社製、イマゾスルフロン（HRAC分類：Ｂ）０．９０％（Ｗ／Ｗ）、ピリミノバックメチル（HRAC分類：Ｂ）０．６０％（Ｗ／Ｗ）、およびブロモブチド（HRAC分類：Ｚ）９．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する。）を乳鉢で粉砕して、粉末を得た。この粉末５ｍｇと、実施例１で得られた薬害軽減剤(A)０．１ｍｌとを、水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて薬害軽減組成物(1)を得た。

（除草剤液(1)の調製）
オサキニ粒剤（住友化学株式会社製、イマゾスルフロン ０．９０％（Ｗ／Ｗ）、ピリミノバックメチル ０．６０％（Ｗ／Ｗ）、およびブロモブチド ９．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する。）を乳鉢で粉砕して、粉末を得た。この粉末５ｍｇを、水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて除草剤液(1)を得た。

薬害軽減組成物(1)、除草剤液(1)および水耕栽培溶液のそれぞれを試験管に注ぎ入れた。該試験管に２葉期のイネ幼苗(品種：コシヒカリ)１株を移植した。これを明期１６時間(２５℃)、暗期８時間(２０℃)に設定した人工気象器内に置いた。３日間経過したときに、新根の発生本数を数えた。この試験を合計６回行った。６回分の測定値から平均値を算出した。
水耕栽培溶液の試験管における、新根の平均発生本数は、６．５本であった。除草剤液(1)の試験管における、新根の平均発生本数は、２．０本であった。オサキニ粒剤によって、新根の発生が、抑制されたことがわかる。これに対して、薬害軽減組成物(1)の試験管における、新根の平均発生本数は、７．０本であった。薬害軽減組成物(1)は、オサキニ粒剤による新根の発生阻害を軽減できていることがわかる。

実施例２
薬害軽減剤(A)２００ｍｌを１Ｌになるまで水で希釈した。得られた希釈液６０ｍｌを乾燥籾(脱穀しない、乾燥した米の事、品種：コシヒカリ)１ｋｇに吹き付けながら、鉄粉および焼石膏を添加して、かき混ぜて、鉄コーティングされた籾(1)を得た。

水６０ｍｌを乾燥籾(品種：コシヒカリ)１ｋｇに吹き付けながら、鉄粉および焼石膏を添加して、かき混ぜて、鉄コーティングされた籾(2)を得た。

水６０ｍｌを乾燥籾(品種：コシヒカリ)１ｋｇに吹き付けながら、鉄粉および焼石膏を添加して、かき混ぜて、鉄コーティングされた籾(3)を得た。

籾(1)、籾(2)、および籾(3)のそれぞれを、深度約１０ｍｍに湛水した水田土壌に播種した。籾(1)および籾(2)の播種された水田土壌に、オサキニ粒剤（住友化学株式会社製、イマゾスルフロン ０．９０％（Ｗ／Ｗ）、ピリミノバックメチル ０．６０％（Ｗ／Ｗ）、ブロモブチド ９．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する）を１．０ｋｇ／１０ａの割合でそれぞれ散布した。籾(3)の播種された水田土壌には何も散布しなかった。
それらを、明期１６時間（２５℃）、暗期８時間（２０℃）に設定した人工気象器内に２０日間置いた。発芽した籾を無作為に６株抽出し、根長を測定し、平均値を算出した。

籾(3)を播種した水田土壌における、根長の平均値は、６９．４ｍｍであった。
籾(2)を播種した水田土壌における、根長の平均値は、４６．９ｍｍであった。オサキニ粒剤によって根の成長が抑制されたことがわかる。これに対して、籾(1)を播種した水田土壌における、根長の平均値は、６７．２ｍｍであった。オサキニ粒剤による根の成長抑制を軽減していることがわかる。

実施例３
育苗箱（３０×６０×３ｃｍ使用土壌約５Ｌ）に植えられた２葉期まで生育したイネ幼苗（品種：コシヒカリ）を用意した。薬害軽減剤(A)１ｍｌを水１Ｌで希釈した。該希釈液１Ｌをイネ幼苗および土壌に灌注した。潅注から２４時間経過したときに、イネ幼苗を深度約１０ｍｍに湛水した水田土壌に移植して、苗(1)を得た。

育苗箱（３０×６０×３ｃｍ使用土壌約５Ｌ）に植えられた２葉期まで生育したイネ幼苗（品種：コシヒカリ）を用意した。水１Ｌをイネ幼苗および土壌に灌注した。潅注から２４時間経過したときに、イネ幼苗を深度約１０ｍｍに湛水した水田土壌に移植して、苗(2)を得た。

育苗箱（３０×６０×３ｃｍ使用土壌約５Ｌ）に植えられた２葉期まで生育したイネ幼苗（品種：コシヒカリ）を用意した。水１Ｌをイネ幼苗および土壌に灌注した。潅注から２４時間経過したときに、イネ幼苗を深度約１０ｍｍに湛水した水田土壌に移植して、苗(3)を得た。

苗(1)および苗(2)が栽培される水田土壌にオサキニ粒剤（住友化学株式会社製、イマゾスルフロン ０．９０％（Ｗ／Ｗ）、ピリミノバックメチル ０．６０％（Ｗ／Ｗ）、ブロモブチド ９．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する）を１．０ｋｇ／１０ａの割合でそれぞれ散布した。苗(3)が栽培される水田土壌には何も散布しなかった。それらを、明期１６時間（２５℃）、暗期８時間（２０℃）に設定した人工気象器内に７日間置いた。その後、苗を、８０℃で２４時間乾燥させて、乾燥苗を得た。乾燥苗の地上部および地下部の重さを測定した。

苗(3)を植えた水田土壌においては、乾燥苗の地上部および地下部の重さが、それぞれ２７．０ｍｇおよび２１．９ｍｇであった。
苗(2)を植えた水田土壌においては、乾燥苗の地上部および地下部の重さが、それぞれ２４．９ｍｇおよび１８．８ｍｇであった。オサキニ粒剤によって地上部および地下部の成長が抑制されたことがわかる。
これに対して、苗(1)を植えた水田土壌においては、乾燥苗の地上部および地下部の重さが、それぞれ２７．８ｍｇおよび２１．７ｍｇであった。オサキニ粒剤による地上部および地下部の成長抑制を軽減していることがわかる。

実施例４
薬害軽減剤(A) ０．１ｍｌ、０．５ｍｌ、１ｍｌ、５ｍｌ、１０ｍｌ、および５０ｍｌをそれぞれが１Ｌになるまで水で希釈して希釈液(1)～(6)を用意した。
２．５葉期のイネ幼苗（品種：コシヒカリ）を有害雑草であるホタルイの種子を含む深度約１０ｍｍに湛水した水田土壌に移植した。イネ幼苗の植えられた水田土壌を８等分し第１区～第８区に分けた。
第１区～第７区に、オサキニ粒剤（住友化学株式会社製、イマゾスルフロン ０．９０％（Ｗ／Ｗ）、ピリミノバックメチル ０．６０％（Ｗ／Ｗ）、ブロモブチド ９．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する）を１．０ｋｇ／１０ａの割合で土壌および作物茎葉部に散布した。
第８区には何も散布しなかった。

次いで、第１区～第６区に希釈液(1)～(6)をそれぞれ１００Ｌ／１０ａの割合で土壌および作物茎葉部に散布した（処理区）。
第７区および第８区に水を１００Ｌ／１０ａの割合で土壌および作物茎葉部に散布した（比較区および無処理区）。

それらを、明期１６時間（２５℃）および暗期８時間（２０℃）に設定された人工気象器内に５日間置いた。新たに発生した根の長さを測定した。また、有害雑草であるホタルイの生育状況を下記式で表される生育抑制率として算出した。結果を表１に示す。
生育抑制率（％）
＝ １００－
（処理区または比較区のホタルイ全長／無処理区のホタルイ全長）×１００

表１から、薬害軽減剤(A)を施用すると、除草活性成分を含むオサキニ粒剤を散布して有害雑草であるホタルイの除草を行っても、イネの成長を阻害しないことがわかる。

実施例５
（薬害軽減組成物(2)の調製）
ピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液と、実施例１で得られた薬害軽減剤(A) ０．１ｍｌとを水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて薬害軽減組成物(2)を得た。

（除草剤液(2)の調製）
ピラゾスルフロンエチル（HRAC分類：Ｂ） ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液を水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて除草剤液(2)を得た。

薬害軽減組成物(2)、除草剤液(2)および水耕栽培溶液のそれぞれを試験管に注ぎ入れた。該試験管に２葉期のイネ幼苗(品種：コシヒカリ)１株を移植した。これを明期１６時間(２５℃)、暗期８時間(２０℃)に設定した人工気象器内に置いた。5日間経過したときに、新根の発生本数を数えた。この試験を合計６回行った。６回分の測定値から平均値を算出した。
水耕栽培溶液の試験管における、新根の平均発生本数は４．０本であった。除草剤液(2)の試験管における、新根の平均発生本数は３．３本であった。ピラゾスルフロンエチルによって、新根の発生が抑制されたことがわかる。これに対して、薬害軽減組成物(2)の試験管における、新根の平均発生本数は、それぞれ３．８本であった。薬害軽減組成物(2)は、ピラゾスルフロンエチルによる新根の発生阻害を軽減できていることがわかる。

