JP7180668B2 - 光記録媒体用記録層、および光記録媒体 - Google Patents

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Description

本開示は、光記録媒体用記録層、および光記録媒体に関する。
近年では、光記録媒体においては、記録容量を増大させるために、記録層を多層化する技術が広く採用されている。多層光記録媒体の記録層の材料としては、ＷおよびＭｏからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物と、Ｃｕ、Ｍｎ、ＮｉおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物とを含むものが提案されている（例えば特許文献１参照）。
特開２０１３－８６３３６号公報
多層光記録媒体では、光照射面から最も奥側に位置する記録層に関して、良好な再生耐久性（熱耐久性）を保持しつつ、反射率を向上することが望まれている。
本開示の目的は、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる光記録媒体用記録層、およびそれを備える光記録媒体を提供することにある。
上述の課題を解決するために、第１の開示は、
金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含む記録層を備え、
前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体である。
第２の開示は、
金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含み、
前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体用録媒層である。
本開示によれば、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果またはそれらと異質な効果であってもよい。
図１は、本開示の第１の実施形態に係る光記録媒体の一構成例を示す断面図である。 図２は、図１に示した各情報信号層の一構成例を示す概略断面図である。 図３は、本開示の第２の実施形態に係る光記録媒体の一構成例を示す断面図である。
本開示では、複数の記録層が基板上に設けられ、その記録層上にカバー層が設けられていることが好ましい。このカバー層の厚さは特に限定されるものではないが、高密度の光記録媒体では、高ＮＡの対物レンズが用いられるため、カバー層としてシート、コーティング層等の薄い光透過層を採用し、この光透過層の側から光を照射することにより情報信号の記録および再生を行うことが好ましい。この場合、基板としては、不透明性を有するものを採用することも可能である。情報信号を記録または再生するための光の入射面は、光記録媒体のフォーマットに応じてカバー層側および基板側の表面の少なくとも一方に適宜設定される。
本開示において、保存信頼性向上の観点からすると、光記録媒体は、記録層の少なくとも一方の表面に誘電体層をさらに備えることが好ましく、記録層の両方の表面に誘電体層を備えることがより好ましい。層構成や製造設備の簡略化の観点からすると、記録層のいずれの表面にも誘電体層を設けずに、記録層を単独で用いることが好ましい。
本開示において、光記録媒体が、記録層と、この記録層の少なくとも一方の面側に設けられた誘電体層とを備える複数の情報信号層を有する場合、生産性の観点からすると、複数の情報信号層がすべて同一の層構成を有していることが好ましい。複数の情報信号層が第１の誘電体層と、記録層と、第２の誘電体層とを備える同一の層構成を有する場合、生産性の観点からすると、第１の誘電体層、記録層および第２の誘電体層それぞれが、各情報信号層にて同一種の材料を含むものであることが好ましい。
本開示の実施形態について以下の順序で説明する。
１ 第１の実施形態
１．１ 概要
１．２ 光記録媒体の構成
１．３ 光記録媒体の製造方法
１．４ 効果
２ 第２の実施形態
２．１ 光記録媒体の構成
２．２ 光記録媒体の製造方法
２．３ 効果
［１．１ 概要］
本発発明者は、金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物とを含む記録層について検討している。但し、金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、金属ＭＣは、Ｚｎであり、金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種である。
本発明者が上記記録層の反射率を向上すべく鋭意検討したところ、金属ＭＡの含有量を増加させると、反射率を向上することができるが、記録層の感度が高くなり、再生耐久性（熱耐久性）が低下してしまうことを見出すに至った。そこで、本発明者らは、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる記録層について鋭意検討した。その結果、記録層に金属ＭＥ（但し、金属ＭＥはＮｂである。）の酸化物をさらに含ませ、金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥの含有量を０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たすように調整し、かつ、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率を５原子％以上３０原子％以下とする構成を見出すに至った。以下、このような構成を有する光記録媒体について説明する。
［１．２ 光記録媒体の構成］
図１に示すように、本開示の第１の実施形態に係る光記録媒体１は、いわゆる多層の追記型光記録媒体（例えばＡＤ（Archival Disc））であり、第１のディスク１０と、第２のディスク２０と、第１、第２のディスク１０、２０の間に設けられた貼合層３０とを備える。光記録媒体１は、グルーブトラックおよびランドトラックの両方にデータを記録する方式（以下「ランド／グルーブ記録方式」という。）の光記録媒体であり、中央に開口（以下「センターホール」という。）が設けられた円盤形状を有する。なお、光記録媒体１の形状は円盤形状に限定されるものではなく、これ以外の形状であってもよい。
