JP7212136B2 - 光配向膜用組成物、光配向膜、積層体 - Google Patents
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Description
本発明は、光配向膜用組成物、光配向膜、および、積層体に関する。
液晶化合物を用いて形成される光学異方性層は、光学補償シートおよび位相差フィルムなどとして種々の用途に用いられている。このような光学異方性層を形成するための配向膜として、光配向膜が知られている。
特許文献１には、光シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含む光配向膜用組成物が開示されている。
特許文献１には、光シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含む光配向膜用組成物が開示されている。
本発明者らは、特許文献１に記載された、光配向性基を含む構成単位ａ１と架橋性基を含む構成単位ａ２とを有し、架橋性基を含む構成単位ａ２の比率が高い共重合体と、酸発生剤とを含む光配向膜用組成物の特性について検討した。
具体的には、調製後から数日間（例えば、１週間程度）保存した光配向膜用組成物を用いて形成した光配向膜と、調製直後の光配向膜用組成物を用いて形成した光配向膜とを用意し、両者の上に液晶化合物を含む組成物を用いて光学異方性層を形成して、液晶化合物の配向性を評価した。その結果、調製後から数日間保存した光配向膜用組成物を用いた場合に、液晶化合物の配向性が劣化することが知見された。以後、光学異方性層において液晶化合物の配向性が優れることを、「液晶配向性に優れる」ともいう。
本発明は、所定期間保存した後でも、その上に形成された光学異方性層の液晶配向性が優れる光配向膜を形成できる光配向膜用組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、光配向膜および積層体を提供することも課題とする。
具体的には、調製後から数日間（例えば、１週間程度）保存した光配向膜用組成物を用いて形成した光配向膜と、調製直後の光配向膜用組成物を用いて形成した光配向膜とを用意し、両者の上に液晶化合物を含む組成物を用いて光学異方性層を形成して、液晶化合物の配向性を評価した。その結果、調製後から数日間保存した光配向膜用組成物を用いた場合に、液晶化合物の配向性が劣化することが知見された。以後、光学異方性層において液晶化合物の配向性が優れることを、「液晶配向性に優れる」ともいう。
本発明は、所定期間保存した後でも、その上に形成された光学異方性層の液晶配向性が優れる光配向膜を形成できる光配向膜用組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、光配向膜および積層体を提供することも課題とする。
本発明者は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
（１） 光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有し、
繰り返し単位Ａの含有量ａと、繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１）を満たす光配向性共重合体と、
０．７０≦ｂ／（ａ＋ｂ）≦０．９７・・・（１）
酸発生剤と、
沸点が５０～２３０℃であり、窒素原子上にプロトンを有さないアミン化合物と、を含む光配向膜用組成物。
（２） アミン化合物が後述する式（２）で表される化合物を含む、（１）に記載の光配向膜用組成物。
（３） アミン化合物の含有量が、酸発生剤の含有モル量に対して、５～４００モル％である、（１）または（２）に記載の光配向膜用組成物。
（４） 光配向性基を含む繰り返し単位Ａが、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位を含み、
架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む、（１）～（３）のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
（５） 架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、後述する式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基を含む、（１）～（４）のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
（６） （１）～（５）のいずれかに記載の光配向膜用組成物を用いて形成した、光配向膜。
（７） （６）に記載の光配向膜と、
液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と、を有する、積層体。
繰り返し単位Ａの含有量ａと、繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１）を満たす光配向性共重合体と、
０．７０≦ｂ／（ａ＋ｂ）≦０．９７・・・（１）
酸発生剤と、
沸点が５０～２３０℃であり、窒素原子上にプロトンを有さないアミン化合物と、を含む光配向膜用組成物。
（２） アミン化合物が後述する式（２）で表される化合物を含む、（１）に記載の光配向膜用組成物。
（３） アミン化合物の含有量が、酸発生剤の含有モル量に対して、５～４００モル％である、（１）または（２）に記載の光配向膜用組成物。
（４） 光配向性基を含む繰り返し単位Ａが、後述する式（Ａ）で表される繰り返し単位を含み、
架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、後述する式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む、（１）～（３）のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
（５） 架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、後述する式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基を含む、（１）～（４）のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
（６） （１）～（５）のいずれかに記載の光配向膜用組成物を用いて形成した、光配向膜。
（７） （６）に記載の光配向膜と、
液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と、を有する、積層体。
本発明によれば、所定期間保存した後でも、その上に形成された光学異方性層の液晶配向性に優れる光配向膜を形成できる光配向膜用組成物を提供できる。
また、本発明によれば、光配向膜および積層体を提供できる。
また、本発明によれば、光配向膜および積層体を提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
ＡｘｏＳｃａｎにて用いられる平均屈折率は、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
また、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を含む概念である。
本発明の光配向膜用組成物の特徴点としては、所定のアミン化合物を含む点が挙げられる。
上述したように、本発明者らは、光配向性共重合体中において架橋性基を含む繰り返し単位の含有量が多い場合、所定期間保存した後の光配向膜用組成物を用いて光配向膜を形成して、その上に光学異方性層を形成すると、得られる光学異方性層の液晶配向性が劣ることを知見している。その原因について検討したところ、架橋性基を含む繰り返し単位の含有量が多い場合、光配向膜用組成物を保存している間に、酸発生剤から発生した酸によって架橋性基の反応が進行してしまい、その結果、液晶配向性に影響を与えることを知見した。そして、そのような架橋性基の反応を抑制するために、所定のアミン化合物を用いると、酸発生剤の影響が軽減でき、所望の効果が得られることを見出している。
なお、上記光配向膜上に形成される光学異方性層は、後述する実施例欄で評価する耐久性にも優れる。
上述したように、本発明者らは、光配向性共重合体中において架橋性基を含む繰り返し単位の含有量が多い場合、所定期間保存した後の光配向膜用組成物を用いて光配向膜を形成して、その上に光学異方性層を形成すると、得られる光学異方性層の液晶配向性が劣ることを知見している。その原因について検討したところ、架橋性基を含む繰り返し単位の含有量が多い場合、光配向膜用組成物を保存している間に、酸発生剤から発生した酸によって架橋性基の反応が進行してしまい、その結果、液晶配向性に影響を与えることを知見した。そして、そのような架橋性基の反応を抑制するために、所定のアミン化合物を用いると、酸発生剤の影響が軽減でき、所望の効果が得られることを見出している。
なお、上記光配向膜上に形成される光学異方性層は、後述する実施例欄で評価する耐久性にも優れる。
本発明の光配向膜用組成物は、光配向性基を含む繰り返し単位Ａと架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを所定の光配向性共重合体と、酸発生剤と、所定のアミン化合物とを含む。
以下、まず、光配向膜用組成物に含まれる各成分について詳述する。なお、以下では、本発明の特徴点の一つであるアミン化合物について先に詳述する。
以下、まず、光配向膜用組成物に含まれる各成分について詳述する。なお、以下では、本発明の特徴点の一つであるアミン化合物について先に詳述する。
＜アミン化合物＞
光配向膜用組成物は、沸点が５０～２３０℃であり、窒素原子上にプロトンを有さないアミン化合物（以下、「特定アミン化合物」ともいう。）を含む。
特定アミン化合物の沸点は、５０～２３０℃であり、光配向膜上に形成される光学異方性層の液晶配向性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、８０～２２５℃が好ましく、１００～２２０℃がより好ましい。なお、上記沸点は、１気圧下における沸点を意味する。
特定アミン化合物は、窒素原子上にプロトンを有さない。つまり、＞Ｎ－Ｈで表される部分構造を有さない。光配向膜用組成物が＞Ｎ－Ｈで表される部分構造を有するアミン化合物を含む場合、液晶配向性の改善がみられず、光配向膜用組成物がゲル化する恐れがある。
光配向膜用組成物は、沸点が５０～２３０℃であり、窒素原子上にプロトンを有さないアミン化合物（以下、「特定アミン化合物」ともいう。）を含む。
特定アミン化合物の沸点は、５０～２３０℃であり、光配向膜上に形成される光学異方性層の液晶配向性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、８０～２２５℃が好ましく、１００～２２０℃がより好ましい。なお、上記沸点は、１気圧下における沸点を意味する。
特定アミン化合物は、窒素原子上にプロトンを有さない。つまり、＞Ｎ－Ｈで表される部分構造を有さない。光配向膜用組成物が＞Ｎ－Ｈで表される部分構造を有するアミン化合物を含む場合、液晶配向性の改善がみられず、光配向膜用組成物がゲル化する恐れがある。
特定アミンは、上記特性を満たせば特に制限されず、２級アミンおよび３級アミンが挙げられる。
また、特定アミンは、鎖状であっても、環状であってもよい。特定アミンが環状である場合としては、特定アミンが複素環を有する場合が挙げられる。複素環としては、芳香族複素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。複素環としては、ピリジン環が挙げられる。
なお、特定アミンが複素環を有する場合、複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、および、アルコキシ基が挙げられる。
また、特定アミンは、鎖状であっても、環状であってもよい。特定アミンが環状である場合としては、特定アミンが複素環を有する場合が挙げられる。複素環としては、芳香族複素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。複素環としては、ピリジン環が挙げられる。
なお、特定アミンが複素環を有する場合、複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、および、アルコキシ基が挙げられる。
特定アミンとしては、本発明の効果がより優れる点で、式（２）で表される化合物が好ましい。
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、および、Ｒ３は、それぞれ独立に、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基を表す。
上記アルキル基の炭素数は１～２０であり、本発明の効果がより優れる点で、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基（例えば、ｎ－プロピル基、および、イソプロピル基）、ブチル基、および、ペンチル基が挙げられる。
上記アルキル基の炭素数は１～２０であり、本発明の効果がより優れる点で、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基（例えば、ｎ－プロピル基、および、イソプロピル基）、ブチル基、および、ペンチル基が挙げられる。
上記特定アミンとしては、例えば、ジイソプロピルエチルアミン、および、トリブチルアミンが挙げられる。
＜光配向性共重合体＞
光配向膜用組成物は、所定の繰り返し単位を有する光配向性共重合体を含む。
光配向膜用組成物は、所定の繰り返し単位を有する光配向性共重合体を含む。
（光配向性基を含む繰り返し単位Ａ）
光配向性共重合体は、光配向性基を含む繰り返し単位Ａを有する。
ここで、「光配向性基」とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列または異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいい、配向の均一性に優れ、熱的安定性または化学的安定性も良好となる点から、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基が好ましい。
光配向性共重合体は、光配向性基を含む繰り返し単位Ａを有する。