実施例６～１５
（薬害軽減組成物(3)～(12)の調製）
実施例５の薬害軽減組成物(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、表２に記載の除草剤(5)～(15)にそれぞれ代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で薬害軽減組成物(3)～(12)を得た。
（除草剤液(3)～(12)の調製）
実施例５の除草剤液(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、表２に記載の除草剤(5)～(15)にそれぞれ代えた以外は除草剤液(2)と同じ方法で除草剤液(3)～(12)を得た。

表２から明らかなように、除草剤（５）と除草剤（１４）は同じであり、薬害軽減組成物（２）および除草剤液（２）は、薬害軽減組成物（１１）および除草剤液（１１）は同じである。

水耕栽培溶液の試験管における根長の平均値、除草剤液(3)～(12)の試験管における根長の平均値、及び薬害軽減組成物(3)～(12)の試験管における根長の平均値は、表３の通りである。この結果から、薬害軽減組成物(3)～(12)は除草剤(6)～(15)による根の成長抑制を軽減できていることがわかる。

表３中、新根の状況とは、除草剤（５）では、平均発生本数を表し、除草剤（６）～（１５）では、根長の平均値を表している。

比較例１
（比較薬害軽減組成物(1)の調製）
実施例５の薬害軽減剤(A) ０．１ｍｌを、α－ナフチルアセトアミド ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液に代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で比較薬害軽減組成物(1)を得た。

（比較除草剤液(1)の調製）
実施例５の除草剤液(2)と同様に、ピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液を水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて比較除草剤液(1)を得た。

実施例５と同じ方法で新根の発生本数を計測した。その結果を薬害軽減剤(A)の結果とともに表４に示す。薬害軽減剤(A)は、ピラゾスルフロンエチルによる新根の発生阻害を軽減できているが、植物調整剤であるα－ナフチルアセトアミドは、薬害の軽減効果はなかった。

比較例２
（比較薬害軽減組成物(2)の調製）
実施例５の薬害軽減剤(A) ０．１ｍｌを、インドール酪酸 ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液に代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で比較薬害軽減組成物(2)を得た。
（比較除草剤液(2)の調製）
実施例５の除草剤液(2)と同様に、ピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇをＤＭＳＯ １０μｌに溶解した溶液を水耕栽培溶液（ハイポネックス原液（株式会社ハイポネックスジャパン社製）０．５ｍｌを水１Ｌに希釈した溶液）１Ｌに添加し分散させて比較除草剤液(2)を得た。
実施例５と同じ方法で新根の発生本数を計測した。その結果を薬害軽減剤(A)の結果とともに表４に示す。薬害軽減剤(A)は、ピラゾスルフロンエチルによる新根の発生阻害を軽減できているが、植物調整剤であるインドール酪酸は、薬害の軽減効果はなかった。

実施例１６
（薬害軽減組成物(13)の調製）
実施例５の薬害軽減組成物(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、ピラゾスルフロンエチル ０．１ｍｇに代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で薬害軽減組成物(13)を得た。
（除草剤液(13)の調製）
実施例５の除草剤液(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、ピラゾスルフロンエチル ０．１ｍｇに代えた以外は除草剤液(2)と同じ方法で除草剤液(13)を得た。
薬害軽減組成物(13)、除草剤液(13)、および水耕栽培溶液のそれぞれを試験管に注ぎ入れた。該試験管に２葉期のイネ幼苗(品種：コシヒカリ)１株を移植した。これを明期１６時間(２５℃)、暗期８時間(２０℃)に設定した人工気象器内に置いた。5日間経過したときに、第1葉およびその葉鞘に引き起こされた薬害を目視により観察し、以下の基準で薬害指数を割り当てた。この試験を合計６回行った。６回分の測定値から平均値（以下、「平均薬害指数」という）を算出した。

薬害指数及びその状況
０：薬害なし
１：１０％未満の面積に黄化ないしは褐変が認められる
２：１０％以上２０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
３：２０％以上３０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
４：３０％以上４０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
５：４０％以上５０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
６：５０％以上６０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
７：６０％以上７０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
８：７０％以上８０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
９：８０％以上９０％未満の面積に黄化、または褐変が認められる
１０：９０％以上の面積に黄化、または褐変が認められる、または枯死

その結果、水耕栽培溶液は、平均薬害指数は０であった。
除草剤液(13)の平均薬害指数は３．８であった。これに対し、薬害軽減組成物(13)の平均薬害指数が1．８であった。ピラゾスルフロンエチルによる茎葉部の薬害を軽減できていることがわかる。薬害軽減剤(A)は、茎葉部の薬害を軽減できたことから、除草剤の薬害を低減していることが判明した。