第１のディスク１０は、情報信号層Ｌ０、スペーサ層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、・・・、スペーサ層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎ、カバー層である光透過層１２がこの順序で基板１１の一主面に積層された構成を有する。第２のディスク２０は、情報信号層Ｌ０、スペーサ層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、・・・、スペーサ層Ｓｍ、情報信号層Ｌｍ、カバー層である光透過層２２がこの順序で基板２１の一主面に積層された構成を有する。但し、ｎ、ｍはそれぞれ独立して２以上の整数である。なお、以下の説明において、情報信号層Ｌ０～Ｌｎ、Ｌ０～Ｌｍを特に区別しない場合には、情報信号層Ｌという。
光記録媒体１は、情報信号を記録または再生するためのレーザー光が照射される光照射面を両面に有する。より具体的には、第１のディスク１０の情報信号の記録または再生を行うためのレーザー光が照射される第１の光照射面Ｃ１と、第２のディスク２０の情報信号の記録または再生を行うためのレーザー光が照射される第２の光照射面Ｃ２とを有する。
第１のディスク１０では、情報信号層Ｌ０が第１の光照射面Ｃ１を基準として最も奥に位置し、その手前に情報信号層Ｌ１～Ｌｎが位置している。このため、情報信号層Ｌ１～Ｌｎは、記録または再生に用いられるレーザー光を透過可能に構成されている。一方、第２のディスク２０では、情報信号層Ｌ０が第２の光照射面Ｃ２を基準として最も奥に位置し、その手前に情報信号層Ｌ１～Ｌｍが位置している。このため、情報信号層Ｌ１～Ｌｍは、記録または再生に用いられるレーザー光を透過可能に構成されている。なお、図示しないが、光記録媒体１が、光透過層１２、２２の表面（すなわち第１、第２の光照射面Ｃ１、Ｃ２）にハードコート層をさらに備えていてもよい。
光記録媒体１では、第１のディスク１０の情報信号の記録または再生は以下のようにして行われる。すなわち、光透過層１２側の第１の光照射面Ｃ１からレーザー光を、第１のディスク１０に含まれる各情報信号層Ｌ０～Ｌｎに照射することにより、第１のディスク１０の情報信号の記録または再生が行われる。例えば、３５０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザー光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層１２の側から、第１のディスク１０に含まれる各情報信号層Ｌ０～Ｌｎに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
一方、第２のディスク２０の情報信号の記録または再生は以下のようにして行われる。すなわち、光透過層２２側の第２の光照射面Ｃ２からレーザー光を、第２のディスク２０に含まれる各情報信号層Ｌ０～Ｌｍに照射することにより、第２のディスク２０の情報信号の記録または再生が行われる。例えば、３５０ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザー光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層２２の側から、第２のディスク２０に含まれる各情報信号層Ｌ０～Ｌｍに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
以下、光記録媒体１を構成する基板１１、２１、貼合層３０、情報信号層Ｌ０～Ｌｎ、Ｌ０～Ｌｍ、スペーサ層Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍおよび光透過層１２、２２について順次説明する。
（基板）
基板１１、２１は、例えば、中央にセンターホールが設けられた円盤形状を有する。この基板１１、２１の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層Ｌ０が成膜される。以下では、凹凸面のうち凹部をランドＬｄといい、凸部をグルーブＧｖという。
ランドＬｄおよびグルーブＧｖの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状等の各種形状が挙げられる。また、ランドＬｄおよび／またはグルーブＧｖが、線速度の安定化やアドレス情報付加等のためにウォブル（蛇行）されていてもよい。
なお、第１のディスク１０と第２のディスク２０のスパイラル方向は逆であってもよい。この場合、第１のディスク１０と第２のディスク２０を貼り合わせた光記録媒体（両面ディスク）１の同時記録再生が可能となるため、記録や再生時のデータ転送速度を約２倍に高めることができる。
基板１１、２１の外径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１１、２１の内径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。基板１１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上０．５４５ｍｍ以下、より好ましくは０．４４５ｍｍ以上０．５４５ｍｍ以下である。
基板１１、２１の材料としては、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、成形性の観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂等を用いることができ、コストの観点からすると、ポリカーボネート系樹脂を用いることが好ましい。
（貼合層）
貼合層３０は、硬化した紫外線硬化樹脂により構成されている。この貼合層３０により、第１のディスク１０と第２のディスク２０とが貼り合わされる。より具体的には、光透過層１２、２２がそれぞれ表面側となるようにして、第１のディスク１０の基板１１と第２のディスク基板の基板２１とが貼り合わされる。
貼合層３０の厚さは、例えば０．０１ｍｍ以上０．２２ｍｍ以下である。紫外線硬化樹脂は、例えばラジカル重合紫外線硬化樹脂である。
（情報信号層）
情報信号層Ｌは、凹状のトラック（以下「ランドトラック」という。）および凸状のトラック（以下「グルーブトラック」という。）を有している。本実施形態に係る光記録媒体１は、ランドトラックおよびグルーブトラックの両方に情報信号を記録可能に構成されている。ランドトラックとグルーブトラックとのトラックピッチＴｐが、高記録密度の観点からすると、０．２２５μｍ以下であることが好ましい。
