JP7213006B2 - 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 - Google Patents
導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7213006B2 JP7213006B2 JP2017022494A JP2017022494A JP7213006B2 JP 7213006 B2 JP7213006 B2 JP 7213006B2 JP 2017022494 A JP2017022494 A JP 2017022494A JP 2017022494 A JP2017022494 A JP 2017022494A JP 7213006 B2 JP7213006 B2 JP 7213006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonia
- concentration
- aqueous solution
- water
- conductivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 title claims description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 49
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical group N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 254
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 107
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 100
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 93
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 74
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 66
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 57
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 47
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 66
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 24
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 20
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 17
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 12
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical group O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 ammonium ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/02—Inorganic compounds
- C11D7/04—Water-soluble compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/68—Treatment of water, waste water, or sewage by addition of specified substances, e.g. trace elements, for ameliorating potable water
- C02F1/685—Devices for dosing the additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/422—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using anionic exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/425—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using cation exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
- C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
- C11D2111/10—Objects to be cleaned
- C11D2111/14—Hard surfaces
- C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
図4に示す導電性水溶液製造装置1を用い、導電性水溶液W1として希薄アンモニア水を製造した。ここで、図4に示す導電性水溶液製造装置1は、図1に示す導電性水溶液製造装置において、導電性付与物質供給装置3が導電性付与物質としてアンモニア水を供給するものであり、イオン交換装置2にイオン交換体としてカチオン交換樹脂を充填したものであり、さらに試験用にイオン交換装置2の上流及び下流に入口サンプリングポイント及び処理水サンプリングポイントを設けるとともにアンモニア水の添加箇所の下流に出口サンプリングポイントを設けたものである。
実施例1において、アンモニア濃度が0.1mg/Lとなるように設定を変更し、これに伴い導電性付与物質供給装置3からのアンモニアの注入量を変更した以外は同様にして希薄アンモニア水W1を製造した。そして、設定変更から1分経過後、出口サンプリングポイントでアンモニア水溶液を採取し、アンモニア濃度と金属濃度を測定したところ、アンモニア濃度は0.1mg/Lで金属イオン濃度は0.1ng/L未満であった。これらの結果を入口水(超純水W)及びイオン交換装置2の処理水の金属イオン濃度とともに表1にあわせて示す。