ここで、「光配向性基」とは、異方性を有する光（例えば、平面偏光など）の照射により、再配列または異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいい、配向の均一性に優れ、熱的安定性または化学的安定性も良好となる点から、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基が好ましい。
光の作用により二量化する光配向性基としては、例えば、桂皮酸誘導体（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン誘導体（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン誘導体（小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997)）、マレイミド誘導体、および、ベンゾフェノン誘導体（Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997)）からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体の骨格を有する基が挙げられる。
一方、光の作用により異性化する光配向性基としては、例えば、アゾベンゼン化合物（K. Ichimura et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst ., 298, 221 (1997)）、スチルベン化合物（J.G.Victor and J.M.Torkelson,Macromolecules, 20, 2241 (1987)）、スピロピラン化合物（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992)；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)）、桂皮酸化合物（K.Ichimura et al.,Macromolecules, 30, 903 (1997)）、および、ヒドラゾノ－β－ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の骨格を有する基が挙げられる。
一方、光の作用により異性化する光配向性基としては、例えば、アゾベンゼン化合物（K. Ichimura et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst ., 298, 221 (1997)）、スチルベン化合物（J.G.Victor and J.M.Torkelson,Macromolecules, 20, 2241 (1987)）、スピロピラン化合物（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992)；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)）、桂皮酸化合物（K.Ichimura et al.,Macromolecules, 30, 903 (1997)）、および、ヒドラゾノ－β－ケトエステル化合物（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の骨格を有する基が挙げられる。
これらのうち、光配向性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、および、スピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体の骨格を有する基であることが好ましく、桂皮酸誘導体骨格またはクマリン誘導体骨格を有する基であることがより好ましい。
繰り返し単位Ａとしては、本発明の効果がより優れる点で、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位が好ましい。
Ｒ５は、水素原子またはメチル基を表す。Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
次に、Ｌ１が表す、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基について説明する。なお、上述した通り、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。また、シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が窒素原子で置換されている場合は、シクロアルカン環とは別に窒素原子を有していなくてもよい。
また、上記シクロアルカン環としては、炭素数６以上のシクロアルカン環が好ましく、例えば、シクロヘキサン環、シクロペプタン環、シクロオクタン環、シクロドデカン環、および、シクロドコサン環が挙げられる。
本発明の効果がより優れる点で、上記式（Ａ）中のＬ１としては、下記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基が好ましい。
上記式（１）～（１０）中、＊１は、上記式（Ａ）中の主鎖を構成する炭素原子との結合位置を表し、＊２は、上記式（Ａ）中のカルボニル基を構成する炭素原子との結合位置を表す。
上記式（１）～（１０）のいずれかで表される２価の連結基のうち、光配向膜を形成する際に用いる溶媒に対する溶解性と、得られる光配向膜の耐溶剤性とのバランスが良好となる点から、上記式（２）、式（３）、式（７）および式（８）のいずれかで表される２価の連結基が好ましい。
次に、上記式（Ａ）中のＲ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０の一態様が表す置換基について説明する。なお、上記式（Ａ）中のＲ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０が、置換基ではなく水素原子であってもよいことは上述した通りである。
上記式（Ａ）中のＲ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、本発明の効果がより優れる点で、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（１１）で表される基であることが好ましい。
ここで、上記式（１１）中、＊は、上記式（Ａ）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ１２は、１価の有機基を表す。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。
炭素数１～２０の直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、および、ｎ－プロピル基が挙げられる。
炭素数１～２０の分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、イソプロピル基、および、ｔｅｒｔ－ブチル基が挙げられる。
炭素数１～２０の環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。
炭素数１～２０の分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、イソプロピル基、および、ｔｅｒｔ－ブチル基が挙げられる。
炭素数１～２０の環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。
炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、および、パーフルオロブチル基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基が好ましい。
炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基がさらに好ましい。例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、および、ｎ－テトラデシルオキシ基が挙げられ、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、または、ｎ－テトラデシルオキシ基が好ましい。
炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、および、ナフチル基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、および、２－ナフチルオキシ基が挙げられ、フェニルオキシ基が好ましい。
アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、および、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
上記式（１１）で表される基について、上記式（１１）中のＲ１２が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、および、ｎ－プロピル基が挙げられ、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられ、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１１）中のＲ１２が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を複数組み合わせたものであってもよい。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、および、ｎ－プロピル基が挙げられ、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられ、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（１１）中のＲ１２が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を複数組み合わせたものであってもよい。
光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、本発明の効果がより優れる点で、上記式（Ａ）中のＲ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０のうち、少なくともＲ８が上述した置換基であることが好ましく、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９およびＲ１０がいずれも水素原子であることがより好ましい。
光照射した際に反応効率が向上する点から、上記式（Ａ）中のＲ８が電子供与性の置換基であることが好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、および、アルコキシ基が挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、本発明の効果がより優れる点で、炭素数が６～１６のアルコキシ基がより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基がさらに好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、および、アルコキシ基が挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、本発明の効果がより優れる点で、炭素数が６～１６のアルコキシ基がより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基がさらに好ましい。
光配向性基を含む繰り返し単位Ａとしては、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－５６が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。なお、以下の具体例中、繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１０の２価の連結基に含まれる「１，４－シクロヘキシル基」は、シス体およびトランス体のいずれであってもよいが、トランス体であることが好ましい。
（架橋性基を含む繰り返し単位Ｂ）
光配向性共重合体は、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂを有する。
架橋性基としては、例えば、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、および、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基が挙げられ、カチオン重合性基が好ましく、下記式（Ｘ１）～（Ｘ３）からなる群から選択される少なくとも１種の架橋性基がより好ましい。
光配向性共重合体は、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂを有する。
架橋性基としては、例えば、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、および、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基が挙げられ、カチオン重合性基が好ましく、下記式（Ｘ１）～（Ｘ３）からなる群から選択される少なくとも１種の架橋性基がより好ましい。
上記式（Ｘ１）～（Ｘ３）中、＊は結合手を表し、Ｒ４は、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。
繰り返し単位Ｂとしては、本発明の効果がより優れる点で、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位が好ましい。
上記式（Ｂ）中、Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表し、Ｘは、架橋性基を表す。
上記式（Ｂ）中のＬ２が表す２価の連結基としては、本発明の効果がより優れる点で、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基（例えば、－ＣＯ－Ｏ－アルキレン基－）であることが好ましい。
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、および、水酸基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、および、ナフチル基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、および、チオフェン－３－イルオキシが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、および、エトキシカルボニルが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、および、ナフチル基が挙げられ、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、および、チオフェン－３－イルオキシが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、および、エトキシカルボニルが挙げられる。
炭素数１～１８の直鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、および、オクタデシレン基が挙げられる。
炭素数１～１８の分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、および、２－エチル－２－メチルプロピレン基が挙げられる。
炭素数１～１８の環状のアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、および、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基が挙げられ、シクロヘキシレン基が好ましい。
炭素数１～１８の分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、および、２－エチル－２－メチルプロピレン基が挙げられる。
炭素数１～１８の環状のアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、および、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基が挙げられ、シクロヘキシレン基が好ましい。
炭素数６～１２のアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、および、２，２’－メチレンビスフェニル基が挙げられ、フェニレン基が好ましい。
上記式（Ｂ）中のＸが表す架橋性基としては、上述した架橋性基の例が挙げられる。
架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとしては、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－１７が挙げられる。
また、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとしては、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１８～Ｂ－４７も挙げられる。
光配向性共重合体は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した繰り返し単位Ａおよび繰り返し単位Ｂ以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物からなる群から選択される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
他の繰り返し単位としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物からなる群から選択される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
光配向性共重合体中における繰り返し単位Ａの含有量ａと、繰り返し単位Ｂの含有量ｂとは、質量比で下記式（１）を満たす。式（１）の関係は、繰り返し単位Ａの含有量ａおよび繰り返し単位の含有量ｂの合計に対する、含有量ｂの比を表す。
０．７０≦ｂ／（ａ＋ｂ）≦０．９７・・・（１）
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、ｂ／（ａ＋ｂ）は０．７５～０．９５が好ましく、０．８０～０．９３がより好ましい。
０．７０≦ｂ／（ａ＋ｂ）≦０．９７・・・（１）
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、ｂ／（ａ＋ｂ）は０．７５～０．９５が好ましく、０．８０～０．９３がより好ましい。
繰り返し単位Ａの含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光配向性共重合体中の全繰り返し単位に対して、３～３０質量％が好ましく、５～２５質量％がより好ましい。
繰り返し単位Ｂの含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光配向性共重合体中の全繰り返し単位に対して、７０～９７質量％が好ましく、７５～９５質量％がより好ましい。
繰り返し単位Ｂの含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光配向性共重合体中の全繰り返し単位に対して、７０～９７質量％が好ましく、７５～９５質量％がより好ましい。
光配向性共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点から、１００００～５０００００が好ましく、３００００～３０００００がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
＜酸発生剤＞
光配向膜用組成物は、酸発生剤を含む。酸発生剤は、上述した架橋性基の重合を開始させる機能を有する。
酸発生剤としては特に制限されないが、例えば、熱酸発生剤および光酸発生剤が挙げられる。
光配向膜用組成物は、酸発生剤を含む。酸発生剤は、上述した架橋性基の重合を開始させる機能を有する。
酸発生剤としては特に制限されないが、例えば、熱酸発生剤および光酸発生剤が挙げられる。
熱酸発生剤としては、熱により分解して特定酸を発生する化合物であれば特にその構造は制限されないが、通常、所定の酸より水素イオンを取り除いてなるアニオンと、カチオンとから構成される。
酸としては、例えば、式（Ａ）～（Ｅ）で表される化合物、および、ＨＳｂＦ６が挙げられる。
酸としては、例えば、式（Ａ）～（Ｅ）で表される化合物、および、ＨＳｂＦ６が挙げられる。
式（Ａ）中、Ｒa１およびＲa２は、それぞれ独立に、パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
式（Ｂ）中、Ｒｂは、パーフルオロアルキレン基を表す。パーフルオロアルキレン基中の炭素数は特に制限されないが、２～１０が好ましく、３～５がより好ましい。
式（Ｃ）中、Ｒｃは、それぞれ独立に、パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。
式（Ｄ）中、Ｒｄは、それぞれ独立に、フッ素原子、または、置換基を有していてもよいアリール基を表す。アリール基としては、フェニル基およびナフチル基が挙げられる。置換基の種類は特に制限されないが、例えば、アルキル基、および、ハロゲン原子（好ましくは、フッ素原子）が挙げられる。
式（Ｅ）中、Ｒｅは、それぞれ独立に、パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
ｎは、１～６の整数を表す。なかでも、ｎは、３～６の整数が好ましく、６がより好ましい。
式（Ｂ）中、Ｒｂは、パーフルオロアルキレン基を表す。パーフルオロアルキレン基中の炭素数は特に制限されないが、２～１０が好ましく、３～５がより好ましい。
式（Ｃ）中、Ｒｃは、それぞれ独立に、パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。
式（Ｄ）中、Ｒｄは、それぞれ独立に、フッ素原子、または、置換基を有していてもよいアリール基を表す。アリール基としては、フェニル基およびナフチル基が挙げられる。置換基の種類は特に制限されないが、例えば、アルキル基、および、ハロゲン原子（好ましくは、フッ素原子）が挙げられる。
式（Ｅ）中、Ｒｅは、それぞれ独立に、パーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。
ｎは、１～６の整数を表す。なかでも、ｎは、３～６の整数が好ましく、６がより好ましい。
アニオンとしては、以下が例示される。
カチオンとしては、熱で分解する公知のカチオンを使用できる。カチオンは、３０～２００℃で熱分解が開始する骨格を有することが好ましく、４０～１５０℃で熱分解が開始する骨格を有することがより好ましい。なかでも、取り扱い性の点から、式（Ｆ）で表されるスルホニウムカチオン、または、式（Ｇ）で表されるヨードニウムカチオンが好ましい。
Ｒｆ１～Ｒｆ３およびＲｇ１およびＲｇ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。炭化水素基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基）、または、アリール基（例えば、フェニル基）が好ましい。
置換基の種類は特に制限されず、例えば、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、炭酸エステル基、および、シアノ基が挙げられる。
カチオンとしては、例えば、以下が挙げられる。
置換基の種類は特に制限されず、例えば、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、炭酸エステル基、および、シアノ基が挙げられる。
カチオンとしては、例えば、以下が挙げられる。
光酸発生剤としては、光により分解して特定酸を発生する化合物であれば特にその構造は制限されないが、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましい。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
光酸発生剤としては、例えば、オニウム塩化合物、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、および、オキシムスルホネート化合物が挙げられる。
＜その他成分＞
光配向膜用組成物は、上述した成分以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、溶媒が挙げられる。溶媒としては、水および有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、および、シクロヘキサノン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）、ならびに、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド）が挙げられる。
溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
光配向膜用組成物は、上述した成分以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、溶媒が挙げられる。溶媒としては、水および有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、および、シクロヘキサノン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）、ならびに、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド）が挙げられる。
溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
光配向膜用組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、架橋触媒、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、および、可塑剤が挙げられる。
＜光配向膜用組成物＞
光配向膜用組成物は、上述した光配向性共重合体、酸発生剤、および、特定アミン化合物を含む。
光配向膜用組成物の調製方法は特に制限されず、上記成分を一括して混合してもよいし、段階的に混合してもよい。
光配向膜用組成物は、上述した光配向性共重合体、酸発生剤、および、特定アミン化合物を含む。
光配向膜用組成物の調製方法は特に制限されず、上記成分を一括して混合してもよいし、段階的に混合してもよい。
光配向膜用組成物中における光配向性共重合体の含有量は特に制限されないが、光配向膜用組成物が溶媒を含む場合、溶媒１００質量部に対して、０．１～５０質量部が好ましく、０．５～２０質量部がより好ましい。
光配向膜用組成物中における酸発生剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光配向性共重合体全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０．０質量％がより好ましい。
光配向膜用組成物中における特定アミンの含有量は特に制限されないが、酸発生剤の含有モル量（全モル量）に対して、１～１０００モル％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～４００モル％が好ましく、１０～３００モル％がより好ましい。
光配向膜用組成物中における酸発生剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光配向性共重合体全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．５～２０．０質量％がより好ましい。
光配向膜用組成物中における特定アミンの含有量は特に制限されないが、酸発生剤の含有モル量（全モル量）に対して、１～１０００モル％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、５～４００モル％が好ましく、１０～３００モル％がより好ましい。
＜光配向膜＞
上記光配向膜用組成物を用いて、光配向膜を形成できる。
光配向膜は、上述した光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造でき、例えば、上述した光配向膜用組成物を用いて前駆体膜を形成する工程と、光配向膜用組成物の前駆体膜に対し、偏光または前駆体膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