図２に示すように、情報信号層Ｌ０～Ｌｎは、上面（第１の主面）および下面（第２の主面）を有する無機記録層（以下単に「記録層」という。）４１と、記録層４１の上面に隣接して設けられた誘電体層４２と、記録層４１の下面に隣接して設けられた誘電体層４３とを備える。このような構成とすることで、記録層４１の耐久性を向上することができる。ここで、上面とは、記録層４１の両主面のうち、情報信号を記録または再生するためのレーザー光が照射される側の主面をいい、下面とは、上述のレーザー光が照射される側とは反対側の主面、すなわち基板１１側の主面をいう。なお、情報信号層Ｌ０～Ｌｍの構成は、情報信号層Ｌ０～Ｌｎと同様とすることができるので、説明を省略する。
（記録層）
情報信号層Ｌ０に含まれる記録層４１は、金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含む。金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種である。金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種である。金属ＭＣは、Ｚｎである。金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種である。金属ＭＥは、Ｎｂである。
金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１、好ましくは０．４３≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たす。また、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下、好ましくは２０原子％以上３０原子％以下の範囲内である。
上述のように、金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥの含有量が０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１の関係を満たし、かつ金属ＭＥの原子比率が５原子％以上３０原子％以下の範囲内あることで、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる。
金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＡの原子比率は、例えば１１原子％以上２２原子％以下である。金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＢの原子比率は、例えば７原子％以上２６原子％以下である。金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＣの原子比率は、例えば２２原子％以上２５原子％以下である。金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＤの原子比率は、例えば２２原子％以上３３原子％以下である。
情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１～Ｌｎの記録層４１は、金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物とを含む。金属ＭＡ、ＭＢ、ＭＣおよびＭＤそれぞれの原子比率は、各情報信号層Ｌに要求される特性に応じて適宜選択される。
記録層４１の厚さは、好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である。記録層４１の厚さが２５ｎｍ以上であると、優れた信号特性を得ることが可能である。一方、記録層４１の厚さが６０ｎｍ以下であると、広い記録パワーマージンを確保することができる。
第１、第２のディスク１０、２０の情報信号層Ｌの層数が３層である場合、情報信号層Ｌ０の反射率は、良好な記録信号の確保の観点から、好ましくは３．０％以上４．５％以下、より好ましくは３．５％以上４．５％以下である。また、情報信号層Ｌ０の最適記録パワーの下限値は、繰り返し再生耐久性の確保の観点から、好ましくは２３ｍＷ以上、より好ましくは２７ｍＷ以上である。情報信号層Ｌ０の最適記録パワーの上限値は、既存の民生用ドライブにおける記録Ｐｗの上限値の観点から、好ましくは３８．０ｍＷ以下である。
（誘電体層）
誘電体層４２、４３は、酸素バリア層として機能を有する。これにより、記録層４１の耐久性を向上することができる。また、誘電体層４２、４３は、記録層４１の酸素の逃避を抑制する機能を有する。これにより、記録層４１の膜質の変化（主に反射率の低下として検出）を抑制することができ、記録層４１として好ましい膜質を確保することができる。また、誘電体層４２、４３は、記録特性を向上させる機能も有する。この機能の発現は、誘電体層４２、４３に入射したレーザー光の熱拡散が適度に制御されて、記録部分における形状変化が大きくなりすぎたり、Ｍｎ酸化物の分解が進みすぎて、変化した形状がつぶれるといったことが抑制され、記録時の形状変化を良好にすることができるためと考えられる。
誘電体層４２、４３の材料としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物およびフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種以上を含んでいる。誘電体層４２、４３の材料としては、互いに同一または異なる材料を用いることができる。酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、ＴｉおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物の具体例としては、ＺｎＳ－ＳｉＯ2、ＳｉＯ2－Ｉｎ2Ｏ3－ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2－Ｃｒ2Ｏ3－ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3－ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3－ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3－Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3－Ｇａ2Ｏ3－ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3－Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2－ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3－ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3－ＢａＯ等が挙げられる。
誘電体層４３の厚さは、好ましくは２ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内である。誘電体層４３の厚さが２ｎｍ未満であると、バリア効果が小さくなる傾向がある。一方、誘電体層４３の厚さが３０ｎｍを超えると、記録パワーマージン減少（悪化）する傾向がある。
誘電体層４２の厚さは、好ましくは２ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲内である。誘電体層４２の厚さが２ｎｍ未満であると、バリア効果が小さくなる傾向がある。一方、誘電体層４２の厚さが５０ｎｍを超えると、記録パワーマージン減少（悪化）する傾向がある。
（スペーサ層）
スペーサ層Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍはそれぞれ、情報信号層Ｌ０～Ｌｎ、Ｌ０～Ｌｍを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を有し、その表面には凹凸面が設けられている。その凹凸面は、例えば、同心円状または螺旋状のランドＬｄおよびグルーブＧｖを形成している。スペーサ層Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍの厚みは、好ましくは９μｍ以上５０μｍ以下である。スペーサ層Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍの材料としては特に限定されるものではないが、紫外線硬化性アクリル樹脂を用いることが好ましい。また、スペーサ層Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍは奥層へのデータの記録および再生のためのレーザー光の光路となることから、十分に高い光透過性を有していることが好ましい。
（光透過層）
光透過層１２、２２は、例えば、紫外線硬化樹脂等の感光性樹脂を硬化してなる樹脂層である。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。また、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを情報信号層Ｌｎ、Ｌｍに対して貼り合わせるための接着層とから光透過層１２、２２を構成するようにしてもよい。光透過性シートは、記録および再生に用いられるレーザー光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂またはポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））等を用いることができる。接着層の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂または感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）等を用いることができる。
光透過層１２、２２の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば５７μｍに選ばれる。このような薄い光透過層１２、２２と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
（ハードコート層）
ハードコート層は、第１、第２の光照射面Ｃ１、Ｃ２に耐擦傷性等を付与するためのものである。ハードコート層の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂または有機無機ハイブリッド系樹脂等を用いることができる。ハードコート層が、機械的強度の向上のために、シリカゲルの微粉末を含んでいてもよい。
上述の構成を有する光記録媒体１では、記録層４１にレーザー光が照射されると、Ｍｎ酸化物がレーザー光により加熱され、分解して酸素を放出し、レーザー光が照射された部分に気泡が生成される。これにより、情報信号の不可逆的な記録を行うことができる。
［１．３ 光記録媒体の製造方法］
次に、本開示の第１の実施形態に係る光記録媒体１の製造方法の一例について説明する。
（第１のディスクの作製工程）
第１のディスク１０を以下のようにして作製する。
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１１を成形する。基板１１の成形の方法としては、例えば、射出成形（インジェクション）法またはフォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）等を用いることができる。
（情報信号層の成膜工程）
次に、例えばスパッタリング法により、基板１１上に、誘電体層４３、記録層４１、誘電体層４２を順次積層することにより、情報信号層Ｌ０を成膜する。以下に、誘電体層４３、記録層４１および誘電体層４２の成膜工程について具体的に説明する。
（誘電体層の成膜工程）
まず、基板１１を、誘電体材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガス等のプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、基板１１上に誘電体層４３を成膜する。
（記録層の成膜工程）
次に、基板１１を、記録層成膜用のターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガス等のプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、誘電体層４３上に記録層４１を成膜する。