実施例1において、原料水として金属イオン濃度100ng/Lの超純水Wをイオン交換装置2で処理した後、アンモニア濃度35mg/Lとなるように初期設定して導電性付与物質供給装置3からアンモニアを注入し、初期アンモニア水を製造した。この初期アンモニア水の濃度が安定した時点で出口サンプリングポイントで初期アンモニア水溶液をサンプリングし、アンモニア濃度と金属濃度を測定した結果、アンモニア濃度は35mg/Lで金属イオン濃度は100ng/Lであった。
実施例1において、原料水として金属イオン濃度10ng/Lの超純水Wをイオン交換装置2で処理した後、アンモニア濃度0.1mg/Lとなるように初期設定して導電性付与物質供給装置3からアンモニアを注入し、初期アンモニア水を製造した。この初期アンモニア水の濃度が安定した時点で出口サンプリングポイントで初期アンモニア水溶液をサンプリングし、アンモニア濃度と金属濃度を測定した結果、アンモニア濃度は0.1mg/Lで金属イオン濃度は0.1ng/L未満であった。
図5に示す導電性水溶液製造装置1を用い、希薄アンモニア水W1を製造した。ここで、図5に示す導電性水溶液製造装置1は、図3に示す導電性水溶液製造装置において、導電性付与物質供給装置3が導電性付与物質としてアンモニア水を予備希釈貯槽4に供給するものであり、この予備希釈貯槽4には、金属イオン濃度0.1ng/L未満の超純水W0が供給されてアンモニア水を希釈する構成を有し、さらにイオン交換装置2にカチオン交換樹脂を充填したものである。そして、試験用にイオン交換装置2の上流及び下流に入口サンプリングポイント及び処理水サンプリングポイントを設けるとともにアンモニアの添加箇所の下流に出口サンプリングポイントを設けている。
実施例5において、アンモニア濃度が0.1mg/Lとなるように設定を変更し、予備希釈貯槽4からのアンモニア溶液の注入量を変更した以外は同様にして希薄アンモニア水W1を製造した。そして、設定変更から1分経過後、出口サンプリングポイントでアンモニア水溶液を採取し、アンモニア濃度と金属濃度を測定したところ、アンモニア濃度は0.1mg/Lで金属イオン濃度は0.1ng/L未満であった。これらの結果を入口水(超純水W)及びイオン交換装置2の処理水の金属イオン濃度とともに表1にあわせて示す。
実施例5において、原料水として金属イオン濃度10ng/Lの超純水Wをイオン交換装置2で処理した後、アンモニア濃度0.1mg/Lとなるように初期設定して導電性付与物質供給装置3からアンモニアを注入し、初期アンモニア水を製造した。この初期アンモニア水の濃度が安定した時点で出口サンプリングポイントで初期アンモニア水溶液をサンプリングし、アンモニア濃度と金属濃度を測定した結果、アンモニア濃度は0.1mg/Lで金属イオン濃度は0.1ng/L未満であった。
図6に示す導電性水溶液製造装置1を用い、希薄アンモニア水W1を製造した。ここで、図6に示す導電性水溶液製造装置1は、超純水Wに導電性付与物質供給装置3からアンモニア水を供給するとともに、その後カチオン交換樹脂を充填したイオン交換装置2で処理する構成であり、さらに試験用にアンモニアの添加箇所の上流に入口サンプリングポイントを設けるとともにイオン交換装置2の下流に出口サンプリングポイントを設けている。
比較例1において、アンモニア濃度が25mg/Lとなるように設定を変更し、導電性付与物質供給装置3からのアンモニア溶液の注入量を変更した以外は同様にして希薄アンモニア水W1を製造した。そして、設定変更から1分経過後の出口水をサンプリングしてアンモニア濃度と金属濃度を測定したところ、アンモニア濃度は29mg/Lで金属イオン濃度は4ng/Lであった。これらの結果を入口水(超純水W)の金属イオン濃度とともに表1にあわせて示す。
比較例1において、アンモニア濃度が0.1mg/Lとなるように設定を変更し、導電性付与物質供給装置3からのアンモニア溶液の注入量を変更した以外は同様にして希薄アンモニア水W1を製造した。そして、設定変更から1分経過後の出口水をサンプリングしてアンモニア濃度と金属濃度を測定したところ、アンモニア濃度は10mg/Lで金属イオン濃度は2ng/Lであった。これらの結果を入口水(超純水W)の金属イオン濃度とともに表1にあわせて示す。
比較例1において、金属イオン濃度10ng/Lの超純水Wにアンモニア濃度0.1mg/Lとなるように初期設定して導電性付与物質供給装置3からアンモニアを注入した後、イオン交換装置2で処理して初期アンモニア水を製造した。この初期アンモニア水の濃度が安定した時点で出口サンプリングポイントで初期アンモニア水溶液をサンプリングし、アンモニア濃度と金属濃度を測定した結果、アンモニア濃度は0.1mg/Lで金属イオン濃度10ng/Lであった。
比較例1において、金属イオン濃度100ng/Lの超純水Wにアンモニア濃度35mg/Lとなるように初期設定して導電性付与物質供給装置3からアンモニアを注入した後、イオン交換装置2で処理して初期アンモニア水を製造した。この初期アンモニア水の濃度が安定した時点で出口サンプリングポイントで初期アンモニア水溶液をサンプリングし、アンモニア濃度と金属濃度を測定した結果、アンモニア濃度は35mg/Lで金属イオン濃度10ng/Lであった。
2 イオン交換装置
3 導電性付与物質供給装置
4 予備希釈貯槽
W 超純水(原料水)
W1 導電性水溶液(希薄アンモニア水)
W0 超純水(希釈水)
Claims (7)
- 原料水として金属イオン濃度が10ng/L以下の純水又は超純水のみが流通するように構成されたイオン交換装置と、
前記イオン交換装置を通過した直後の原料水に導電性付与物質を添加して溶解することで導電性水溶液を生成する導電性付与物質供給装置とを備え、
前記導電性付与物質がアンモニアであり、前記イオン交換装置にイオン交換体としてカチオン交換樹脂が充填されている、導電性水溶液製造装置。 - 前記イオン交換装置の出口と前記導電性付与物質供給装置における前記アンモニアの添加箇所との離間距離が5m以下である、請求項1に記載の導電性水溶液製造装置。