実施例１７
（薬害軽減組成物(14)の調製）
実施例５の薬害軽減組成物(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、ピラクロニル ０．１ｍｇに代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で薬害軽減組成物(14)を得た。
（除草剤液(14)の調製）
実施例５の除草剤液(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、ピラクロニル ０．１ｍｇに代えた以外は除草剤液(2)と同じ方法で除草剤液(14)を得た。
実施例１６と同じ方法で平均薬害指数を算出した。
その結果、水耕栽培溶液は、平均薬害指数は０であった。
除草剤液(14)の平均薬害指数は１．７であった。これに対し、薬害軽減組成物(14)の平均薬害指数が０．３であった。ピラクロニルによる茎葉部の薬害を軽減できていることがわかる。薬害軽減剤(A)は、茎葉部の薬害を軽減できたことから、除草剤の薬害を低減していることが判明した。

実施例１８
（薬害軽減組成物(15)の調製）
実施例５の薬害軽減組成物(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、プレチラクロール １．０ｍｇに代えた以外は薬害軽減組成物(2)と同じ方法で薬害軽減組成物(15)を得た。
（除草剤液(15)の調製）
実施例５の除草剤液(2)のピラゾスルフロンエチル ０．０１ｍｇを、プレチラクロール １．０ｍｇに代えた以外は除草剤液(2)と同じ方法で除草剤液(15)を得た。
実施例１６と同じ方法で平均薬害指数を算出した。
その結果、水耕栽培溶液は、平均薬害指数は０であった。
除草剤液(15)の平均薬害指数は２．７であった。これに対し、薬害軽減組成物(15)の平均薬害指数が０．７であった。プレチラクロールによる茎葉部の薬害を軽減できていることがわかる。薬害軽減剤(A)は、茎葉部の薬害を軽減できたことから、除草剤の薬害を低減していることが判明した。

実施例１９
薬害軽減剤(A) ０．５gを水で希釈し、３０mlにし、薬害軽減希釈液を作成した。薬害軽減希釈液 ３０ｍｌを１．０ｋｇのダイズ種子に吹付け、かき混ぜてコーティングして、種子(1)を得た。
３０mlの水を１．０ｋｇのダイズ種子に吹付け、かき混ぜて、種子(2)を得た。
３０mlの水を１．０ｋｇのダイズ種子に吹付け、かき混ぜて、種子(3)を得た。

種子(1)、種子(2)および種子(3)のそれぞれを、赤土土壌に１００００粒／１０ａ の割合で播種した。種子(1)および種子(2)を播種した赤土土壌それぞれに、フルミオＷＤＧ（住友化学株式会社製、フルミオキサジン ５０．０％（Ｗ／Ｗ）を含有する）を１０．０ｇ／１０ａの割合で散布した。種子(3)の播種された赤土土壌には何も散布しなかった。
それらをガラス温室に７日間置いた。種子が発芽した「芽生え」（胚軸、子葉を含む）を無作為に８株抽出し、胚軸および子葉に引き起こされた薬害を目視により観察し、前記「薬害指数及びその状況」に基づいて、平均薬害指数を算出した。
種子(1)の平均薬害指数は２．６、種子(2)の平均薬害指数は４．１、種子(3)の平均薬害指数は０であった。この結果より、薬害軽減剤(A)により、フルミオキサジンによる胚軸および子葉の薬害を軽減したことを確認した。

本発明の除草剤用薬害軽減剤は、除草剤などに含まれている除草活性成分による有益な植物への害を軽減することができる。
本発明の薬害軽減組成物および除草方法によれば、芝、コムギ、トウモロコシ、ナタネ、イネ、大豆などの有益な植物の成長を阻害せずに、その周辺に繁茂する雑草を防除することができる。

Claims (8)

1. ピカルブトラゾクスを含有して成る、除草剤用薬害軽減剤。
2. ピカルブトラゾクス、および除草活性成分を含有する、薬害軽減組成物。
3. 界面活性剤をさらに含有する、請求項２に記載の薬害軽減組成物。
4. 有益な植物の栽培の際に、請求項２または３に記載の薬害軽減組成物を施用することを含む、前記薬害軽減組成物に含まれる除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
5. 有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用すると伴に、ピカルブトラゾクスを施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
6. 有益な植物の栽培の際に、除草活性成分を施用し、次いで、ピカルブトラゾクスを施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
7. 有益な植物の栽培の際に、ピカルブトラゾクスを施用し、次いで、除草活性成分を施用することを含む、前記除草活性成分による有益な植物への害を軽減しつつ雑草を防除する方法。
8. 有益な植物が、芝、コムギ、トウモロコシ、ナタネ、イネまたは大豆である、請求項４～７のいずれかひとつに記載の方法。