上記光配向膜用組成物を用いて、光配向膜を形成できる。
光配向膜は、上述した光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造でき、例えば、上述した光配向膜用組成物を用いて前駆体膜を形成する工程と、光配向膜用組成物の前駆体膜に対し、偏光または前駆体膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
（前駆体膜形成工程）
前駆体膜形成工程は、光配向膜用組成物を用いて前駆体膜を形成する工程である。なお、前駆体膜とは、光配向処理が施される膜を意味する。
上記工程の手順は前駆体膜を形成できれば制限されないが、例えば、光配向膜用組成物を支持体上に塗布して塗膜を形成して、塗膜に対して硬化処理（加熱処理および光照射処理）を施して前駆体膜を形成する工程が挙げられる。
以下、この工程の手順について詳述する。
前駆体膜形成工程は、光配向膜用組成物を用いて前駆体膜を形成する工程である。なお、前駆体膜とは、光配向処理が施される膜を意味する。
上記工程の手順は前駆体膜を形成できれば制限されないが、例えば、光配向膜用組成物を支持体上に塗布して塗膜を形成して、塗膜に対して硬化処理（加熱処理および光照射処理）を施して前駆体膜を形成する工程が挙げられる。
以下、この工程の手順について詳述する。
光配向膜用組成物が塗布される支持体は特に制限されないが、例えば、ガラス基板およびポリマーフィルムが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレートおよびラクトン環含有重合体などのアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレンおよびエチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロンおよび芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレートおよびラクトン環含有重合体などのアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレンおよびエチレン・プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロンおよび芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
支持体の厚みは特に制限されないが、５～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。
光配向膜用組成物の塗布方法は特に制限されないが、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、および、インクジェット印刷が挙げられる。
光配向膜用組成物の塗膜に対する硬化処理の方法は特に制限されないが、加熱処理および光照射処理が挙げられる。例えば、酸発生剤が熱酸発生剤である場合、硬化処理としては加熱処理が好ましく、酸発生剤が光酸発生剤である場合、硬化処理としては光照射処理が好ましい。
加熱処理の条件は特に制限されず、使用される材料に応じて適宜最適な条件が選択されるが、加熱温度としては５０～１５０℃が好ましく、８０～１４０℃がより好ましい。加熱時間としては０．１～６０分間が好ましく、０．５～３０分間がより好ましい。
光照射処理の条件は特に制限されず、紫外線を用いることが好ましく、照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～５０Ｊ／ｃｍ２が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２～５Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。
加熱処理の条件は特に制限されず、使用される材料に応じて適宜最適な条件が選択されるが、加熱温度としては５０～１５０℃が好ましく、８０～１４０℃がより好ましい。加熱時間としては０．１～６０分間が好ましく、０．５～３０分間がより好ましい。
光照射処理の条件は特に制限されず、紫外線を用いることが好ましく、照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～５０Ｊ／ｃｍ２が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ２～５Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。
なお、上記では塗膜を形成する処理と硬化処理とが別途実施される手順について述べたが、両者は同時に実施してもよい。つまり、塗膜を形成する際に合わせて硬化処理を実施してもよい。具体的には、光配向膜用組成物を支持体上に塗布しつつ、加熱する（または、光照射する）方法が挙げられる。
（光照射処理）
光照射処理は、偏光または前駆体膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程である。
光配向膜用組成物の前駆体膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、および、楕円偏光が挙げられ、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、前駆体膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、極角θは２０～８０°であることが好ましい。
光照射処理は、偏光または前駆体膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する工程である。
光配向膜用組成物の前駆体膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、および、楕円偏光が挙げられ、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、前駆体膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、極角θは２０～８０°であることが好ましい。
偏光または非偏光における波長としては、前駆体膜中の液晶化合物に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、および、可視光線が挙げられる。中でも、２５０～４５０ｎｍの近紫外線が好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、および、メタルハライドランプが挙げられる。このような光源から得た紫外線または可視光線に対して、干渉フィルタまたは色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限できる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタまたは偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、および、メタルハライドランプが挙げられる。このような光源から得た紫外線または可視光線に対して、干渉フィルタまたは色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限できる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタまたは偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。
偏光または非偏光の積算光量は特に制限されないが、１～３００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、２～１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
偏光または非偏光の照度は特に制限されないが、０．１～３００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、１～１００ｍＷ／ｃｍ２がより好ましい。
偏光または非偏光の照度は特に制限されないが、０．１～３００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、１～１００ｍＷ／ｃｍ２がより好ましい。
光配向膜の膜厚は特に制限されず、１０～１０００ｎｍが好ましく、１０～７００ｎｍがより好ましい。
＜積層体＞
本発明の積層体は、上記光配向膜と、液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と、を有する。
また、本発明の積層体は、さらに支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。
支持体および光配向膜は、上述した通りである。
以下、光学異方性層について詳述する。
本発明の積層体は、上記光配向膜と、液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と、を有する。
また、本発明の積層体は、さらに支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。
支持体および光配向膜は、上述した通りである。
以下、光学異方性層について詳述する。
（光学異方性層）
積層体が有する光学異方性層は、液晶化合物を含む液晶組成物（以下、「光学異方性層用組成物」ともいう。）を用いて形成された光学異方性層であれば特に制限されず、従来公知の光学異方性層が挙げられる。
光学異方性層としては、重合性基を有する液晶化合物を含む液晶組成物を硬化させて得られる層であるのが好ましい。
光学異方性層は、単層構造であってもよく、複数層を積層した構造（積層体）であってもよい。
以下に、液晶性合物および任意の添加剤について説明する。
積層体が有する光学異方性層は、液晶化合物を含む液晶組成物（以下、「光学異方性層用組成物」ともいう。）を用いて形成された光学異方性層であれば特に制限されず、従来公知の光学異方性層が挙げられる。
光学異方性層としては、重合性基を有する液晶化合物を含む液晶組成物を硬化させて得られる層であるのが好ましい。
光学異方性層は、単層構造であってもよく、複数層を積層した構造（積層体）であってもよい。
以下に、液晶性合物および任意の添加剤について説明する。
液晶化合物は、その形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。
本発明においては、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。
液晶化合物は、重合性基を有することが好ましい。液晶化合物は１分子中に重合性基を２以上有するのが好ましい。なお、液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましく、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がより好ましく、（メタ）アクリロイル基がさらに好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１または特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］または特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができる。
液晶化合物として、逆波長分散性の液晶化合物を用いることができる。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内レタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内レタデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
液晶化合物としては、式（３）で表される液晶化合物が好ましい。
Ｌ１－ＳＰ１－（Ｅ３－Ａ１）ｍ－Ｅ１－Ｇ１－Ｄ１－Ａｒ１－Ｄ２－Ｇ２－Ｅ２－（Ａ２－Ｅ４）ｎ－ＳＰ２－Ｌ２ ・・・（３）
上記式（３）中、Ｄ１、Ｄ２、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３およびＥ４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｇ１、Ｇ２、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基、または、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
ｍは、０～２の整数を表し、ｍが２である場合、複数のＥ３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～２の整数を表し、ｎが２である場合、複数のＥ４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ａｒ１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する有機基を表す。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。
Ｌ１－ＳＰ１－（Ｅ３－Ａ１）ｍ－Ｅ１－Ｇ１－Ｄ１－Ａｒ１－Ｄ２－Ｇ２－Ｅ２－（Ａ２－Ｅ４）ｎ－ＳＰ２－Ｌ２ ・・・（３）
上記式（３）中、Ｄ１、Ｄ２、Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３およびＥ４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｇ１、Ｇ２、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基、または、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
ｍは、０～２の整数を表し、ｍが２である場合、複数のＥ３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎは、０～２の整数を表し、ｎが２である場合、複数のＥ４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ａｒ１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する有機基を表す。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。