- 前記導電性付与物質供給装置が前記アンモニアをアンモニア(アンモニウムイオン)の濃度が50mg/L以下となるように添加する、請求項1又は2に記載の導電性水溶液製造装置。
- 前記イオン交換装置を通過後の原料水中の金属イオン濃度が10ng/L以下である、請求項1から3のいずれか1項に記載の導電性水溶液製造装置。
- 原料水として金属イオン濃度が10ng/L以下の純水又は超純水のみをイオン交換体に接触させるイオン交換工程と、
前記イオン交換工程でイオン交換処理した直後の原料水に導電性付与物質を添加して溶解することで導電性水溶液を生成する工程とを含み、
前記導電性付与物質がアンモニアであり、前記イオン交換工程において前記原料水を前記イオン交換体としてのカチオン交換樹脂に接触させる、導電性水溶液の製造方法。 - 前記導電性水溶液を生成する工程において前記アンモニアをアンモニア(アンモニウムイオン)の濃度が50mg/L以下となるように添加する、請求項5に記載の導電性水溶液の製造方法。
- 前記イオン交換体との接触後の原料水中の金属イオン濃度が10ng/L以下である、請求項5又は6に記載の導電性水溶液の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017022494A JP7213006B2 (ja) | 2017-02-09 | 2017-02-09 | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 |
KR1020197021922A KR20190111039A (ko) | 2017-02-09 | 2017-03-09 | 도전성 수용액의 제조 장치 및 도전성 수용액의 제조 방법 |
PCT/JP2017/009430 WO2018146823A1 (ja) | 2017-02-09 | 2017-03-09 | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 |
CN201780084670.8A CN110234608A (zh) | 2017-02-09 | 2017-03-09 | 导电性水溶液的制造装置和导电性水溶液的制造方法 |
US16/485,091 US11834638B2 (en) | 2017-02-09 | 2017-03-09 | Conductive aqueous solution production device and conductive aqueous solution production method |
TW106108235A TWI724129B (zh) | 2017-02-09 | 2017-03-14 | 導電性水溶液製造裝置及導電性水溶液的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017022494A JP7213006B2 (ja) | 2017-02-09 | 2017-02-09 | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018126700A JP2018126700A (ja) | 2018-08-16 |
JP7213006B2 true JP7213006B2 (ja) | 2023-01-26 |
Family
ID=63107359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017022494A Active JP7213006B2 (ja) | 2017-02-09 | 2017-02-09 | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11834638B2 (ja) |
JP (1) | JP7213006B2 (ja) |
KR (1) | KR20190111039A (ja) |
CN (1) | CN110234608A (ja) |
TW (1) | TWI724129B (ja) |
WO (1) | WO2018146823A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011194402A (ja) | 2004-03-31 | 2011-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
JP2013255921A (ja) | 2009-03-10 | 2013-12-26 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3200301B2 (ja) * | 1994-07-22 | 2001-08-20 | オルガノ株式会社 | 純水又は超純水の製造方法及び製造装置 |
JP3966482B2 (ja) * | 1997-07-22 | 2007-08-29 | オルガノ株式会社 | 超純水の比抵抗調整方法及びこれを用いた純水製造装置 |
JP3956836B2 (ja) * | 2002-11-15 | 2007-08-08 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置 |
JP5072062B2 (ja) * | 2006-03-13 | 2012-11-14 | 栗田工業株式会社 | 水素ガス溶解洗浄水の製造方法、製造装置及び洗浄装置 |
SG11201508702TA (en) * | 2013-04-30 | 2015-11-27 | Organo Corp | Cleaning method for exposed copper substrate and cleaning system |
JP6427378B2 (ja) * | 2014-10-06 | 2018-11-21 | オルガノ株式会社 | アンモニア溶解水供給システム、アンモニア溶解水供給方法、およびイオン交換装置 |
JP6473311B2 (ja) * | 2014-10-06 | 2019-02-20 | オルガノ株式会社 | 導電性水溶液製造装置、導電性水溶液製造方法、およびイオン交換装置 |
JP2018127383A (ja) * | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 栗田工業株式会社 | アンモニア水溶液の製造装置及びアンモニア水溶液の製造方法 |
