JP7192883B2 - 石英ガラスルツボ - Google Patents
石英ガラスルツボ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7192883B2 JP7192883B2 JP2020563094A JP2020563094A JP7192883B2 JP 7192883 B2 JP7192883 B2 JP 7192883B2 JP 2020563094 A JP2020563094 A JP 2020563094A JP 2020563094 A JP2020563094 A JP 2020563094A JP 7192883 B2 JP7192883 B2 JP 7192883B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- layer
- infrared transmittance
- thickness
- corner portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 172
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 150
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 32
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 32
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 146
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 143
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 143
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 143
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 106
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 106
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 105
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 15
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000010314 arc-melting process Methods 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 229910021489 α-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/10—Crucibles or containers for supporting the melt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
- C03B19/095—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould by centrifuging, e.g. arc discharge in rotating mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/10—Compositions for glass with special properties for infrared transmitting glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
ルツボの赤外線透過率分布がシリコン単結晶の酸素濃度分布に与える影響について考察した。この考察では、口径32インチ(約800mm)の石英ガラスルツボのサンプルA1~A5、B1~B4を用意し、各ルツボサンプルの内壁面に沿った高さ方向の赤外線透過率分布を測定した。赤外線透過率分布の測定では、ルツボの底部中心から側壁部の上端に向かって測定ラインを設定し、この測定ラインに沿って底部中心から20mm間隔で赤外線透過率を求めた。赤外線透過率の測定には赤外ランプとレーザーパワーメーターとを組み合わせからなる測定装置を用いた。赤外ランプは波長1000nm付近にピークを持つ近赤外ランプを使用した。レーザーパワーメーターは測定レンジ1~250W、波長レンジ190nm~11μm、校正波長10.6μmのものを使用した。なお、赤外線透過率の測定では、ルツボの内壁面に対して垂直な方向に測定した。その後、赤外線透過率の測定値から隣接する2つの測定点間における赤外線透過率の変化率を求めた。
次に、ルツボの気泡層の厚さ分布がシリコン単結晶の酸素濃度分布に与える影響について考察した。この考察では、口径32インチ(約800mm)の石英ガラスルツボのサンプルA6~A11、B5~B8を用意し、各ルツボサンプルの内壁面に沿った高さ方向の肉厚及び気泡層の厚さ分布を赤外線透過率分布と共に測定した。ルツボの肉厚及び気泡層の厚さ分布の測定では、赤外線透過率の測定と同様に、ルツボの底部中心から側壁部の上端に向かって測定ラインを設定し、この測定ラインに沿って底部中心から20mm間隔でルツボの肉厚及び気泡層の厚さを求めた。ルツボの肉厚及び気泡層の厚さの測定には超音波測定機(超音波厚さ計)を用いた。なお、ルツボの肉厚及び気泡層の厚さの測定では、ルツボの内壁面に対して垂直な方向に測定した。その後、気泡層の厚さの測定値から隣接する2つの測定点間における気泡層の厚さの変化率を求めた。
5 シリコン融液
5a シリコン融液の液面
6 シリコン単結晶
10a 側壁部
10b 底部
10c コーナー部
10i ルツボの内面
10o ルツボの外面
11 透明層
12 気泡層
16 原料シリカ粉の堆積層
16A 合成シリカ粉
16B 天然シリカ粉
20 ヒーター
21 赤外線ランプ
22 レーザーパワーメーター
25 カーボンサセプタ
30 モールド
30i モールドの内面
31 アーク電極
32 通気孔
Claims (11)
- 円筒状の側壁部と、底部と、前記側壁部と前記底部とをつなぐコーナー部とを有する石英ガラスルツボであって、
気泡を含まない石英ガラスからなる透明層と、
多数の気泡を含む石英ガラスからなり前記透明層の外側に形成された気泡層と、
前記気泡層の外側に形成され、原料シリカ粉が不完全に溶融した状態で固化した半溶融層とを備え、
前記側壁部の赤外線透過率に対する前記コーナー部の肉厚最大位置における赤外線透過率の比が0.3以上0.99以下であり、
前記底部の中心から前記側壁部の上端に向かう前記ルツボの壁面に沿った高さ方向の赤外線透過率の変化率の絶対値が3%/cm以下であり、
