JP7186583B2 - 銅微粒子分散液及び透明導電回路の作製方法 - Google Patents
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Description
透明基材2は、実施例1と同じガラスとした。銅微粒子分散液の銅微粒子、銅粉用分散剤、黒化物及びカーボンブラック用分散剤は、実施例1と同じとした。接着性樹脂及び硬化剤は、添加しなかった。銅微粒子、銅粉用分散剤、黒化物、及びカーボンブラック用分散剤の濃度は、それぞれ、3wt%、0.125wt%、6wt%、0.9wt%とした。分散媒は、残部である。
透明基材2は、実施例2と同じPETとした。銅微粒子分散液は、比較例1と同じとした。すなわち、接着性樹脂及び硬化剤は、添加しなかった。
2 透明基材
3 液膜
31 銅微粒子
32 分散媒
4 シード層
5 導体層
Claims (8)
- 透明基材上に無電解銅めっき用のシード層を形成するための銅微粒子分散液であって、
分散媒と、前記分散媒中に分散された銅微粒子とを含有し、
前記銅微粒子を分散させる銅微紛用分散剤と、前記銅微粒子を前記透明基材に接着する接着性樹脂と、カーボンブラックと、前記カーボンブラックを分散させるカーボンブラック用分散剤とが添加され、
前記分散媒は、極性分散媒であり、
前記銅微粉用分散剤は、酸性官能基を有する化合物であり、
カーボンブラック用分散剤は、湿潤分散剤であることを特徴とする銅微粒子分散液。 - 前記接着性樹脂は、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂及びポリアミド樹脂からなる群から選ばれる合成樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載の銅微粒子分散液。
- 前記分散媒は、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、N-メチルピロリドン、2-メチルペンタン-2,4-ジオール及びジエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選ばれる極性分散媒であり、
前記銅微紛用分散剤は、リン酸基を有する化合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の銅微粒子分散液。 - 前記透明基材は、ガラス、ポリエチレンテレフタラート、ポリカーボネート及び環状オレフィンコポリマーからなる群から選ばれる透明な絶縁材料から成ることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の銅微粒子分散液。
- 透明基材と導体層のパターンとを有する透明導電回路の作製方法であって、
請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の銅微粒子分散液を用いて透明基材上に前記銅微粒子分散液から成る液膜のパターンを形成する工程と、
前記液膜中の前記分散媒を乾燥してシード層を形成する工程と、
前記シード層に無電解銅めっきを施して導体層のパターンを形成する工程とを有することを特徴とする透明導電回路の作製方法。 - 導体層のパターンを形成する前記工程において、前記シード層に前記無電解銅めっきを施した後、無電解ニッケルめっきをさらに施すことを特徴とする請求項5に記載の透明導電回路の作製方法。
- 導体層のパターンを形成する前記工程において、前記シード層に前記無電解銅めっきを施した後、電気めっきをさらに施すことを特徴とする請求項5に記載の透明導電回路の作製方法。
- 前記導体層のパターンは、線幅が5μm以下の線状パターンを有することを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか一項に記載の透明導電回路の作製方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3532146B2 (ja) | 2000-08-09 | 2004-05-31 | 住友ゴム工業株式会社 | 透光性電磁波シールド部材とその製造方法 |
JP2008041823A (ja) | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Bridgestone Corp | 光透過性電磁波シールド材の製造方法、光透過性電磁波シールド材、およびディスプレイ用フィルタ |
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