-
2017
- 2017-02-09 JP JP2017022494A patent/JP7213006B2/ja active Active
- 2017-03-09 US US16/485,091 patent/US11834638B2/en active Active
- 2017-03-09 KR KR1020197021922A patent/KR20190111039A/ko not_active IP Right Cessation
- 2017-03-09 CN CN201780084670.8A patent/CN110234608A/zh active Pending
- 2017-03-09 WO PCT/JP2017/009430 patent/WO2018146823A1/ja active Application Filing
- 2017-03-14 TW TW106108235A patent/TWI724129B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011194402A (ja) | 2004-03-31 | 2011-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
JP2013255921A (ja) | 2009-03-10 | 2013-12-26 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190111039A (ko) | 2019-10-01 |
US11834638B2 (en) | 2023-12-05 |
TW201829318A (zh) | 2018-08-16 |
JP2018126700A (ja) | 2018-08-16 |
US20200040285A1 (en) | 2020-02-06 |
TWI724129B (zh) | 2021-04-11 |
CN110234608A (zh) | 2019-09-13 |
WO2018146823A1 (ja) | 2018-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11229887B2 (en) | Ozone water supply method and ozone water supply device | |
KR100303933B1 (ko) | 메가소닉스보조세정의효율제어방법 | |
US11339065B2 (en) | Apparatus for producing aqueous pH- and redox potential-adjusting solution | |
JP3198899B2 (ja) | ウエット処理方法 | |
JP6299912B1 (ja) | pH及び酸化還元電位を制御可能な希釈薬液の製造装置 | |
WO2018055801A1 (ja) | 希釈薬液製造装置及び希釈薬液製造方法 | |
JP6427378B2 (ja) | アンモニア溶解水供給システム、アンモニア溶解水供給方法、およびイオン交換装置 | |
JP7213006B2 (ja) | 導電性水溶液の製造装置及び導電性水溶液の製造方法 | |
KR20190138776A (ko) | 세정수 공급 장치 | |
US11104594B2 (en) | Ammonia solution production device and ammonia solution production method | |
JP6471816B2 (ja) | pH・酸化還元電位調整水の製造装置 | |
JP6900975B2 (ja) | pH調整水製造装置 | |
KR20230122947A (ko) | 암모니아수 제조 효율 향상을 위한 제조 탱크 내부구조 변경 및 제조탱크 내부구조의 단층화를 통한 암모니아 가스 용해 효율 증가방법 | |
JP6973534B2 (ja) | 希薄薬液供給装置 | |
WO2022202531A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201228 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210827 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210827 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210903 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210907 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20211112 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20211116 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220517 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220802 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20220906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221026 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20221122 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20221220 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20221220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7213006 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |