JP7243630B2 - ２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 35
- XEXIPRQHXNUUAA-UHFFFAOYSA-N [5-(aminomethyl)oxolan-2-yl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)O1 XEXIPRQHXNUUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 59
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 31
- VKLGKDZCKSMSHG-UHFFFAOYSA-N [5-(aminomethyl)furan-2-yl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)O1 VKLGKDZCKSMSHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 claims description 3
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- QVDZSYSWFHRVRU-UHFFFAOYSA-N (5-methyloxolan-2-yl)methanamine Chemical compound CC1CCC(CN)O1 QVDZSYSWFHRVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000000769 gas chromatography-flame ionisation detection Methods 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTJJDEAJWSSXSW-UHFFFAOYSA-N (5-methanimidoylfuran-2-yl)methanamine Chemical compound N=CC1=CC=C(O1)CN HTJJDEAJWSSXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 2-pentanol Substances CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2-butanol Chemical compound CC(C)C(C)O MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N neopentyl alcohol Chemical compound CC(C)(C)CO KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-2-(2-methylphenyl)-1,3-thiazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1=NC(CCl)=CS1 QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAZRCBVXUOCTIO-UHFFFAOYSA-N 5-(chloromethyl)furan-2-carbaldehyde Chemical compound ClCC1=CC=C(C=O)O1 KAZRCBVXUOCTIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOEGNKMFWQHSLB-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxymethylfurfural Chemical compound OCC1=CC=C(C=O)O1 NOEGNKMFWQHSLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMERSFWXTRZURD-UHFFFAOYSA-O CC1=CC=C(C=[NH2+])O1.[N-]=[N+]=[N-] Chemical compound CC1=CC=C(C=[NH2+])O1.[N-]=[N+]=[N-] OMERSFWXTRZURD-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- OSJQIHCYRRJEKK-UHFFFAOYSA-N [5-(aminomethyl)furan-2-yl]methanamine Chemical compound C1=C(OC(=C1)CN)CN.C1=C(OC(=C1)CN)CN OSJQIHCYRRJEKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- RJGBSYZFOCAGQY-UHFFFAOYSA-N hydroxymethylfurfural Natural products COC1=CC=C(C=O)O1 RJGBSYZFOCAGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D307/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D307/14—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07B61/00—Other general methods
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Description
本発明は、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法に関する。
テトラヒドロフラン骨格を有する化合物は、樹脂、医薬品、および香料等の原材料や中間体として有用である。中でも、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランは、官能基としてアミノ基を有するため、エポキシ樹脂硬化剤や、化合物の中間原料等として有用であり、その製造方法が検討されている。
例えば、特許文献１には、以下に示すように、｛５－（イミノメチル）フラン－２－イル｝メタンアミンや｛５－（イミノメチル）フラン－２－イル｝メタンアジドを出発物とし、ラネーニッケル触媒の存在下、接触水素化反応を行うことにより、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを合成できることが開示されている。