Ｇ１、Ｇ２、Ａ１およびＡ２が示す炭素数６～１２の２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、１，２－フェニレン基、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、および、２，６－ナフチレン基が挙げられ、なかでも、１，４－フェニレン基が好ましく、トランス－１，４－フェニレン基がより好ましい。
また、Ｇ１、Ｇ２、Ａ１およびＡ２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環基または６員環基が好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２－２１０６８号公報の［００７８］段落の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
これらのうち、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環）が好ましく、１，４－シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス－１，４－シクロヘキシレン基がさらに好ましい。
また、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、Ｇ１、Ｇ２、Ａ１およびＡ２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環基または６員環基が好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２－２１０６８号公報の［００７８］段落の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
これらのうち、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環）が好ましく、１，４－シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス－１，４－シクロヘキシレン基がさらに好ましい。
また、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
ＳＰ１およびＳＰ２が示す炭素数１～１２の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、および、へプチレン基が挙げられる。なお、ＳＰ１およびＳＰ２は、上述した通り、炭素数１～１２の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、または、－ＣＯ－に置換された２価の連結基であってもよく、Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｌ１およびＬ２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、および、ヘテロアリール基が挙げられる。
アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は４～１８が好ましく、４～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は４～１８が好ましく、４～１２がより好ましい。また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基であることが好ましい。
重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点から、アクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、例えば、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点から、アクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、例えば、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
Ｌ１およびＬ２はいずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることがより好ましい。
Ａｒ１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する有機基を表す。
芳香族炭化水素環としては、単環であっても、複環であってもよい。芳香族炭化水素環の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
芳香族複素環としては、単環であっても、複環であってもよい。芳香族複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。芳香族複素環の炭素数は４～１８が好ましく、４～１２がより好ましい。
置換基としては、公知の置換基が挙げられる。
芳香族炭化水素環としては、単環であっても、複環であってもよい。芳香族炭化水素環の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
芳香族複素環としては、単環であっても、複環であってもよい。芳香族複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。芳香族複素環の炭素数は４～１８が好ましく、４～１２がより好ましい。
置換基としては、公知の置換基が挙げられる。
上記Ａｒ１としては、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環が好ましい。
なお、Ａｒ１が式（Ａｒ－１）、式（Ａｒ－２）、式（Ａｒ－４）および式（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかである場合、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表すことが好ましく、Ａｒ１が式（Ａｒ－３）で表される基である場合、Ｌ１およびＬ２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ３およびＬ４の少なくとも１つが重合性基を表すことがより好ましい。
なお、Ａｒ１が式（Ａｒ－１）、式（Ａｒ－２）、式（Ａｒ－４）および式（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかである場合、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表すことが好ましく、Ａｒ１が式（Ａｒ－３）で表される基である場合、Ｌ１およびＬ２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ３およびＬ４の少なくとも１つが重合性基を表すことがより好ましい。
式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、＊は、Ｄ１またはＤ２との結合位置を表す。
また、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表す。
また、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ５）－を表し、Ｒ５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ５が表す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
また、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表す。
また、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ５）－を表し、Ｒ５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ５が表す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｙ１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｙ１が表す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ１が表す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基、および、ベンゾフリル基などのヘテロアリール基が挙げられる。なお、芳香族複素環基には、ベンゼン環と芳香族複素環とが縮合した基も含まれる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、シアノ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
Ｙ１が表す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ１が表す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基、および、ベンゾフリル基などのヘテロアリール基が挙げられる。なお、芳香族複素環基には、ベンゼン環と芳香族複素環とが縮合した基も含まれる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、シアノ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子または塩素原子が好ましい。
また、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ６、－ＮＲ７Ｒ８、または、－ＳＲ９を表し、Ｒ６～Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基などの単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン基などの単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基などの多環式飽和炭化水素基；が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ６～Ｒ９が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基などの単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン基などの単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基などの多環式飽和炭化水素基；が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ６～Ｒ９が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
また、Ａ３およびＡ４は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ１０は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ１０が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｒ１０が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族～第１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４族～第１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、Ｘが示す第１４族～第１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、ＳＰ３およびＳＰ４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。
また、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
また、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
光学異方性層用組成物には、上述した液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、光学異方性層用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。
例えば、光学異方性層用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～５質量％がより好ましい。
また、光学異方性層用組成物には、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落［００１８］～［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％であることが好ましく、２～３０質量％であることがより好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落［００１８］～［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％であることが好ましく、２～３０質量％であることがより好ましい。
また、光学異方性層用組成物には、塗膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。例えば特開２００１－３３０７２５号公報中の段落［００２８］～［００５６］に記載の化合物、特開２００５－０６２６７３号公報の段落［００６９］～［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。例えば特開２００１－３３０７２５号公報中の段落［００２８］～［００５６］に記載の化合物、特開２００５－０６２６７３号公報の段落［００６９］～［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