ここで、記録層成膜用のターゲットとしては、情報信号層Ｌ０が含む記録層４１と同様の組成を有するものが好ましい。但し、酸素との反応性スパッタリングにより記録層４１を成膜するようにしてもよい。この場合、記録層成膜用のターゲットとしては、金属ＭＡと、金属ＭＢと、金属ＭＣと、金属ＭＤと、金属ＭＥとを含む合金ターゲットが用いられる。但し、金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥが、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１、好ましくは０．４３≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１の関係を満たし、かつ、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下、好ましくは２０原子％以上３０原子％以下である。
（誘電体層の成膜工程）
次に、基板１１を、誘電体材料を主成分として含むターゲットが備えられた真空チャンバー内に搬送し、真空チャンバー内を所定の圧力になるまで真空引きする。その後、真空チャンバー内にＡｒガスやＯ2ガス等のプロセスガスを導入しながら、ターゲットをスパッタリングして、記録層４１上に誘電体層４２を成膜する。
以上により、基板１１上に情報信号層Ｌ０が成膜される。
（スペーサ層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を情報信号層Ｌ０上に均一に塗布する。その後、情報信号層Ｌ０上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばランドＬｄおよびグルーブＧｖが設けられたスペーサ層Ｓ１が情報信号層Ｌ０上に形成される。
（情報信号層の成膜工程およびスペーサ層の形成工程）
次に、上述の“情報信号層の成膜工程”および“スペーサ層の形成工程”と同様にして、情報信号層Ｌ１、スペーサ層Ｓ２、情報信号層Ｌ３、・・・、スペーサ層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎをこの順序でスペーサ層Ｓ１上に積層する。
ここで、記録層成膜用のターゲットとしては、情報信号層Ｌ１～Ｌｎがそれぞれ含む記録層４１と同様の組成を有するものが好ましい。但し、酸素との反応性スパッタリングにより記録層４１を成膜するようにしてもよい。この場合、記録層成膜用のターゲットとしては、金属ＭＡと、金属ＭＢと、金属ＭＣと、金属ＭＤとを含む合金ターゲットが用いられる。
（光透過層の形成工程）
次に、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）等の感光性樹脂を情報信号層Ｌｎ上にスピンコートした後、紫外線等の光を感光性樹脂に照射し硬化する。これにより、情報信号層Ｌｎ上に光透過層１２が形成される。以上により、第１のディスク１０が作製される。
（第２のディスクの作製工程）
“第２のディスクの作製工程”は、上述の“第１のディスクの作製工程”と同様であるので、説明を省略する。
（貼り合わせ工程）
次に、以下のようにして、例えばスピンコート法により、上述のようにして作製された第１、第２のディスク１０、２０の間に接着剤としての紫外線硬化樹脂を延伸させる。まず、第２のディスク２０の両主面のうち第２の光照射面Ｃ２とは反対側の主面に、センターホールの周縁に沿って紫外線硬化樹脂をリング状に塗布する。次に、第１のディスク１０の両主面のうち第１の光照射面Ｃ１とは反対側の主面と、第２のディスク２０の両主面のうち第２の光照射面Ｃ２とは反対側の主面とが対向するようにして、第１のディスク１０を紫外線硬化樹脂を介して第２のディスク２０に対して押し付ける。
次に、第１、第２のディスク１０、２０を回転させて、第１、第２のディスク１０、２０間において、紫外線硬化樹脂を第１、第２のディスク１０、２０の半径方向に延伸する。この際、回転速度により紫外線硬化樹脂の厚さが所定の厚さになるように調整される。これにより、第１、第２のディスク１０、２０間において、紫外線硬化樹脂が第１、第２のディスク１０、２０の内周部から外周部まで行き渡される。以上により、未硬化状態の貼合層３０を有する光記録媒体１が得られる。
なお、上記の紫外線硬化樹脂の延伸工程において、第１、第２のディスク１０、２０の外周部に対して紫外線を照射し、外周部まで延伸された紫外線硬化樹脂を仮硬化させることが好ましい。これにより、第１、第２のディスク１０、２０の外周部における開きの発生を抑制できる。
次に、紫外線ランプにより、光記録媒体１の両面側から紫外線を照射して、貼合層３０を硬化する。これにより、目的とする光記録媒体１が得られる。
［１．４ 効果］
上述の第１の実施形態に係る光記録媒体１は、複数の情報信号層Ｌ０～Ｌｎを備える。複数の情報信号層Ｌ０～Ｌｎのうち、第１、第２の光照射面Ｃ１、Ｃ２から最も奥側に位置する情報信号層Ｌ０は、金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含む記録層４１を備える。金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、金属ＭＣは、Ｚｎであり、金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、金属ＭＥは、Ｎｂである。また、金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１の関係を満たし、かつ、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である。これにより、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる。
＜２ 第２の実施形態＞
［２．１ 光記録媒体の構成］
図３に示すように、本開示の第２の実施形態に係る光記録媒体１Ａは、いわゆる多層の追記型光記録媒体であり、情報信号層Ｌ０、スペーサ層Ｓ１、情報信号層Ｌ１、・・・、スペーサ層Ｓｎ、情報信号層Ｌｎ、カバー層である光透過層１２がこの順序で基板１１の一主面に積層された構成を有する。但し、ｎは、例えば２以上の整数、好ましくは３以上または４以上の整数である。なお、第２の実施形態において第１の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
光記録媒体１Ａは、情報信号を記録または再生するための光が照射される光照射面Ｃを片面に有する。情報信号層Ｌ０が光照射面Ｃを基準として最も奥に位置し、その手前に情報信号層Ｌ１～Ｌｎが位置している。このため、情報信号層Ｌ１～Ｌｎは、記録または再生に用いられるレーザー光を透過可能に構成されている。
この第２の実施形態に係る光記録媒体１Ａでは、光透過層１２側の光照射面Ｃからレーザー光を各情報信号層Ｌ０～Ｌｎに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザー光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層１２の側から各情報信号層Ｌ０～Ｌｎに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光記録媒体１Ａとしては、例えば多層のブルーレイディスク（ＢＤ：Blu-ray（登録商標） Disc）が挙げられる。
光記録媒体１Ａは、典型的には、グルーブ記録方式の光記録媒体であるが、ランド／グルーブ記録方式等の光記録媒体であってもよい。
基板１１Ａの径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センターホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。基板１１Ａの材料は、上述の第１の実施形態における基板１１と同様である。
情報信号層Ｌの層数が３層である場合、情報信号層Ｌ０の反射率は、良好な記録信号の確保の観点から、好ましくは３．０％以上４．５％以下、より好ましくは３．５％以上４．５％以下である。また、情報信号層Ｌ０の最適記録パワーの下限値は、繰り返し再生耐久性の確保の観点から、好ましくは２６ｍＷ以上、より好ましくは３０ｍＷ以上である。情報信号層Ｌ０の最適記録パワーの上限値は、既存の民生用ドライブにおける記録Ｐｗの上限値の観点から、好ましくは３８．０ｍＷ以下である。
［２．２ 光記録媒体の製造方法］
本開示の第２の実施形態に係る光記録媒体１Ａの製造方法は、上述の第１の実施形態における“第１のディスクの作製工程”と同様である。
［２．３ 効果］
上述の第２の実施形態に係る光記録媒体１Ａでは、第１の実施形態に係る光記録媒体１と同様に、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる。
［実施例］
以下、実施例により本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
［実施例１～１２、比較例３、４］
まず、射出成形により、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板を成形した。なお、このポリカーボネート基板の一主面を、ランドおよびグルーブからなる凹凸面とした。また、ランド－グルーブ間のトラックピッチＴｐを０．２２５μｍとした。次に、スパッタリング法により、ポリカーボネート基板の凹凸面上に第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層を順次積層することにより、Ｌ０層を成膜した。
以下に、具体的なＬ０層の構成を示す。
第２の誘電体層（スペーサ層側）
材料：ＳＩＺ
厚さ：１０ｎｍ
記録層
材料：表１に示す金属ＭＡ、ＭＢ、ＭＣ、ＭＤおよびＭＥを含む酸化物（金属ＭＡの酸化物、金属ＭＢの酸化物、金属ＭＣの酸化物、金属ＭＤの酸化物および金属ＭＥの酸化物）
厚さ：３６ｎｍ
第１の誘電体層（基板側）
材料：ＳＩＺ
厚さ：１４ｎｍ
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂をＬ０層上に均一に塗布し、Ｌ０層上に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離した。これにより、ランドおよびグルーブからなる凹凸面を有する、厚さ２５μｍのスペーサ層が形成された。なお、ランド－グルーブ間のトラックピッチＴｐを０．２２５μｍとした。
次に、スパッタリング法により、上記のスペーサ層の凹凸面上に第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層を順次積層することにより、透過率８１％を有するＬ１層を成膜した。
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂をＬ１層上に均一に塗布し、Ｌ１層上に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離した。これにより、ランドおよびグルーブからなる凹凸面を有する、厚さ１８μｍのスペーサ層が形成された。なお、ランド－グルーブ間のトラックピッチＴｐを０．２２５μｍとした。
次に、スパッタリング法により、上記のスペーサ層の凹凸面上に第１の誘電体層、記録層、第２の誘電体層を順次積層することにより、透過率８５％を有するＬ２層を成膜した。
次に、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂をＬ２層上に均一塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることにより、厚さ５７μｍを有する光透過層を形成した。以上により、目的とするランド／グルーブ記録方式の３層の光記録媒体を得た。
［比較例１、２］
表１に示す金属ＭＡ、ＭＢ、ＭＣおよびＭＤを含む酸化物（金属ＭＡの酸化物、金属ＭＢの酸化物、金属ＭＣの酸化物、金属ＭＤの酸化物および金属ＭＥの酸化物）からなるＬ０層の記録層を形成したこと以外は実施例１と同様にして光記録媒体を得た。
（反射率の評価）
まず、上述のようにして得られた光記録媒体のＬ０層の反射率Ｒを、ＡＤ標準評価機を用いてグルーブの未記録部で測定した。次に、測定した反射率を以下の基準で評価した。その結果を表１、２に示す。
反射率が非常に良好：反射率が３．５％以上４．５％以下である。
反射率が良好：反射率が３．０％以上３．５％未満である。
反射率が不良：反射率が３．０％未満である。
なお、表１、２において記号“◎”、“○”、“×”はそれぞれ、評価結果として“反射率が非常に良好”、“反射率が良好”、“反射率が不良”を意味する。
また、上述のように、反射率が３．５％以上４．５％以下の範囲内であり、反射率が非常に良好であると、非常に良好な記録信号を得ることができる。反射率が３．０％以上３．５％未満であり、反射率が良好であると、良好な記録信号を得ることができる。反射率が３．０％未満であり、反射率が不良であると、良好な記録信号を得ることが困難となる。