原料の入手容易性や、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの供給の安定性から、特許文献１における｛５－（イミノメチル）フラン－２－イル｝メタンアミンや｛５－（イミノメチル）フラン－２－イル｝メタンアジド等以外の原料から、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを製造する方法が求められている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを製造できる製造方法を提供することを課題とする。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを製造できる製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らが２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法について鋭意検討した結果、触媒を用いて２，５－ビス（アミノメチル）フランを水素化反応に供することによって、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
＜１＞２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、水素化触媒を用いて水素供給源を反応させることにより、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを得る工程を含む、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法。
＜２＞ワンポット合成である、＜１＞に記載の製造方法。
＜３＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜５＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜６＞前記水素化触媒が、Ｒｈを含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜７＞前記水素供給源が、水素および炭素数１～５のアルコールの少なくとも１種を含む、＜１＞～＜６＞のいずれか一つに記載の製造方法。
＜８＞前記反応が、水素圧０ＭＰａ超過２５ＭＰａ以下で行なわれる、＜１＞～＜７＞のいずれか一つに記載の製造方法。
＜９＞２，５－ビス（アミノメチル）フランを反応釜に供給することを含む、＜１＞～＜９＞のいずれか一つに記載の製造方法。
＜１＞２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、水素化触媒を用いて水素供給源を反応させることにより、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを得る工程を含む、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法。
＜２＞ワンポット合成である、＜１＞に記載の製造方法。
＜３＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜５＞前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜６＞前記水素化触媒が、Ｒｈを含む、＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜７＞前記水素供給源が、水素および炭素数１～５のアルコールの少なくとも１種を含む、＜１＞～＜６＞のいずれか一つに記載の製造方法。
＜８＞前記反応が、水素圧０ＭＰａ超過２５ＭＰａ以下で行なわれる、＜１＞～＜７＞のいずれか一つに記載の製造方法。
＜９＞２，５－ビス（アミノメチル）フランを反応釜に供給することを含む、＜１＞～＜９＞のいずれか一つに記載の製造方法。
本発明の製造方法は、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを得ることができ、工業的に有利な製造方法である。また、本発明の製造方法によって得られる２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランは、樹脂、医薬品、および香料の原材料や中間体として有用である。
以下に本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本実施形態の製造方法は、２，５－ビス（アミノメチル）フラン（以下、Ｈ－ＢＡＦとも記載する。）に対して、水素化触媒を用いて水素供給源を反応させることにより、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン（以下、ＢＡＦとも記載する。）を得る工程を含むことを特徴とする。このような構成とすることにより、効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランが得られる。好ましくは、ワンポット合成で得ることができる。
本発明者らが２，５－ビス（アミノメチル）フランから２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを製造する方法について検討を行った結果、反応基質である２，５－ビス（アミノメチル）フランは反応性が高いために、副生成物が生じやすいことがわかった。具体的には、副生成物として、以下の２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランを生成することが確認された。下記において、Ｍｅはメチル基である。
副生成物の生成は、目的物である２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率低下や、副生成物を除去するために精製を必要とし、製造工程が煩雑になるといった問題を招来する。特に２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランは、目的物である２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランと構造が近似しているため、生成物の混合物から、一般的な精製方法によって目的物と分離することが困難な副生成物である。
本発明者らは、反応条件についてさらに検討を重ねた結果、２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、水素化触媒（特に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む水素化触媒）を用いて水素供給源を反応させることにより、オレフィンが選択的に反応し、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランが生じることなく、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを効率的に得られることを見出した。