前記赤外線透過率は、前記半溶融層を除去した状態で測定された値であることを特徴とする石英ガラスルツボ。 - 前記コーナー部の肉厚最大位置における赤外線透過率が25%以上51%以下である、請求項1に記載の石英ガラスルツボ。
- 前記底部の中心から前記側壁部の上端に向かう前記ルツボの壁面に沿った高さ方向の気泡層の厚さの変化率の絶対値が2.5mm/cm以下である、請求項1又は2に記載の石英ガラスルツボ。
- 前記ルツボの口径が32インチであり、
前記コーナー部の最大肉厚が19mm以上30mm以下であり、
前記コーナー部の肉厚最大位置における前記気泡層の厚さが18mm以上29mm以下である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。 - 前記コーナー部の肉厚最大位置における前記気泡層の気泡含有率が0.1vol%よりも大きく5vol%以下である、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。
- 前記側壁部における前記気泡層の厚さは当該側壁部における前記透明層よりも厚く、
前記コーナー部における前記気泡層の厚さは当該側壁部における前記透明層よりも厚い、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。 - 円筒状の側壁部と、底部と、前記側壁部と前記底部とをつなぐコーナー部とを有する石英ガラスルツボであって、
気泡を含まない石英ガラスからなる透明層と、
多数の気泡を含む石英ガラスからなり前記透明層の外側に形成された気泡層と、
前記気泡層の外側に形成され、原料シリカ粉が不完全に溶融した状態で固化した半溶融層とを備え、
前記側壁部の赤外線透過率に対する前記コーナー部の肉厚最大位置における赤外線透過率の比が0.3以上0.99以下であり、
前記底部の中心から前記側壁部の上端に向かう前記ルツボの壁面に沿った高さ方向の気泡層の厚さの変化率の絶対値が2.5mm/cm以下であり、
前記赤外線透過率は、前記半溶融層を除去した状態で測定された値であることを特徴とする石英ガラスルツボ。 - 前記ルツボの口径が32インチであり、
前記コーナー部の最大肉厚が19mm以上30mm以下であり、
前記コーナー部の肉厚最大位置における前記気泡層の厚さが18mm以上29mm以下である、請求項7に記載の石英ガラスルツボ。 - 前記コーナー部の肉厚最大位置における前記気泡層の気泡含有率が0.1vol%よりも大きく5vol%以下である、請求項7又は8に記載の石英ガラスルツボ。
- 前記コーナー部の肉厚最大位置における赤外線透過率が25%以上51%以下である、請求項7乃至9のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。
- 前記側壁部における前記気泡層の厚さは当該側壁部における前記透明層よりも厚く、
前記コーナー部における前記気泡層の厚さは当該側壁部における前記透明層よりも厚い、請求項7乃至10のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018244360 | 2018-12-27 | ||
JP2018244362 | 2018-12-27 | ||
JP2018244360 | 2018-12-27 | ||
JP2018244362 | 2018-12-27 | ||
PCT/JP2019/049119 WO2020137647A1 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-16 | 石英ガラスルツボ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020137647A1 JPWO2020137647A1 (ja) | 2021-10-21 |
JP7192883B2 true JP7192883B2 (ja) | 2022-12-20 |
Family
ID=71128587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020563094A Active JP7192883B2 (ja) | 2018-12-27 | 2019-12-16 | 石英ガラスルツボ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220090290A1 (ja) |
JP (1) | JP7192883B2 (ja) |
KR (1) | KR102512033B1 (ja) |
CN (1) | CN113557326B (ja) |
DE (1) | DE112019006492T5 (ja) |
SG (1) | SG11202106547TA (ja) |
TW (1) | TWI740314B (ja) |
WO (1) | WO2020137647A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG11202106610PA (en) | 2018-12-27 | 2021-07-29 | Sumco Corp | Quartz glass crucible, method for producing silicon single crystal using same, method for measuring infrared transmittance of quartz glass crucible, and method for manufacturing quartz glass crucible |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107163A (ja) | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ルツボとその製造方法 |
JP2010105880A (ja) | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Japan Siper Quarts Corp | 多層構造を有する石英ガラスルツボ |
JP2016193809A (ja) | 2015-04-01 | 2016-11-17 | クアーズテック株式会社 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ |
JP2018039702A (ja) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社 | シリコン単結晶の製造方法及び改質処理後のシリコン単結晶製造用石英ルツボ |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3136533B2 (ja) | 1995-04-28 | 2001-02-19 | 三菱マテリアルクォーツ株式会社 | シリコン単結晶引上げ用石英ルツボ |
JP2002326889A (ja) | 2001-04-27 | 2002-11-12 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ |
JP5618409B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2014-11-05 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボ |
US9810526B2 (en) * | 2011-12-27 | 2017-11-07 | Sumco Corporation | Method for measuring three-dimensional shape of silica glass crucible, and method for producing monocrystalline silicon |
DE102012109181B4 (de) * | 2012-09-27 | 2018-06-28 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Ziehen eines Halbleiter-Einkristalls nach dem Czochralski-Verfahren und dafür geeigneter Quarzglastiegel |
-
2019
- 2019-12-16 SG SG11202106547TA patent/SG11202106547TA/en unknown
- 2019-12-16 CN CN201980086234.3A patent/CN113557326B/zh active Active
- 2019-12-16 JP JP2020563094A patent/JP7192883B2/ja active Active
- 2019-12-16 US US17/413,925 patent/US20220090290A1/en active Pending
- 2019-12-16 KR KR1020217019742A patent/KR102512033B1/ko active IP Right Grant
- 2019-12-16 WO PCT/JP2019/049119 patent/WO2020137647A1/ja active Application Filing
- 2019-12-16 DE DE112019006492.4T patent/DE112019006492T5/de active Pending
- 2019-12-18 TW TW108146391A patent/TWI740314B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107163A (ja) | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ルツボとその製造方法 |
JP2010105880A (ja) | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Japan Siper Quarts Corp | 多層構造を有する石英ガラスルツボ |
JP2016193809A (ja) | 2015-04-01 | 2016-11-17 | クアーズテック株式会社 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ |
JP2018039702A (ja) | 2016-09-08 | 2018-03-15 | グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社 | シリコン単結晶の製造方法及び改質処理後のシリコン単結晶製造用石英ルツボ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102512033B1 (ko) | 2023-03-20 |
US20220090290A1 (en) | 2022-03-24 |
TW202033845A (zh) | 2020-09-16 |
DE112019006492T5 (de) | 2021-11-11 |
JPWO2020137647A1 (ja) | 2021-10-21 |
KR20210094045A (ko) | 2021-07-28 |
CN113557326B (zh) | 2023-11-07 |
TWI740314B (zh) | 2021-09-21 |
SG11202106547TA (en) | 2021-07-29 |
WO2020137647A1 (ja) | 2020-07-02 |
CN113557326A (zh) | 2021-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4987029B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ | |
JP5022519B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ | |
US20240183062A1 (en) | Infrared transmissivity measurement method of quartz glass crucible | |
JP7192883B2 (ja) | 石英ガラスルツボ | |
JP5036735B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP6351534B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ | |
WO2022131047A1 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法並びにシリコン単結晶の製造方法 | |
JP5749147B2 (ja) | シリカガラスルツボの製造方法 | |
JP6922982B2 (ja) | 石英ガラスルツボ | |
JP7172844B2 (ja) | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
WO2021131321A1 (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 | |
JP2024043650A (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法及び石英ガラスルツボ用石英粉 | |
JP2024100160A (ja) | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210614 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220628 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7192883 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |