JP7259872B2 - 弾性波装置 - Google Patents
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- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 46
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 32
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
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- H03H9/02637—Details concerning reflective or coupling arrays
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
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- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02015—Characteristics of piezoelectric layers, e.g. cutting angles
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
- H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
- H03H9/02118—Means for compensation or elimination of undesirable effects of lateral leakage between adjacent resonators
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02574—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/13—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
- H03H9/131—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials consisting of a multilayered structure
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/13—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
- H03H9/132—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials characterized by a particular shape
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14538—Formation
- H03H9/14541—Multilayer finger or busbar electrode
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
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- Acoustics & Sound (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
2…基板
2a,2b…第1,第2の主面
2c…凹部
3…第1の電極
3a…端部
4…圧電薄膜
5…第2の電極
6,7…第1,第2の引き出し電極
7A~7C…分割引き出し部
7a,7b…側縁
11…パターン
11a,11b…突出部
11c…連結部
11d…凸部
11e…凹部
12a~12e…辺
112…音響ブラッグ反射器
112a,112c,112e…低音響インピーダンス材料層
112b,112d,112f…高音響インピーダンス材料層
Claims (11)
- 第1の主面を有する基板と、
前記基板の前記第1の主面に設けられた第1の電極と、
前記基板の前記第1の主面上に設けられており、前記第1の電極の少なくとも一部を覆っている圧電薄膜と、
前記圧電薄膜上に設けられており、前記第1の電極と前記圧電薄膜を介して対向している部分を有する第2の電極と、
前記第1の電極が上面に積層されるよう前記基板に設けられた音響反射器とを備え、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記音響反射器上において前記圧電薄膜を介して対向している部分が、励振部とされており、
前記第1の電極に連ねられており、前記励振部から励振部外に引き出されている第1の引き出し電極と、
前記第2の電極に連ねられており、前記励振部から励振部外に引き出されている第2の引き出し電極とをさらに備え、
前記第1の引き出し電極及び前記第2の引き出し電極の少なくとも一方において、前記励振部から遠ざかる方向に沿って周期的なパターンが設けられており、
前記励振部が、平面視において、外周縁が曲線状の形状を有し、
前記第1の引き出し電極及び前記第2の引き出し電極の少なくとも一方において、前記励振部に接続されている二点の接続点を結ぶ仮想線に対する法線方向に沿って周期的なパターンが設けられている、弾性波装置。 - 前記周期的なパターンが設けられている前記第1及び第2の引き出し電極の少なくとも一方が、複数に分割された複数の分割引き出し部を有する、請求項1に記載の弾性波装置。
- 前記複数の分割引き出し部が互いに平行である、請求項2に記載の弾性波装置。
- 前記周期的なパターンが、前記第1の引き出し電極又は前記第2の引き出し電極の引き出されている方向と交差する方向において、前記第1の引き出し電極又は前記第2の引き出し電極から突出された複数の突出部を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記第1の引き出し電極又は前記第2の引き出し電極において、前記法線方向と直交する方向に対向している一対の突出部が複数対設けられている、請求項4に記載の弾性波装置。
- 前記一対の突出部が、前記第1の引き出し電極又は前記第2の引き出し電極に連なるように設けられている、請求項5に記載の弾性波装置。
- 前記一対の突出部と前記一対の突出部間を連結している連結部を有する、請求項5又は6に記載の弾性波装置。
- 前記周期的なパターンが、前記第1の引き出し電極又は前記第2の引き出し電極内に設けられており、前記法線方向において周期的に配置された凸部又は凹部を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記音響反射器がキャビティである、請求項1~8のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- 前記音響反射器が、相対的に音響インピーダンスが低い低音響インピーダンス材料層と、相対的に音響インピーダンスが高い高音響インピーダンス材料層とが積層されている、音響ブラッグ反射器である、請求項1~8のいずれか1項に記載の弾性波装置。
- BAW装置である、請求項1~10のいずれか1項に記載の弾性波装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019015022 | 2019-01-31 | ||
JP2019015022 | 2019-01-31 | ||
PCT/JP2020/003170 WO2020158798A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-29 | 弾性波装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020158798A1 JPWO2020158798A1 (ja) | 2021-10-21 |
JP7259872B2 true JP7259872B2 (ja) | 2023-04-18 |
Family
ID=71841431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020569683A Active JP7259872B2 (ja) | 2019-01-31 | 2020-01-29 | 弾性波装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210351758A1 (ja) |
JP (1) | JP7259872B2 (ja) |
KR (1) | KR102644467B1 (ja) |
CN (1) | CN113366763B (ja) |
WO (1) | WO2020158798A1 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009055128A (ja) | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 薄膜圧電共振器の製造方法及び薄膜圧電共振器 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11205074A (ja) * | 1998-01-19 | 1999-07-30 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電薄膜振動子 |
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JP4877966B2 (ja) | 2006-03-08 | 2012-02-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電薄膜デバイス |
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JP6402869B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2018-10-10 | 株式会社村田製作所 | 共振子及び共振装置 |
CN107408936B (zh) * | 2015-03-16 | 2020-12-11 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置及其制造方法 |
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CN108291796B (zh) * | 2015-11-13 | 2020-04-24 | 株式会社村田制作所 | 压电挠曲传感器以及检测装置 |
CN216414272U (zh) * | 2021-11-29 | 2022-04-29 | 瑞声科技(南京)有限公司 | 一种压电薄膜声学谐振器 |
-
2020
- 2020-01-29 WO PCT/JP2020/003170 patent/WO2020158798A1/ja active Application Filing
- 2020-01-29 CN CN202080009175.2A patent/CN113366763B/zh active Active
- 2020-01-29 JP JP2020569683A patent/JP7259872B2/ja active Active
- 2020-01-29 KR KR1020217021158A patent/KR102644467B1/ko active IP Right Grant
-
2021
- 2021-07-20 US US17/380,063 patent/US20210351758A1/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009055128A (ja) | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 薄膜圧電共振器の製造方法及び薄膜圧電共振器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210097789A (ko) | 2021-08-09 |
WO2020158798A1 (ja) | 2020-08-06 |
CN113366763A (zh) | 2021-09-07 |
CN113366763B (zh) | 2024-05-28 |
JPWO2020158798A1 (ja) | 2021-10-21 |
US20210351758A1 (en) | 2021-11-11 |
KR102644467B1 (ko) | 2024-03-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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