また、光学異方性層用組成物には、光学異方性層を偏光子として機能させる点から、二色性物質が含まれていてもよい。
上記二色性物質は特に制限されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）が挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用できる。
上記二色性物質は特に制限されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）が挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用できる。
また、光学異方性層用組成物には有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒としては、上述した本発明の光配向膜用組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、光学異方性層用組成物には、偏光子界面側垂直配向剤および空気界面側垂直配向剤などの垂直配向促進剤、ならびに、偏光子界面側水平配向剤および空気界面側水平配向剤などの水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
光学異方性層用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。
光学異方性層用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。
光学異方性層用組成物を用いた光学異方性層の形成方法は特に制限されず、例えば、上述した光配向膜上に、光学異方性層用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施して光学異方性層を形成する方法が挙げられる。
光学異方性層用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の膜厚は特に制限されず、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５μｍがより好ましい。
光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、１１０～１６０ｎｍが好ましい。
光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、１１０～１６０ｎｍが好ましい。
＜用途＞
上記積層体は種々の用途に適用できる。例えば、表示素子と、積層体とを含む画像表示装置が挙げられる。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に制限されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられ、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルが好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置が好ましい。
上記積層体は種々の用途に適用できる。例えば、表示素子と、積層体とを含む画像表示装置が挙げられる。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に制限されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられ、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルが好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置が好ましい。
液晶表示装置に利用される液晶セルとしては、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、または、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましい。
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、偏光子、本発明の積層体、および、有機ＥＬ表示パネルをこの順で有する態様が好ましい。
上記偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に制限されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用できる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子および延伸型偏光子があり、いずれも適用できる。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用できる。
反射型偏光子としては、例えば、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、および、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子が挙げられる。
これらのうち、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（－ＣＨ２－ＣＨＯＨ－を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン－ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子が好ましい。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子および延伸型偏光子があり、いずれも適用できる。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用できる。
反射型偏光子としては、例えば、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、および、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子が挙げられる。
これらのうち、密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（－ＣＨ２－ＣＨＯＨ－を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン－ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子が好ましい。
偏光子の厚みは特に制限されず、３～６０μｍが好ましく、５μｍ～３０μｍより好ましい。
有機ＥＬ表示パネルは、陽極および陰極の一対の電極間に、発光層または発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材である。有機ＥＬ表示パネルは、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、および、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
（モノマーｍＡ－１の合成）
撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに、４－アミノシクロヘキサノール（５０．０ｇ）、トリエチルアミン（４８．３ｇ）、および、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（８００ｇ）を量りとり、氷冷下で撹拌した。
次に、滴下ロートを用いてメタクリル酸クロリド（４７．５ｇ）を４０分かけて上記フラスコ内に滴下し、滴下終了後、反応液を４０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温（２３℃）まで冷却した後、反応液を吸引ろ過して、析出した塩を除去した。得られた有機層を撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに移し、水冷下で撹拌した。
次いで、フラスコ内に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（１０．６ｇ）およびトリエチルアミン（６５．９ｇ）を添加し、滴下ロートを用いて、あらかじめテトラヒドロフラン（１２５ｇ）に溶解させた４－ｎ－オクチルオキシ桂皮酸クロリド（１２７．９ｇ）を３０分かけて上記フラスコ内に滴下し、滴下終了後、反応液を５０℃で６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水で分液洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、得られた溶液を濃縮することにより黄白色固体を得た。
得られた黄白色固体をメチルエチルケトン（４００ｇ）に加熱溶解させ、再結晶を行うことで、以下に示すモノマーｍＡ－１を白色固体として７６ｇ得た（収率４０％）。
なお、以下のモノマーｍＡ－１は、上述した繰り返し単位Ａ－１を形成するモノマーに該当する。
撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに、４－アミノシクロヘキサノール（５０．０ｇ）、トリエチルアミン（４８．３ｇ）、および、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（８００ｇ）を量りとり、氷冷下で撹拌した。
次に、滴下ロートを用いてメタクリル酸クロリド（４７．５ｇ）を４０分かけて上記フラスコ内に滴下し、滴下終了後、反応液を４０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温（２３℃）まで冷却した後、反応液を吸引ろ過して、析出した塩を除去した。得られた有機層を撹拌羽、温度計、滴下ロートおよび還流管を備えた２Ｌ三口フラスコに移し、水冷下で撹拌した。
次いで、フラスコ内に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（１０．６ｇ）およびトリエチルアミン（６５．９ｇ）を添加し、滴下ロートを用いて、あらかじめテトラヒドロフラン（１２５ｇ）に溶解させた４－ｎ－オクチルオキシ桂皮酸クロリド（１２７．９ｇ）を３０分かけて上記フラスコ内に滴下し、滴下終了後、反応液を５０℃で６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水で分液洗浄し、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、得られた溶液を濃縮することにより黄白色固体を得た。
得られた黄白色固体をメチルエチルケトン（４００ｇ）に加熱溶解させ、再結晶を行うことで、以下に示すモノマーｍＡ－１を白色固体として７６ｇ得た（収率４０％）。
なお、以下のモノマーｍＡ－１は、上述した繰り返し単位Ａ－１を形成するモノマーに該当する。
（他のモノマー）
繰り返し単位Ｂ－１を形成する下記モノマーｍＢ－１として、サイクロマーＭ－１００（ダイセル社製）を用いた。
繰り返し単位Ｂ－１を形成する下記モノマーｍＢ－１として、サイクロマーＭ－１００（ダイセル社製）を用いた。
（重合体Ｐ－１の合成）
冷却管、温度計、および撹拌機を備えたフラスコに、溶媒として２－ブタノン（５質量部）を仕込み、フラスコ内に窒素を５ｍＬ／ｍｉｎ流しながら、水浴加熱により還流させた。ここに、モノマーｍＡ－１（１．２質量部）、モノマーｍＢ－１（８．８質量部）、重合開始剤として２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（１質量部）と、溶媒として２－ブタノン（５質量部）を混合した溶液を、３時間かけて滴下し、さらに３時間還流状態を維持したまま、得られた反応液を撹拌した。反応終了後、反応液を室温まで放冷し、反応液に２－ブタノン（３０質量部）を加えて希釈することで、重合体濃度が約２０質量％の重合体溶液を得た。得られた重合体溶液を大過剰のメタノール中へ投入して重合体を沈殿させ、沈殿物をろ別し、得られた固形分を大量のメタノールで洗浄した後、５０℃において１２時間送風乾燥することにより、光配向性基を有する重合体Ｐ－１を得た。
冷却管、温度計、および撹拌機を備えたフラスコに、溶媒として２－ブタノン（５質量部）を仕込み、フラスコ内に窒素を５ｍＬ／ｍｉｎ流しながら、水浴加熱により還流させた。ここに、モノマーｍＡ－１（１．２質量部）、モノマーｍＢ－１（８．８質量部）、重合開始剤として２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）（１質量部）と、溶媒として２－ブタノン（５質量部）を混合した溶液を、３時間かけて滴下し、さらに３時間還流状態を維持したまま、得られた反応液を撹拌した。反応終了後、反応液を室温まで放冷し、反応液に２－ブタノン（３０質量部）を加えて希釈することで、重合体濃度が約２０質量％の重合体溶液を得た。得られた重合体溶液を大過剰のメタノール中へ投入して重合体を沈殿させ、沈殿物をろ別し、得られた固形分を大量のメタノールで洗浄した後、５０℃において１２時間送風乾燥することにより、光配向性基を有する重合体Ｐ－１を得た。
＜実施例１＞
（光配向膜用組成物の調製）
下記のように光配向膜用組成物１を調製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
下記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ０．６０質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
（光配向膜用組成物の調製）
下記のように光配向膜用組成物１を調製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
下記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ０．６０質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
熱酸発生剤Ｄ－１
調製した光配向膜用組成物１を、ガラスビンに封入し、密閉した状態で常温下７日間保存した。
（積層体の作製）
セルロースアシレートフィルムとして、特開２０１２－２１５６８９号公報の実施例６と同じものを用いた。このフィルムの片側の面に、上記７日間保存した光配向膜用組成物１をバーコーターで塗布した。その後、光配向膜用組成物１が塗布されたフィルムを１２５℃のホットプレート上で２分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．３μｍの前駆体膜を形成した。得られた前駆体膜に偏光紫外線照射（８ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、下記光学異方性層用塗布液１を、バーコーターを用いて塗布した。光配向膜上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、次に、６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層を含む実施例１の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１ ３９．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－２ ３９．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－３ １７．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ａ－１ ５．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｔ－１） ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレートフィルムとして、特開２０１２－２１５６８９号公報の実施例６と同じものを用いた。このフィルムの片側の面に、上記７日間保存した光配向膜用組成物１をバーコーターで塗布した。その後、光配向膜用組成物１が塗布されたフィルムを１２５℃のホットプレート上で２分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．３μｍの前駆体膜を形成した。得られた前駆体膜に偏光紫外線照射（８ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、下記光学異方性層用塗布液１を、バーコーターを用いて塗布した。光配向膜上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、次に、６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層を含む実施例１の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ－１ ３９．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－２ ３９．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ－３ １７．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ａ－１ ５．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｔ－１） ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶化合物Ｌ－１
重合性液晶化合物Ｌ－２
重合性液晶化合物Ｌ－３
重合性液晶化合物Ａ－１
重合開始剤Ｓ－１
化合物Ｔ－１
＜実施例２＞
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物２に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物２
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ０．０１３質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物２に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物２
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ０．０１３質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
＜実施例３＞
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物３に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物３
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ２．０３質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物３に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物３
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ジイソプロピルエチルアミン ２．０３質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
＜実施例４＞
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物４に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、光学積層体を作製した。この光学積層体を実施例４の光学積層体とした。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物４
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
トリブチルアミン ０．８６質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物４に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、光学積層体を作製した。この光学積層体を実施例４の光学積層体とした。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物４
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
トリブチルアミン ０．８６質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
＜実施例５＞
実施例１で使用した光学異方性層用塗布液１に代えて、以下に示す光学異方性層用塗布液２を用いて、実施例１と同様の手順に従って、バーコーターを用いて、光学異方性層用塗布液２を塗布した。配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、次に、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例５の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合性液晶化合物Ｌ－４ ４０．００質量部
下記重合性液晶化合物Ｌ－５ ４０．００質量部
上記重合性液晶化合物Ａ－１ ２０．００質量部
上記重合開始剤Ｓ－１ ０．６０質量部
下記重合性化合物Ｂ－１ ７．００質量部
レベリング剤（上記化合物Ｔ－１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン ２００．００質量部
シクロペンタノン ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
実施例１で使用した光学異方性層用塗布液１に代えて、以下に示す光学異方性層用塗布液２を用いて、実施例１と同様の手順に従って、バーコーターを用いて、光学異方性層用塗布液２を塗布した。配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、次に、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例５の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合性液晶化合物Ｌ－４ ４０．００質量部
下記重合性液晶化合物Ｌ－５ ４０．００質量部
上記重合性液晶化合物Ａ－１ ２０．００質量部
上記重合開始剤Ｓ－１ ０．６０質量部
下記重合性化合物Ｂ－１ ７．００質量部
レベリング剤（上記化合物Ｔ－１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン ２００．００質量部
シクロペンタノン ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶化合物Ｌ－４
重合性液晶化合物Ｌ－５
重合性化合物Ｂ－１
＜比較例１＞
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物５に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物５
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物５に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物５
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
＜比較例２＞
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物６に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物６
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ｎ－ブチルアミン ０．３４質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物１を下記の光配向膜用組成物６に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光配向膜用組成物６
──────────────────────────────────
重合体Ｐ－１ １００．００質量部
上記熱酸発生剤Ｄ－１ ３．００質量部
ｎ－ブチルアミン ０．３４質量部
酢酸ブチル ９５３．１２質量部
メチルエチルケトン ２３８．２８質量部
──────────────────────────────────
＜評価＞
（液晶配向性評価）
各実施例および比較例で得られた積層体から幅４０ｍｍ、長さ４０ｍｍのフィルムを切り出した。試料をクロスニコル下の偏光顕微鏡（１０倍の対物レンズ使用）で観察し、下記の基準で液晶配向性を評価した。
Ａ：観察視野内で光漏れなし。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときの光学模様が観察視野内で均一であった。
Ｂ：観察視野内で光漏れがごくわずかにある。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときの光学模様は観察視野内で均一であった。
Ｃ：観察視野内で光漏れあり。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときに光学模様が観察視野内で不均一であった（配向不良が観察された）。
（液晶配向性評価）
各実施例および比較例で得られた積層体から幅４０ｍｍ、長さ４０ｍｍのフィルムを切り出した。試料をクロスニコル下の偏光顕微鏡（１０倍の対物レンズ使用）で観察し、下記の基準で液晶配向性を評価した。
Ａ：観察視野内で光漏れなし。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときの光学模様が観察視野内で均一であった。
Ｂ：観察視野内で光漏れがごくわずかにある。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときの光学模様は観察視野内で均一であった。
Ｃ：観察視野内で光漏れあり。クロスニコルから検光子を４°ずらして観察したときに光学模様が観察視野内で不均一であった（配向不良が観察された）。
（耐久性評価）
各実施例および比較例で得られた積層体に粘着剤を貼合し、その粘着面をガラスに貼合し、積層体とガラスとの貼合物を温度８５℃および湿度８５％の環境下で７２時間保持した後の積層体のＲｅ（５５０）を下記の基準で評価した。
Ａ：温度８５℃および湿度８５％の環境下に保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９８％以上である場合
Ｂ：温度８５℃および湿度８５％の環境下保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９８％未満である場合
各実施例および比較例で得られた積層体に粘着剤を貼合し、その粘着面をガラスに貼合し、積層体とガラスとの貼合物を温度８５℃および湿度８５％の環境下で７２時間保持した後の積層体のＲｅ（５５０）を下記の基準で評価した。
Ａ：温度８５℃および湿度８５％の環境下に保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９８％以上である場合
Ｂ：温度８５℃および湿度８５％の環境下保持前のＲｅ（５５０）に対し、保持後のＲｅ（５５０）の割合が９８％未満である場合
表１中、「酸発生剤」の「添加量」欄は、光配向性共重合体の全質量に対する酸発生剤の含有量（質量％）を表す。
表１中、「アミン化合物」の「添加量」欄は、酸発生剤の全モルに対するアミン化合物の含有量（モル量）を表す。
表１中、「液晶１」は光学異方性層用塗布液１を用いたことを意味し、「液晶２」は光学異方性層用塗布液２を用いたことを意味する。
表１中、「繰り返し単位Ａ」欄に記載した繰り返し単位の含有量をａとし、「繰り返し単位Ｂ」欄に記載した繰り返し単位の含有量をｂとした。
表１中、「アミン化合物」の「添加量」欄は、酸発生剤の全モルに対するアミン化合物の含有量（モル量）を表す。
表１中、「液晶１」は光学異方性層用塗布液１を用いたことを意味し、「液晶２」は光学異方性層用塗布液２を用いたことを意味する。
表１中、「繰り返し単位Ａ」欄に記載した繰り返し単位の含有量をａとし、「繰り返し単位Ｂ」欄に記載した繰り返し単位の含有量をｂとした。
上記表１に示すように、本発明の光配向膜用組成物においては、所望の効果が得られることが確認された。
特に、実施例１～３の比較より、アミン化合物の含有量が、酸発生剤の含有モル量に対して、５～４００モル％である場合、より効果が優れていた。
一方で、アミン化合物を使用していない比較例１、窒素原子上にプロトンを有するアミン化合物を使用した比較例２においては、所望の効果は得られなかった。
特に、実施例１～３の比較より、アミン化合物の含有量が、酸発生剤の含有モル量に対して、５～４００モル％である場合、より効果が優れていた。
一方で、アミン化合物を使用していない比較例１、窒素原子上にプロトンを有するアミン化合物を使用した比較例２においては、所望の効果は得られなかった。
＜実施例６＞
（連続塗布フィルムの作製）
ＷＯ２０１６/１５８９４０号の段落［００５９］～［００６６］に記載の方法で、延伸倍率を８％とし、ロール状に巻いた長尺セルロースアシレートフィルム１（幅１３４０ｍｍ）を作製した。
次に、セルロースアシレートフィルム１に、スリットダイコーターにより、塗布幅１３１０ｍｍで、光配向膜用組成物１を塗布した。その後、光配向膜用組成物１が塗布されたフィルムに１２５℃の温風を当てて２分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．３μｍの前駆体膜を形成した。得られた前駆体膜に偏光紫外線照射（８ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、長尺光配向膜を形成した。
次に、スリットダイコーターにより、塗布幅１３２０ｍｍで、光学異方性層用塗布液２を光配向膜の両サイドを完全に覆う形で塗布した。次に、塗膜を温風にて１００℃に加熱し、次に、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２５℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例６の積層体（長尺フィルム）を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。
（連続塗布フィルムの作製）
ＷＯ２０１６/１５８９４０号の段落［００５９］～［００６６］に記載の方法で、延伸倍率を８％とし、ロール状に巻いた長尺セルロースアシレートフィルム１（幅１３４０ｍｍ）を作製した。
次に、セルロースアシレートフィルム１に、スリットダイコーターにより、塗布幅１３１０ｍｍで、光配向膜用組成物１を塗布した。その後、光配向膜用組成物１が塗布されたフィルムに１２５℃の温風を当てて２分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．３μｍの前駆体膜を形成した。得られた前駆体膜に偏光紫外線照射（８ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、長尺光配向膜を形成した。
次に、スリットダイコーターにより、塗布幅１３２０ｍｍで、光学異方性層用塗布液２を光配向膜の両サイドを完全に覆う形で塗布した。次に、塗膜を温風にて１００℃に加熱し、次に、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２５℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例６の積層体（長尺フィルム）を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。
＜実施例７＞
実施例６と同様の方法で、塗布幅１３２０ｍｍで、光学異方性層用塗布液２を光配向膜の両サイドを完全に覆う形で塗布した。塗布液が未乾燥状態のうちに、フィルムの両端部に、掻き取り部材としてスクレーパーを押し当てて、光学異方性層用塗布液２の厚みを薄くした。なお、本実施例７においては、基材の一方の端部より１０～３０ｍｍの範囲が薄塗りとなっている。
続いて、実施例６と同様の方法で塗膜を乾燥、配向を固定化し、実施例７の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の中心厚みは２．５μm、光学異方性層の端部で上述した方法で薄塗りした部分の厚みは１μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。
実施例６と同様の方法で、塗布幅１３２０ｍｍで、光学異方性層用塗布液２を光配向膜の両サイドを完全に覆う形で塗布した。塗布液が未乾燥状態のうちに、フィルムの両端部に、掻き取り部材としてスクレーパーを押し当てて、光学異方性層用塗布液２の厚みを薄くした。なお、本実施例７においては、基材の一方の端部より１０～３０ｍｍの範囲が薄塗りとなっている。
続いて、実施例６と同様の方法で塗膜を乾燥、配向を固定化し、実施例７の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の中心厚みは２．５μm、光学異方性層の端部で上述した方法で薄塗りした部分の厚みは１μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。
＜実施例８＞
実施例６と同様の方法で、光学異方性層用塗布液２を光配向膜に塗布した。その後、配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で、ウェブ端部～３０ｍｍの位置に左右それぞれに遮光板を設けた高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて２回目の照射は１２５℃に加熱しながら遮光板を設けず塗膜全面に５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例８の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。また、遮光板により１回目の紫外線照射がなされなかった領域は、複屈折性がなく、厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８７％であった。
実施例６と同様の方法で、光学異方性層用塗布液２を光配向膜に塗布した。その後、配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で、ウェブ端部～３０ｍｍの位置に左右それぞれに遮光板を設けた高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて２回目の照射は１２５℃に加熱しながら遮光板を設けず塗膜全面に５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例８の積層体を作製した。得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４０ｎｍ、厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８５％であった。また、遮光板により１回目の紫外線照射がなされなかった領域は、複屈折性がなく、厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は８７％であった。
＜実施例９＞
実施例６と同様の方法で、光学異方性層用塗布液２を光配向膜に塗布した。その後、配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で、高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜全面に照射し、続いて１２５℃に加熱しながらウェブ端部～３０ｍｍの位置に遮光板を設けた高圧水銀灯を用いて５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例９の積層体を作製した。得られた積層体の遮光板により２回目の紫外線照射がなされなかった領域は、Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は６０％であった。
実施例６と同様の方法で、光学異方性層用塗布液２を光配向膜に塗布した。その後、配向膜上に形成された塗膜を温風にて１００℃に加熱し、９０℃に冷却した後に窒素雰囲気下で、高圧水銀灯を用いて、波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜全面に照射し、続いて１２５℃に加熱しながらウェブ端部～３０ｍｍの位置に遮光板を設けた高圧水銀灯を用いて５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射した。上記手順によって、液晶化合物の配向を固定化し、実施例９の積層体を作製した。得られた積層体の遮光板により２回目の紫外線照射がなされなかった領域は、Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍ、光学異方性層の厚みは２．５μｍ、（メタ）アクリロイル反応率は６０％であった。
＜評価＞
（（メタ）アクリロイル反応率）
（メタ）アクリロイル基を有する各成分の全ての重合性基のうち、光学異方性層を形成する際の重合によって消費されたものの比率をいい、フーリエ変換赤外分光（ＦＴ－ＩＲ）光度計〔Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００（Thermo Fisher Science社製）〕を用いて測定し、得られたスペクトルのＣ＝Ｃ基由来のピーク面積から、（メタ）アクリロイル基の反応率を算出した。反応率の算出は、Ｃ＝Ｃ基由来の吸収、すなわち、８１０ｃｍ－１、１４１０ｃｍ－１および１６３５ｃｍ－１のいずれかのピークの面積の減少を、反応前後で変化しない液晶成分のニトリル基の吸収２２１５ｃｍ－１の面積を基準として計算した。
（（メタ）アクリロイル反応率）
（メタ）アクリロイル基を有する各成分の全ての重合性基のうち、光学異方性層を形成する際の重合によって消費されたものの比率をいい、フーリエ変換赤外分光（ＦＴ－ＩＲ）光度計〔Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００（Thermo Fisher Science社製）〕を用いて測定し、得られたスペクトルのＣ＝Ｃ基由来のピーク面積から、（メタ）アクリロイル基の反応率を算出した。反応率の算出は、Ｃ＝Ｃ基由来の吸収、すなわち、８１０ｃｍ－１、１４１０ｃｍ－１および１６３５ｃｍ－１のいずれかのピークの面積の減少を、反応前後で変化しない液晶成分のニトリル基の吸収２２１５ｃｍ－１の面積を基準として計算した。
（端部カール）
搬送中の支持体の端部を目視で評価した。
Ａ：搬送用ロールの間の、支持されていない領域で、ウェブ端部に変形なし
Ｂ：搬送用ロールの間の、支持されていない領域で、ウェブ端部がカール
Ｃ：搬送用ロールに支持された領域で、ウェブ端部がカール
Ｄ：端部のカールが大きく、搬送できない
搬送中の支持体の端部を目視で評価した。
Ａ：搬送用ロールの間の、支持されていない領域で、ウェブ端部に変形なし
Ｂ：搬送用ロールの間の、支持されていない領域で、ウェブ端部がカール
Ｃ：搬送用ロールに支持された領域で、ウェブ端部がカール
Ｄ：端部のカールが大きく、搬送できない
上記表２に示すように、本発明の光配向膜用組成物は、積層体が長尺フィルムであっても、所望の効果が得られることが確認された。
一方、実施例６に示すように、本発明の光配向膜用組成物を塗工した長尺フィルムでは、端部にカールが発生しやすいが、実施例７～９に示すような端部処理によって、改良できる。
一方、実施例６に示すように、本発明の光配向膜用組成物を塗工した長尺フィルムでは、端部にカールが発生しやすいが、実施例７～９に示すような端部処理によって、改良できる。
Claims (7)
- 光配向性基を含む繰り返し単位Ａと、架橋性基を含む繰り返し単位Ｂとを有し、
前記繰り返し単位Ａの含有量ａと、前記繰り返し単位Ｂの含有量ｂとが、質量比で下記式（１）を満たす光配向性共重合体と、
０．７０≦ｂ／（ａ＋ｂ）≦０．９７・・・（１）
酸発生剤と、
沸点が５０～２３０℃であり、窒素原子上にプロトンを有さないアミン化合物と、を含む光配向膜用組成物。 - 前記アミン化合物が下記式（２）で表される化合物を含む、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
前記式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、および、Ｒ３は、それぞれ独立に、炭素数１～２０の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基を表す。 - 前記アミン化合物の含有モル量が、前記酸発生剤の含有モル量に対して、５～４００モル％である、請求項１または２に記載の光配向膜用組成物。
- 前記光配向性基を含む繰り返し単位Ａが、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位を含み、
前記架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
前記式（Ａ）中、Ｒ５は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ１は、窒素原子とシクロアルカン環とを含む２価の連結基を表し、前記シクロアルカン環を構成する炭素原子の一部が、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択されるヘテロ原子で置換されていてもよい。
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０のうち、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
前記式（Ｂ）中、Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表す。
Ｌ２は、２価の連結基を表す。
Ｘは、架橋性基を表す。 - 前記架橋性基を含む繰り返し単位Ｂが、下記式（Ｘ１）～（Ｘ３）のいずれかで表される架橋性基を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
前記式（Ｘ１）～（Ｘ３）中、＊は結合手を表し、Ｒ４は、水素原子、メチル基、または、エチル基を表す。 - 請求項１～５のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物を用いて形成した、光配向膜。
- 請求項６に記載の光配向膜と、
液晶化合物を含む液晶組成物を用いて形成される光学異方性層と、を有する、積層体。
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