本発明者らは、反応条件についてさらに検討を重ねた結果、２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、水素化触媒（特に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む水素化触媒）を用いて水素供給源を反応させることにより、オレフィンが選択的に反応し、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランが生じることなく、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを効率的に得られることを見出した。
（２，５－ビス（アミノメチル）フラン）
本実施形態における２，５－ビス（アミノメチル）フランは、市販品として入手可能である。また、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、５－ヒドロキシメチルフルフラールや５－（クロロメチル）フルフラール等の公知の化合物から有機合成手法を用いて合成してもよい。
本実施形態における２，５－ビス（アミノメチル）フランは、市販品として入手可能である。また、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、５－ヒドロキシメチルフルフラールや５－（クロロメチル）フルフラール等の公知の化合物から有機合成手法を用いて合成してもよい。
（水素化触媒）
本実施形態における水素化触媒は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含むことが好ましい。これらの金属は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
上述したように、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランは反応性が高いために、副生成物が生じやすい。特に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種の金属は、触媒としての活性が強すぎないため、副生成物である２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成を抑制できると考えられる。
本実施形態における水素化触媒は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種の金属を含むことが好ましい。これらの金属は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
上述したように、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランは反応性が高いために、副生成物が生じやすい。特に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種の金属は、触媒としての活性が強すぎないため、副生成物である２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成を抑制できると考えられる。
上述した金属は、担体に担持されていてもよい。担体としては、触媒の担体として通常使用される担体であれば特に制限されず、例えば、無機酸化物、活性炭素、イオン交換樹脂等が挙げられる。無機酸化物としては、具体的には、シリカ（ＳｉＯ２）、チタニア（ＴｉＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、これら無機酸化物の二種以上の複合体（例えば、ゼオライト等）等が挙げられる。
水素化触媒の好ましい形態として、水素化触媒は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが挙げられる。
また、他の好ましい形態として、水素化触媒は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが挙げられる。
さらに他の好ましい形態として、水素化触媒は、ＲｕおよびＲｈの少なくとも一種を含むことが挙げられる。
さらに他の好ましい形態として、水素化触媒は、Ｒｈを含むことが挙げられる。
水素化触媒としては、具体的には、還元鉄等の鉄（Ｆｅ）触媒；還元コバルトおよびラネーコバルト等のコバルト（Ｃｏ）触媒；還元ニッケル、酸化ニッケルおよびラネーニッケル（以下、Ｒａｎｅｙ－Ｎｉとも記載する。）等のニッケル（Ｎｉ）触媒；塩化銅（II）、塩化銅（Ｉ）、銅（０）、亜酸化銅（Ｉ）、酸化銅（II）等の銅（Ｃｕ）触媒；ルテニウム／炭素およびルテニウム／アルミナ等のルテニウム（Ｒｕ）触媒；ロジウム／炭素およびロジウム／アルミナ等のロジウム（Ｒｈ）触媒；白金担持過レニウム酸等のレニウム（Ｒｅ）触媒；オスミウム／炭素等のオスミウム（Ｏｓ）触媒；等が挙げられる。
また、他の好ましい形態として、水素化触媒は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが挙げられる。
さらに他の好ましい形態として、水素化触媒は、ＲｕおよびＲｈの少なくとも一種を含むことが挙げられる。
さらに他の好ましい形態として、水素化触媒は、Ｒｈを含むことが挙げられる。
水素化触媒としては、具体的には、還元鉄等の鉄（Ｆｅ）触媒；還元コバルトおよびラネーコバルト等のコバルト（Ｃｏ）触媒；還元ニッケル、酸化ニッケルおよびラネーニッケル（以下、Ｒａｎｅｙ－Ｎｉとも記載する。）等のニッケル（Ｎｉ）触媒；塩化銅（II）、塩化銅（Ｉ）、銅（０）、亜酸化銅（Ｉ）、酸化銅（II）等の銅（Ｃｕ）触媒；ルテニウム／炭素およびルテニウム／アルミナ等のルテニウム（Ｒｕ）触媒；ロジウム／炭素およびロジウム／アルミナ等のロジウム（Ｒｈ）触媒；白金担持過レニウム酸等のレニウム（Ｒｅ）触媒；オスミウム／炭素等のオスミウム（Ｏｓ）触媒；等が挙げられる。
２，５－ビス（アミノメチル）フランに対する触媒の量は、適宜調整すればよく、一般的には、２，５－ビス（アミノメチル）フランの質量に対して、１～２００質量部である。触媒の量は、２，５－ビス（アミノメチル）フランの質量に対して、好ましくは１～１５０質量部であり、より好ましくは１～１００質量部である。
（水素供給源）
本実施形態における水素供給源は、オレフィンを還元することができる水素源であれば特に制限されず、例えば、水素および炭素数１～５のアルコールが好適に挙げられる。これらの水素供給源は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態における水素供給源は、オレフィンを還元することができる水素源であれば特に制限されず、例えば、水素および炭素数１～５のアルコールが好適に挙げられる。これらの水素供給源は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
