JP7246619B2 - 電子線照射装置および電子線照射方法 - Google Patents
電子線照射装置および電子線照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7246619B2 JP7246619B2 JP2019147236A JP2019147236A JP7246619B2 JP 7246619 B2 JP7246619 B2 JP 7246619B2 JP 2019147236 A JP2019147236 A JP 2019147236A JP 2019147236 A JP2019147236 A JP 2019147236A JP 7246619 B2 JP7246619 B2 JP 7246619B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- container
- beam irradiation
- irradiation
- conveying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射装置であって、
前記容器を側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送路を備える搬送手段と、
前記搬送路を搬送される前記容器に向けて電子を加速して照射する電子線照射部を備える電子線照射手段と、
前記搬送路の側方で前記容器を挟んで前記電子線照射部と対向する位置に配置され、前記電子線照射部より照射された前記電子線を前記容器の底面に反射させる反射面を有する反射板とが備えられており、
前記搬送手段には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラーが、一定間隔をおいて配置されており、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送するように構成され、
前記ローラーは、側面の一方の端部に鍔部が設けられており、前記鍔部が設けられた端部を下側にして水平方向に対して1~80°の角度を付けて配置されており、前記側面が重金属製であり、前記容器との非接触部分の少なくとも一部に全周に亘って鏡面加工が施されていることを特徴とする電子線照射装置である。
前記反射板が、冷却可能であることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置である。
前記反射板の前記反射面が、鏡面加工されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子線照射装置である。
前記反射板において、少なくとも前記反射面が、金属を用いて形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の電子線照射装置である。
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法であって、
前記容器を、側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送工程と、
前記搬送路を搬送される前記容器の側面に向けて電子を加速して照射すると共に、前記電子線照射部より照射され、前記反射板の反射面から反射してきた電子線を前記容器の底面に照射する電子線照射工程とを備えており、
前記搬送工程において、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送することを特徴とする電子線照射方法である。
1.基本的な態様
はじめに、本実施の形態の電子線照射装置の基本的な態様について説明する。図1Aは、本実施の形態に係る電子線照射装置の基本的な態様を示す模式図であり、図1Bは、図1AのA-A矢視図である。
次に、本実施の形態の電子線照射装置の具体的な態様の内、特徴部である反射板、ローラーについて説明する。
前記したように、容器Cの底面Bについては、放射電子線11aは容器Cの底面に平行に通過するため、側面に比べて照射不足を招く恐れがある。しかしながら、本実施の形態においては、搬送路12の側方で容器Cを挟んで電子線照射部11と対向する位置に反射板13が配置されており、放射電子線11aを反射板13の反射面13aで後方散乱させることにより、後方散乱電子線11bが容器Cの底面Bに照射されるように構成されている。このため、容器Cの底面Bに対して効率良く電子線を照射することができ、1台の電子線照射装置を用いて1回の照射でありながら、容器Cの全面に対して十分な滅菌を行うことができる。また、底面Bにおける電子線の照射不足を補うことで、底面と側面の照射の偏りを改善することができるため、放射線劣化しやすい容器でも1台で滅菌することができる。
図1に示すように、本実施の形態において、搬送路12には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラー21が、一定間隔をおいて配置されている。そして、容器Cは、隣接する2つのローラー21の間に配置されている。このため、容器Cがローラー21の回転に合わせて回転して、放射電子線11aが照射される側面が絶えず変化し、容器Cの側周面全面に対して十分な量の放射電子線11aが照射されることになる。この結果、容器Cの側面を十分に滅菌することができる。なお、21cは容器Cを底面B側から支持するためにローラー21の側面の端部に設けられた鍔部である。
図3は、電子線照射中における容器の回転機構を示す模式図である。図3において、22aは固定部材、22bは支持部材、22cはローラー保持部材、22dは支点である。そして、ローラー21の回転軸は、ローラー保持部材22cの両側に突出部を有しており、一端にローラー21が取り付けられ、他端にピニオン24aが取り付けられている。また、24bはラックであり、搬送路に沿って平行に配置されている。
(1)反射板の反射面の傾斜角度
反射板13は、反射面13aの傾斜角度θが変更できるように支持されていることが好ましい。具体的には、図2Bにおいて、例えば、配管30により反射板の幅方向の中央を中心として反射板13の傾きを自在に変えられるように支持する。これにより、サイズ、形態が多様な容器に対しても所望の位置に後方散乱電子線11bを照射することができる。
ローラー21は、容器Cと接触する部分21aの少なくとも一部の側面が、全周に亘って、ローレット加工または梨地加工が施されていることが好ましい。このような加工を施すことにより、容器Cとローラー21の側面との間の摩擦力が高められるため、容器Cがローラー21に対して滑りにくくなり、回転するローラー21に合わせて、確実に、容器Cを回転させることができる。
電子線の照射は、容器を水平、横向きに配置して行われる。一方、容器への内容物の充填は、通常、容器を立設させて行われるため、電子線照射後に容器を立設させる姿勢変更を行うことが好ましい。
次に、上記した電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法について説明する。
11 電子線照射部
11a 放射電子線
11b 後方散乱電子線
12 搬送路
13 反射板
13a 反射面
14 支持装置
21 ローラー
21a 容器と接触する部分
21b 容器と接触しない部分
21c 鍔部
22a 固定部材
22b 支持部材
22c ローラー保持部材
22d 支点
24 回転機構
24a ピニオン
24b ラック
30 配管
B 底面
C 容器
T 頂部
c 冷媒
θ 傾斜角度
Claims (5)
- 有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射装置であって、
前記容器を側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送路を備える搬送手段と、
前記搬送路を搬送される前記容器に向けて電子を加速して照射する電子線照射部を備える電子線照射手段と、
前記搬送路の側方で前記容器を挟んで前記電子線照射部と対向する位置に配置され、前記電子線照射部より照射された前記電子線を前記容器の底面に反射させる反射面を有する反射板とが備えられており、
前記搬送手段には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラーが、一定間隔をおいて配置されており、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送するように構成され、
前記ローラーは、側面の一方の端部に鍔部が設けられており、前記鍔部が設けられた端部を下側にして水平方向に対して1~80°の角度を付けて配置されており、前記側面が重金属製であり、前記容器との非接触部分の少なくとも一部に全周に亘って鏡面加工が施されていることを特徴とする電子線照射装置。 - 前記反射板が、冷却可能であることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。
- 前記反射板の前記反射面が、鏡面加工されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子線照射装置。
- 前記反射板において、少なくとも前記反射面が、金属を用いて形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の電子線照射装置。
- 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法であって、
前記容器を、側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送工程と、
前記搬送路を搬送される前記容器の側面に向けて電子を加速して照射すると共に、前記電子線照射部より照射され、前記反射板の反射面から反射してきた電子線を前記容器の底面に照射する電子線照射工程とを備えており、
前記搬送工程において、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送することを特徴とする電子線照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019147236A JP7246619B2 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 電子線照射装置および電子線照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019147236A JP7246619B2 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 電子線照射装置および電子線照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021028225A JP2021028225A (ja) | 2021-02-25 |
JP7246619B2 true JP7246619B2 (ja) | 2023-03-28 |
Family
ID=74667390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019147236A Active JP7246619B2 (ja) | 2019-08-09 | 2019-08-09 | 電子線照射装置および電子線照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7246619B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000325441A (ja) | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子線照射方法 |
WO2001023007A1 (en) | 1999-09-24 | 2001-04-05 | Iotron Industries Canada Inc. | Electron beam sterilization of contained liquids |
JP2002211520A (ja) | 2001-01-15 | 2002-07-31 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 容器の電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法 |
WO2008129397A2 (en) | 2007-04-18 | 2008-10-30 | S.I.P.A. Societa'industrializzazione Progettazione E Automazione S.P.A. | Sterilization system for pet containers and bottles |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11248894A (ja) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子線照射方法及びその装置 |
US7767987B2 (en) * | 2005-10-18 | 2010-08-03 | Japan Ae Power Systems Corporation | Electron beam irradiation method, electron beam irradiation apparatus, and electron beam irradiation apparatus for open-mouthed container |
-
2019
- 2019-08-09 JP JP2019147236A patent/JP7246619B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000325441A (ja) | 1999-05-21 | 2000-11-28 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子線照射方法 |
WO2001023007A1 (en) | 1999-09-24 | 2001-04-05 | Iotron Industries Canada Inc. | Electron beam sterilization of contained liquids |
JP2002211520A (ja) | 2001-01-15 | 2002-07-31 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 容器の電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法 |
WO2008129397A2 (en) | 2007-04-18 | 2008-10-30 | S.I.P.A. Societa'industrializzazione Progettazione E Automazione S.P.A. | Sterilization system for pet containers and bottles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021028225A (ja) | 2021-02-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6313544B2 (ja) | 容器蓋の放射線ベースの消毒装置および方法 | |
JP6100696B2 (ja) | 連続滅菌装置 | |
JP5680854B2 (ja) | 医療器具を含む包装体のような製品の放射による除染のための方法および装置 | |
RU2465918C2 (ru) | Система для стерилизации емкостей и бутылок из пэт | |
JP4365835B2 (ja) | 開口容器用電子線照射装置 | |
WO2001062339A1 (en) | Bulk material irradiation system and method | |
JP5558209B2 (ja) | 電子線殺菌装置 | |
JP4903547B2 (ja) | 電子線照射装置の性能判定装置 | |
JP2009132506A (ja) | 容器殺菌装置 | |
JP7246619B2 (ja) | 電子線照射装置および電子線照射方法 | |
JP4420237B2 (ja) | プラスチック空容器の電子線殺菌装置および殺菌方法 | |
JPH11114030A (ja) | プラスチック空容器の電子線殺菌装置および殺菌方法 | |
JP5209050B2 (ja) | β線放射を用いた滅菌 | |
JP2014094782A (ja) | ビームフィンガのためのビーム保護を有する電子ビームによる容器の殺菌 | |
JP2007113936A (ja) | 電子線照射方法および電子線照射装置 | |
JP7205802B2 (ja) | 電子線照射装置および電子線照射方法 | |
JP2009132425A (ja) | 容器殺菌装置 | |
JP2003066198A (ja) | キャップ殺菌装置および殺菌方法 | |
JP2010023917A (ja) | スタンドパウチ殺菌用電子線照射装置 | |
US20140124681A1 (en) | Container closure sterilising unit | |
JP7068996B2 (ja) | 殺菌装置 | |
JP2007113935A (ja) | 電子線照射方法および電子線照射装置 | |
JP6249713B2 (ja) | 電子線滅菌装置、およびそれを用いた滅菌容器内部の滅菌方法 | |
US5825037A (en) | Compact, selfshielded electron beam processing technique for three dimensional products | |
JP5082050B2 (ja) | 電子線照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220722 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20220831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230227 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7246619 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |