JP7238366B2 - 分析システム - Google Patents
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Description
これによると、測定者は、表の対応する欄に分析結果を書込むことで、容易に報告書を作成することができる。
図1は、この発明の実施の形態1に係る分析システムの全体構成を概略的に示す図である。以下では、本実施の形態に係る分析システムの適用例として、蛍光X線分析システム100について説明する。
図3は、図1に示した情報処理装置20の構成を概略的に示す図である。
図4を参照して、情報処理装置20は、データ処理部50と、製品画像DB(データベース)60と、フォーマットDB62とを有する。これらの機能構成は、図3に示す情報処理装置20において、CPU22が所定のプログラムを実行することで実現される。
以下の実施の形態2~4では、実施の形態1に係る報告書のフォーマットの他の構成例について説明する。
本実施の形態では、測定者は、表示された報告書F2のフォーマット上で、入力部34を用いて、領域80に示された複数の測定位置の候補の中から測定位置を選択することができる。例えば図8に示すように、入力部34を操作して表示画面上のカーソル90を移動させ、製品Aの全体画像上に示された点P1~P4のうちの測定したい1点にカーソル90を合わせ、入力部34により決定操作を行なう。あるいは、入力部34がタッチパネルで構成されている場合には、点P1~P4のうちの測定したい1点を指でタッチすることにより、測定位置を選択することができる。
図11は、実施の形態3に係る蛍光X線分析システムにおける報告書のフォーマットの構成例を示す図である。図11には、図7に示した製品Aの報告書F3のフォーマットが部分的に示されている。
図13は、この発明の実施の形態4に係る蛍光X線分析システム100の全体構成を概略的に示す図である。
上述した実施の形態1~4では、蛍光X線分析装置10に撮像部18を設置することで試料Sの全体画像を撮像する構成について説明したが、撮像部18は情報処理装置20に設置する構成としてもよい。
Claims (10)
- 試料の分析を行なう分析システムであって、
前記試料の測定を行なう測定装置と、
前記測定装置を制御するとともに、前記測定装置の測定結果を分析するように構成された情報処理装置と、
前記情報処理装置による分析結果を記入するための報告書のフォーマットを表示するように構成された表示装置と、
前記試料の画像を取得する撮像部とを備え、
前記情報処理装置は、前記試料の種類に対応付けられた前記報告書のフォーマットが予め記憶されたデータベースを有しており、
前記情報処理装置は、前記撮像部により取得された前記試料の画像から前記試料の種類に関する情報を取得し、取得された前記試料の種類に基づいて、前記データベースの中から前記試料に対応する前記報告書のフォーマットを選択し、
前記報告書のフォーマットは、前記試料の画像上に前記試料の1または複数の測定位置の候補を示す第1の領域と、前記1または複数の測定位置における前記分析結果を記入するための第2の領域とを有する、分析システム。 - 測定者の入力操作を受け付ける入力部をさらに備え、
前記入力部は、前記第2の領域に前記分析結果を記入するための操作を受け付けるように構成される、請求項1に記載の分析システム。 - 前記入力部は、さらに、前記第1の領域に示された前記1または複数の測定位置の候補の中から測定位置を選択するための操作を受け付けるように構成され、
前記情報処理装置は、前記入力部が前記測定位置を選択するための操作を受け付けた場合には、前記測定位置における前記分析結果を前記第2の領域に自動的に記入する、請求項2に記載の分析システム。 - 測定者の入力操作を受け付ける入力部と、
前記試料の前記測定位置を調整するための駆動機構とをさらに備え、
前記入力部は、前記第1の領域に示された前記1または複数の測定位置の候補の中から測定位置を選択するための操作を受け付けるように構成され、
前記情報処理装置は、前記入力部が前記測定位置を選択するための操作を受け付けた場合には、前記駆動機構により前記測定位置を自動的に調整する、請求項1に記載の分析シ
ステム。 - 測定者の入力操作を受け付ける入力部と、
前記試料の前記測定位置を調整するための駆動機構とをさらに備え、
前記入力部は、前記第1の領域に示された前記1または複数の測定位置の候補の中から測定位置を選択するための操作を受け付けるように構成され、
前記情報処理装置は、前記入力部が前記測定位置を選択するための操作を受け付けた場合には、前記駆動機構により前記測定位置を自動的に調整し、前記測定装置による前記試料の測定を自動的に実行する、請求項1に記載の分析システム。 - 前記撮像部は、前記試料の全体画像を取得可能に構成され、
前記第1の領域において、前記1または複数の測定位置の候補は、前記試料の全体画像上に図示される、請求項1から5のいずれか1項に記載の分析システム。 - 前記第1の領域において、前記1または複数の測定位置は、前記試料となる製品の全体画像の全体画像上に予め設定された基準点を原点として互いに直交する2軸で規定される2次元座標面の座標値で表される、請求項1から5のいずれか1項に記載の分析システム。
- 前記第2の領域において、前記分析結果は表の形式で表示される、請求項1から7のいずれか1項に記載の分析システム。
- 前記報告書のフォーマットは、過去の分析結果を表示するための第3の領域をさらに有する、請求項1から8のいずれか1項に記載の分析システム。
- 前記分析システムは、前記試料に対してX線を照射し、前記試料から発せられる蛍光X線の強度を測定することで前記試料の元素含有量を分析する蛍光X線分析システムである、請求項1から9のいずれか1項に記載の分析システム。
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