炭素数１～５のアルコールとしては、具体的には、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｎ－アミルアルコール、ｓｅｃ－アミルアルコール、３－ペンタノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－１－ブタノール、２－メチル－２－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、ネオペンチルアルコール等が挙げられる。これらの炭素数１～５のアルコールは、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの炭素数１～５のアルコールの中でも好ましくは、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｎ－アミルアルコール、ｓｅｃ－アミルアルコールである。
これらの炭素数１～５のアルコールの中でも好ましくは、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｎ－アミルアルコール、ｓｅｃ－アミルアルコールである。
本実施形態の反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒は、特に限定されず、反応温度や反応物等によって適宜選択される。
溶媒としては、２，５－ビス（アミノメチル）フランの一部または全量を溶解することができ、水素化反応を妨げないものであれば特に限定されず、例えば、芳香族炭化水素溶媒、アミド溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、ハロゲン溶媒等が挙げられ、エーテル溶媒が好ましい。これら溶媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶媒としては、２，５－ビス（アミノメチル）フランの一部または全量を溶解することができ、水素化反応を妨げないものであれば特に限定されず、例えば、芳香族炭化水素溶媒、アミド溶媒、エーテル溶媒、アルコール溶媒、ハロゲン溶媒等が挙げられ、エーテル溶媒が好ましい。これら溶媒は、一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
芳香族炭化水素溶媒としては、具体的には、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。
アミド溶媒としては、具体的には、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等が挙げられる。本発明で用いる溶媒は、キシレンを実質的に含まないことが好ましい。実質的に含まないとは、キシレンが溶媒の１０質量％以下であることをいい、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましく、０質量％であることがさらに好ましい。
エーテル溶媒としては、具体的には、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦとも記載する。）、ジエチルエーテル等が挙げられる。
アルコール溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。アルコール溶媒は、水素供給源にもなる。
ハロゲン溶媒としては、具体的には、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等が挙げられる。
アミド溶媒としては、具体的には、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等が挙げられる。本発明で用いる溶媒は、キシレンを実質的に含まないことが好ましい。実質的に含まないとは、キシレンが溶媒の１０質量％以下であることをいい、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましく、０質量％であることがさらに好ましい。
エーテル溶媒としては、具体的には、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦとも記載する。）、ジエチルエーテル等が挙げられる。
アルコール溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。アルコール溶媒は、水素供給源にもなる。
ハロゲン溶媒としては、具体的には、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等が挙げられる。
溶媒の使用の有無およびその使用量は、特に限定されないが、生産性およびエネルギー効率の観点から、２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、好ましくは０．５～１００質量倍であり、より好ましくは１．０～５０質量倍であり、さらに好ましくは１．０～２０質量倍である。
本実施形態における溶媒は、水の含有量が少ないことが好ましい。溶媒中の水の含有量は、好ましくは０～３．０質量％であり、より好ましくは０～２．０質量％であり、さらに好ましくは０～１．０質量％である。溶媒中の水の含有量が少ないことにより、副生成物の生成を抑えられ、さらに目的物である２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン生成の選択性を向上させることができる。
本実施形態において、溶媒の９５質量％以上がエーテル溶媒である態様が例示される。
本実施形態において、溶媒の９５質量％以上がエーテル溶媒である態様が例示される。
（反応条件）
本実施形態の製造方法は、具体的には、２，５－ビス（アミノメチル）フラン、水素化触媒、および水素供給源、並びに必要に応じて溶媒を混合して、反応させる方法を挙げることができる。本発明では、通常、反応系に２，５－ビス（アミノメチル）フランが供給される。このように反応系（例えば、反応器、反応釜）に直接に２，５－ビス（アミノメチル）フランを原料として投入することにより、より効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランが得られる。
２，５－ビス（アミノメチル）フラン、水素化触媒、溶媒および水素供給源を混合する順番は任意である。作業効率の観点から、本実施形態の製造方法では、あらかじめ２，５－ビス（アミノメチル）フランと水素化触媒とを混合し、次に水素供給源を導入することが好ましい。
本実施形態の製造方法は、具体的には、２，５－ビス（アミノメチル）フラン、水素化触媒、および水素供給源、並びに必要に応じて溶媒を混合して、反応させる方法を挙げることができる。本発明では、通常、反応系に２，５－ビス（アミノメチル）フランが供給される。このように反応系（例えば、反応器、反応釜）に直接に２，５－ビス（アミノメチル）フランを原料として投入することにより、より効率的に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランが得られる。
２，５－ビス（アミノメチル）フラン、水素化触媒、溶媒および水素供給源を混合する順番は任意である。作業効率の観点から、本実施形態の製造方法では、あらかじめ２，５－ビス（アミノメチル）フランと水素化触媒とを混合し、次に水素供給源を導入することが好ましい。
本実施形態の製造方法において、水素化触媒を添加するときは、使用する水素化触媒に応じ、適宜、発火することを防ぐため、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよく、水素化触媒を溶媒等に懸濁させ、懸濁液として添加してもよい。
本実施形態の製造方法は、水素供給源として水素を用いる場合、反応を水素圧０ＭＰａ超過２５ＭＰａ以下で行うことが好ましい。水素圧は、より好ましくは０．５ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下であり、さらに好ましくは１．０ＭＰａ以上１０ＭＰａ以下である。
反応温度は、溶媒の種類等に応じて適宜調整すればよく、一般的には４０～２００℃、好ましくは５０～１２０℃、より好ましくは５０～１１０℃、さらに好ましくは７０～１１５℃である。
反応時間は、ＧＣ－ＭＳ等を用い反応の進行状況をモニタリングすることによって適宜調整すればよく、一般的には１分～２４時間、好ましくは０．５～３時間、より好ましくは０．５～２時間である。
反応時間は、ＧＣ－ＭＳ等を用い反応の進行状況をモニタリングすることによって適宜調整すればよく、一般的には１分～２４時間、好ましくは０．５～３時間、より好ましくは０．５～２時間である。
反応後における反応混合物と触媒との分離は、沈降、遠心分離、濾過等の一般的な方法により行うことができる。触媒の分離は、使用する触媒に応じ、発火することを防ぐため、適宜、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
また、反応混合物は、得られた反応溶液を必要に応じて濃縮した後、残渣をそのまま原材料や中間体として使用してもよく、反応混合物を適宜後処理して精製してもよい。後処理の具体的な方法としては、抽出、蒸留、クロマトグラフィー等の公知の精製方法を挙げることができる。これらの精製方法は、二種以上を組み合わせて行ってもよい。
また、反応混合物は、得られた反応溶液を必要に応じて濃縮した後、残渣をそのまま原材料や中間体として使用してもよく、反応混合物を適宜後処理して精製してもよい。後処理の具体的な方法としては、抽出、蒸留、クロマトグラフィー等の公知の精製方法を挙げることができる。これらの精製方法は、二種以上を組み合わせて行ってもよい。
以下、実験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は以下の実験例に何ら限定されるものではない。
（例１）
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン０．５ｇに対し、溶媒としてＴＨＦ３ｍＬ、触媒としてＲｕ／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）（Ｒｕ触媒の量は５質量％である、以下、「５質量％Ｒｕ／アルミナ」等と表示する）０．１ｇを投入後、水素圧力を３ＭＰａＧまで昇圧した。なお、Ｒｕ／アルミナは、事前に１５０℃で１２時間還元させたものを使用した。
その後温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。
アルゴンガス流通下、触媒と反応液を濾過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液についてＣＩ法による精密質量測定を行った。なお、ＣＩ法による精密質量測定は、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）を用いて実施した。
また、濾液を濃縮して得られた残渣の一部を、重クロロホルムに溶解し、１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行った。なお、ＮＭＲ測定装置は、日本電子株式会社製のＪＮＭ－ＥＣＡ５００（５００ＭＨｚ）を使用した。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
ＴＨＦは、和光純薬工業株式会社製、分光分析用を使用した。
Ｒｕ／アルミナは、アルミナに担持されたルテニウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン０．５ｇに対し、溶媒としてＴＨＦ３ｍＬ、触媒としてＲｕ／アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）（Ｒｕ触媒の量は５質量％である、以下、「５質量％Ｒｕ／アルミナ」等と表示する）０．１ｇを投入後、水素圧力を３ＭＰａＧまで昇圧した。なお、Ｒｕ／アルミナは、事前に１５０℃で１２時間還元させたものを使用した。
その後温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。
アルゴンガス流通下、触媒と反応液を濾過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液についてＣＩ法による精密質量測定を行った。なお、ＣＩ法による精密質量測定は、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）を用いて実施した。
また、濾液を濃縮して得られた残渣の一部を、重クロロホルムに溶解し、１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ測定を行った。なお、ＮＭＲ測定装置は、日本電子株式会社製のＪＮＭ－ＥＣＡ５００（５００ＭＨｚ）を使用した。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
ＴＨＦは、和光純薬工業株式会社製、分光分析用を使用した。
Ｒｕ／アルミナは、アルミナに担持されたルテニウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
＜生成物の収率＞
ＧＣ－ＦＩＤ検出強度（面積値）における全ピークの面積値に対する２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの面積値の割合を２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率とした。
具体的には、反応液のＧＣ－ＦＩＤ測定により得られたＧＣ－ＦＩＤ検出強度（面積値）から全ピークの面積値を求め、全ピークの面積値に対する２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの面積値の割合が８２％であったため、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率を８２％とした。
ＧＣ－ＦＩＤ検出強度（面積値）における全ピークの面積値に対する２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの面積値の割合を２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率とした。
具体的には、反応液のＧＣ－ＦＩＤ測定により得られたＧＣ－ＦＩＤ検出強度（面積値）から全ピークの面積値を求め、全ピークの面積値に対する２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの面積値の割合が８２％であったため、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率を８２％とした。
＜生成物の同定（１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ、ＣＩ法による精密質量測定の結果）＞
例１にて得られた生成物を１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ測定したところ、原料である２，５－ビス（アミノメチル）フランを差し引いたケミカルシフトより、得られた化合物は１Ｈ－ＮＭＲ測定からテトラヒドロフラン環を有し、１３Ｃ－ＮＭＲ測定から分子構造に対称性があることが分かった。さらにＣｈｅｍＤｒａｗから計算した２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲシフトと測定したケミカルシフトがほぼ一致した。
さらにＣＩ法により精密分子量を求めたところ１３１であり、これは２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランにカウンターカチオンとしてプロトンが配位した分子量であったため、目的物であることが確認された。２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成は見られなかった。
例１にて得られた生成物を１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲ測定したところ、原料である２，５－ビス（アミノメチル）フランを差し引いたケミカルシフトより、得られた化合物は１Ｈ－ＮＭＲ測定からテトラヒドロフラン環を有し、１３Ｃ－ＮＭＲ測定から分子構造に対称性があることが分かった。さらにＣｈｅｍＤｒａｗから計算した２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲシフトと測定したケミカルシフトがほぼ一致した。
さらにＣＩ法により精密分子量を求めたところ１３１であり、これは２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランにカウンターカチオンとしてプロトンが配位した分子量であったため、目的物であることが確認された。２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成は見られなかった。
（例２）
触媒として５質量％Ｐｄ／カーボン（Ｃ）を用いたこと以外は、例１と同様に実施した。
例１と同様に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率を求めたところ、４１％であった。また、生成物の同定を同様に行ったところ２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランと共に、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成が確認された。
Ｐｄ／カーボン（Ｃ）は、カーボンに担持されたＰｄ触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
触媒として５質量％Ｐｄ／カーボン（Ｃ）を用いたこと以外は、例１と同様に実施した。
例１と同様に２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの収率を求めたところ、４１％であった。また、生成物の同定を同様に行ったところ２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランと共に、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフランの生成が確認された。
Ｐｄ／カーボン（Ｃ）は、カーボンに担持されたＰｄ触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
（例３）
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン２０ｇに対し、触媒として５質量％のＲｕ／アルミナ８ｇ、溶媒としてＴＨＦ１２０ｍＬを投入後、水素圧力を６ＭＰａＧまで昇圧し、温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。アルゴンガス流通下、触媒と反応液をろ過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液を得た後濃縮した。なお、Ｒｕ／アルミナは、事前に１５０℃で１２時間還元させたものを使用した。
得られた生成物を、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）にて分析したところ、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン９１モル％、２，５－ビス（アミノメチル）フラン０モル％、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフラン９モル％であった。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
Ｒｕ／アルミナは、アルミナに担持されたルテニウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン２０ｇに対し、触媒として５質量％のＲｕ／アルミナ８ｇ、溶媒としてＴＨＦ１２０ｍＬを投入後、水素圧力を６ＭＰａＧまで昇圧し、温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。アルゴンガス流通下、触媒と反応液をろ過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液を得た後濃縮した。なお、Ｒｕ／アルミナは、事前に１５０℃で１２時間還元させたものを使用した。
得られた生成物を、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）にて分析したところ、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン９１モル％、２，５－ビス（アミノメチル）フラン０モル％、２－（アミノメチル）－５－メチルテトラヒドロフラン９モル％であった。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
Ｒｕ／アルミナは、アルミナに担持されたルテニウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
（例４）
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン２０ｇに対し、触媒として５質量％Ｒｈ／Ｃ８ｇ、溶媒としてＴＨＦ１２０ｍＬを投入後、水素圧力を６ＭＰａＧまで昇圧し、温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。アルゴンガス流通下、触媒と反応液をろ過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液を得た後、濃縮し、減圧蒸留を温度１２０℃、圧力１ｍｂａｒで行い、精製した。得られた生成物を、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）にて分析したところ、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン１００モル％であった。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
Ｒｈ／アルミナは、アルミナに担持されたロジウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
耐圧オートクレーブに２，５－ビス（アミノメチル）フラン２０ｇに対し、触媒として５質量％Ｒｈ／Ｃ８ｇ、溶媒としてＴＨＦ１２０ｍＬを投入後、水素圧力を６ＭＰａＧまで昇圧し、温度を９０℃で１時間保持したまま反応し、耐圧オートクレーブを氷水で冷却して反応を停止した。アルゴンガス流通下、触媒と反応液をろ過することによって触媒を除去し、生成物を含む濾液を得た後、濃縮し、減圧蒸留を温度１２０℃、圧力１ｍｂａｒで行い、精製した。得られた生成物を、ＧＣ－ＭＳスペクトル装置Ａｇｉｌｅｎｔ７８９０ＢＧＣ／５９７７ＭＳＤ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．製）にて分析したところ、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフラン１００モル％であった。
なお、２，５－ビス（アミノメチル）フランは、トロントリサーチケミカルス社製のものを使用した。
Ｒｈ／アルミナは、アルミナに担持されたロジウム触媒であり、エヌ・イー ケムキャット株式会社製のものを使用した。
Claims (8)
- ２，５－ビス（アミノメチル）フランに対して、水素化触媒を用いて水素供給源を反応させることにより、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランを得る工程を含み、
さらに、２，５－ビス（アミノメチル）フランを反応系に供給することを含む（ただし、アミノアルコールの存在下で水素化反応を行う場合を除く）、２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法。 - ワンポット合成である、請求項１に記載の製造方法。
- 前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記水素化触媒が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、ＲｅおよびＯｓからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記水素化触媒が、Ｒｈを含む、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記水素供給源が、水素および炭素数１～５のアルコールの少なくとも１種を含む、請求項１～６のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記反応が、水素圧０ＭＰａ超過２５ＭＰａ以下で行なわれる、請求項１～７のいずれか一項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017197724 | 2017-10-11 | ||
| JP2017197724 | 2017-10-11 | ||
| PCT/JP2018/037649 WO2019073987A1 (ja) | 2017-10-11 | 2018-10-10 | ２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2019073987A1 JPWO2019073987A1 (ja) | 2020-12-03 |
| JP7243630B2 true JP7243630B2 (ja) | 2023-03-22 |
Family
ID=66101539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019548207A Active JP7243630B2 (ja) | 2017-10-11 | 2018-10-10 | ２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11396498B2 (ja) |
| EP (1) | EP3696172B1 (ja) |
| JP (1) | JP7243630B2 (ja) |
| CN (1) | CN111201221B (ja) |
| TW (1) | TWI785127B (ja) |
| WO (1) | WO2019073987A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020153280A1 (ja) * | 2019-01-22 | 2020-07-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 組成物、硬化物、硬化物の製造方法、コーティング膜の製造方法および組成物の製造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008143832A (ja) | 2006-12-08 | 2008-06-26 | New Japan Chem Co Ltd | 脂環式アミン又は飽和複素環式アミンの製造方法 |
| JP2014524953A (ja) | 2011-07-08 | 2014-09-25 | ロディア オペレーションズ | 新規なポリアミド、その製造方法及びその使用 |
| JP2017101179A (ja) | 2015-12-03 | 2017-06-08 | ユニチカ株式会社 | ポリアミドおよびその製造方法 |
| JP2017521430A (ja) | 2014-07-10 | 2017-08-03 | ローディア オペレーションズ | 芳香族第一級ジアミンの製造方法 |
| CN107474026A (zh) | 2016-06-08 | 2017-12-15 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种2,5‑二氨甲基四氢呋喃的制备方法 |
| WO2018113599A1 (en) | 2016-12-22 | 2018-06-28 | Rhodia Operations | A process for producing a tetrahydrofuran compound comprising at least two amine functional groups |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2857397A (en) | 1956-02-27 | 1958-10-21 | Arthur C Cope | 2, 5-bis(phthalimidomethyl)-tetrahydrofuran |
| CN103073526B (zh) * | 2012-12-26 | 2014-12-03 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种2，5-二取代的四氢呋喃类混合物的制备方法 |
| EP3142997A1 (en) | 2014-05-12 | 2017-03-22 | Micromidas, Inc. | Methods of producing compounds from 5-(halomethyl)furfural |
| EP3186236A1 (en) * | 2014-08-28 | 2017-07-05 | Micromidas, Inc. | Diamine compounds, dinitro compounds and other compounds, and methods of producing thereof and uses related thereof |
| CN108129426B (zh) * | 2016-12-01 | 2021-06-29 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种2,5-二氰基呋喃催化加氢合成2,5-二甲胺基呋喃的方法 |
| EP3656766B1 (en) * | 2017-07-21 | 2021-09-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing 2,5-bis(aminomethyl)furan |
| US20210221782A1 (en) * | 2017-10-11 | 2021-07-22 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing 2,5-bis(aminomethyl)tetrahydrofuran |
-
2018
- 2018-10-10 EP EP18866438.7A patent/EP3696172B1/en active Active
- 2018-10-10 CN CN201880066162.1A patent/CN111201221B/zh active Active
- 2018-10-10 US US16/754,997 patent/US11396498B2/en active Active
- 2018-10-10 WO PCT/JP2018/037649 patent/WO2019073987A1/ja unknown
- 2018-10-10 JP JP2019548207A patent/JP7243630B2/ja active Active
- 2018-10-11 TW TW107135726A patent/TWI785127B/zh active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008143832A (ja) | 2006-12-08 | 2008-06-26 | New Japan Chem Co Ltd | 脂環式アミン又は飽和複素環式アミンの製造方法 |
| JP2014524953A (ja) | 2011-07-08 | 2014-09-25 | ロディア オペレーションズ | 新規なポリアミド、その製造方法及びその使用 |
| JP2017521430A (ja) | 2014-07-10 | 2017-08-03 | ローディア オペレーションズ | 芳香族第一級ジアミンの製造方法 |
| JP2017101179A (ja) | 2015-12-03 | 2017-06-08 | ユニチカ株式会社 | ポリアミドおよびその製造方法 |
| CN107474026A (zh) | 2016-06-08 | 2017-12-15 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种2,5‑二氨甲基四氢呋喃的制备方法 |
| WO2018113599A1 (en) | 2016-12-22 | 2018-06-28 | Rhodia Operations | A process for producing a tetrahydrofuran compound comprising at least two amine functional groups |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Industrial & Engineering Chemistry Research，1995年，３４，３３９２－３３９８ |
| Journal of the American Chemical Society，2017年，１３９，１１４９３－１１４９９ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111201221B (zh) | 2023-10-24 |
| CN111201221A (zh) | 2020-05-26 |
| WO2019073987A1 (ja) | 2019-04-18 |
| US11396498B2 (en) | 2022-07-26 |
| JPWO2019073987A1 (ja) | 2020-12-03 |
| TWI785127B (zh) | 2022-12-01 |
| EP3696172A1 (en) | 2020-08-19 |
| US20200308126A1 (en) | 2020-10-01 |
| TW201922719A (zh) | 2019-06-16 |
| EP3696172A4 (en) | 2020-08-19 |
| EP3696172B1 (en) | 2023-05-31 |
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