（再生耐久性の評価（１））
まず、上述のようにして得られた光記録媒体のＬ０層に対し、ＡＤ標準評価機を用いて１０トラックのグルーブに信号を記録したのち、それらのグルーブにそれぞれ隣接する１０トラックのランドに信号を記録した。次に、グルーブに記録された信号を再生し、i－ＭＬＳＥ（再生特性）を求め、i－ＭＬＳＥが最小値となる記録パワー（最適記録パワー）を記録感度とした。なお、記録および再生は、ＡＤ１規格に準拠して行われた。具体的には、記録速度を４倍速、再生速度を４倍速、記録密度を３００ＧＢ相当とした。次に、求めた記録感度に基づき、以下の基準で再生耐久性を評価した。その結果を表１に示す。
再生耐久性が非常に良好：記録感度が２７ｍＷ以上である。
再生耐久性が良好：記録感度が２３ｍＷ以上２７ｍＷ未満である。
再生耐久性が不良：記録感度が２３ｍＷ未満である。
ここで、記録感度により再生耐久性を評価可能なのは、記録感度（記録パワー）と再生耐久性（熱耐久性）との間には相関関係があり、記録層を低感度化することで、再生耐久性が向上するという関係があるからである。
なお、表１において記号“◎”、“○”、“×”はそれぞれ、評価結果として“再生耐久性が非常に良好”、“再生耐久性が良好”、“再生耐久性が不良”を意味する。
（再生耐久性の評価（２））
まず、上述のようにして得られた光記録媒体のＬ０層に対し、ＢＤ標準評価機を用いて１０トラックのグルーブに信号を記録した。次に、グルーブに記録された信号を再生し、i－ＭＬＳＥ（再生特性）を求め、i－ＭＬＳＥが最小値となる記録パワー（最適記録パワー）を記録感度とした。なお、記録および再生は、ＢＤＸＬ規格に準拠して行われた。具体的には、記録速度を４倍速、再生速度を４倍速、記録密度を３２ＧＢ相当とした。次に、求めた記録感度に基づき、以下の基準で再生耐久性を評価した。その結果を表２に示す。
再生耐久性が非常に良好：記録感度が３０ｍＷ以上である。
再生耐久性が良好：記録感度が２６ｍＷ以上３０ｍＷ未満である。
再生耐久性が不良：記録感度が２６ｍＷ未満である。
なお、表２において記号“◎”、“○”、“×”はそれぞれ、評価結果として“再生耐久性が非常に良好”、“再生耐久性が良好”、“再生耐久性が不良”を意味する。
再生耐久性の評価（１）、（２）において、“再生耐久性が非常に良好”とは、具体的には１００万回再生後にもボトム特性に殆ど劣化が見られないことを意味する。“再生耐久性が良好”とは、具体的には１００万回再生後にも再生可能であることを意味する。“再生耐久性が不良”とは、具体的には１００万回再生後に再生が困難となることを意味する。
表１は、実施例１～１２、比較例１～４の光記録媒体の構成および評価結果を示す。
Figure 0007180668000001
表２は、実施例１～１２、比較例１～４の光記録媒体の構成および評価結果を示す。
Figure 0007180668000002
表１から以下のことがわかる。
ＡＤ１規格およびＢＤＸＬ規格のいずれの光記録媒体においても、金属ＭＡ、金属ＭＢおよび金属ＭＥの含有量が０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１の関係を満たし、かつ、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率が５原子％以上３０原子％以下であると、良好な再生耐久性を保持しつつ、反射率を向上することができる。
また、高反射率および低感度化の観点からすると、ＡＤ１規格およびＢＤＸＬ規格のいずれの光記録媒体においても、金属ＭＡ、金属ＭＢ、金属ＭＣ、金属ＭＤおよび金属ＭＥの合計に対する金属ＭＥの原子比率を２０原子％以上３０原子％以下とすること好ましい。
［変形例］
以上、本開示の第１、第２の実施形態について具体的に説明したが、本開示は、上述の第１、第２の実施形態に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、上述の第１、第２の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。
また、第１、第２の実施形態において、情報信号層Ｌ０以外の情報信号層Ｌ１～Ｌｎの記録層４１は、情報信号層Ｌ０の記録層４１と同様の組成を有していてもよい。
また、第１、第２の実施形態において、情報信号層Ｌ１～Ｌｎの記録層４１は、Ｍｎ酸化物を含む公知の記録層であってもよいし、Ｐｄ酸化物を含む公知の記録層であってもよい。但し、光記録媒体１、１Ａの低コスト化のためには、記録層４１が、貴金属であるＰｄを含まないことが好ましい。
また、上述の第１、第２の実施形態では、情報信号層Ｌが、記録層４１と、記録層４１の上面に隣接して設けられた誘電体層４２と、記録層４１の下面に隣接して設けられた誘電体層４３とを備える構成について説明したが、情報信号層Ｌの構成はこれに限定されるものではない。例えば、記録層４１の上面および下面のいずれか一方にのみ誘電体層を設けるようにしてもよい。また、情報信号層Ｌを記録層４１単層のみから構成するようにしてもよい。このような単純な構成とすることで、光記録媒体１、１Ａを低廉化し、かつ、その生産性を向上することができる。この効果は、情報信号層Ｌの層数が多い媒体ほど、顕著となる。
また、上述の第１、第２の実施形態では、スパッタリング法により光記録媒体１、１Ａの各層を形成する場合を例として説明したが、成膜方法はこれに限定されるものではなく、他の成膜方法を用いてもよい。他の成膜方法としては、例えば、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤ等のＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition（化学蒸着法）：化学反応を利用して気相から薄膜を析出させる技術）のほか、真空蒸着、プラズマ援用蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等のＰＶＤ法（Physical Vapor Deposition（物理蒸着法）：真空中で物理的に気化させた材料を基板上に凝集させ、薄膜を形成する技術）等を用いることができる。
また、上述の第１、第２の実施形態では、多層の情報信号層Ｌがすべて、同一の層構成（３層構成）を有する場合について説明したが、情報信号層Ｌごとに求められる特性（例えば光学特性や耐久性等）に応じて層構成を変えるようにしてもよい。但し、生産性の観点からすると、全ての情報信号層Ｌを同一の層構成とすることが好ましい。
また、本開示を適用可能な光記録媒体は、第１、第２の実施形態における構成を有するものに限定されるわけではない。例えば、基板上に複数層の情報信号層、保護層がこの順序で積層された構成を有し、基板側からレーザー光を複数層の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光記録媒体（例えばＣＤ（Compact Disc））、または２枚の基板の間に複数層の情報信号層が設けられた構成を有し、少なくとも一方の基板の側からレーザー光を複数層の情報信号層に照射することにより情報信号の記録または再生が行われる光記録媒体（例えばＤＶＤ（Digital Versatile Disc））に対しても本開示は適用可能である。
また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含む記録層を備え、
前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体。
（２）
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、２０原子％以上３０原子％以下である（１）に記載の光記録媒体。
（３）
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．４３≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１である（１）または（２）に記載の光記録媒体。
（４）
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率は、例えば１１原子％以上２２原子％以下であり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率は、例えば７原子％以上２６原子％以下であり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＣの原子比率は、例えば２２原子％以上２５原子％以下であり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＤの原子比率は、例えば２２原子％以上３３原子％以下である（１）から（３）のいずれかに記載の光記録媒体。
（５）
前記記録層は、光照射面から最も奥側に位置している（１）から（４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（６）
前記記録層の第１の面側に設けられた第１の誘電体層と、
前記記録層の第２の面側に設けられた第２の誘電体層と
をさらに備える（１）から（５）のいずれかに記載の光記録媒体。
（７）
第１のディスクと、
第２のディスクと
を備え、
前記第１のディスクおよび前記第２のディスクは、
第１の面と第２の面とを有する基板と、
前記第１の面側に設けられた２層以上の情報信号層と、
２層以上の前記情報信号層を覆うカバー層と
を備え、
前記第１のディスクが備える前記基板の前記第２の面と、前記第２のディスクが備える前記基板の前記第２の面とが貼り合わされており、
２層以上の前記情報信号層のうち、光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層は、前記記録層を備える（１）から（６）のいずれかに記載の光記録媒体。
（８）
前記第１の面側に設けられた前記情報信号層の層数が３層であり、
前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の反射率は、３．０％以上４．５％以下であり、
前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の最適記録パワーは、２３ｍＷ以上である（７）に記載の光記録媒体。
（９）
前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の反射率は、３．５％以上４．５％以下であり、
前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の最適記録パワーは、２７ｍＷ以上である（８）に記載の光記録媒体。
（１０）
金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含み、
前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体用録媒層。
１、１Ａ 光記録媒体
１０ 第１のディスク
２０ 第２のディスク
３０ 貼合層
１１、１１Ａ、２１ 基板
１２、２２ 光透過層
４１ 記録層
４２、４３ 誘電体層
Ｌ０～Ｌｎ、Ｌ０～Ｌｍ 情報信号層
Ｓ１～Ｓｎ、Ｓ１～Ｓｍ スペーサ層
Ｃ 光照射面
Ｃ１ 第１の光照射面
Ｃ２ 第２の光照射面
Ｇｖ グルーブ
Ｌｄ ランド
Ｔｐ ピッチ

Claims (10)

  1. 金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含む記録層を備え、
    前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
    前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体。
  2. 前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、２０原子％以上３０原子％以下である請求項１に記載の光記録媒体。
  3. 前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．４３≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１である請求項１に記載の光記録媒体。
  4. 前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率は、例えば１１原子％以上２２原子％以下であり、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率は、例えば７原子％以上２６原子％以下であり、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＣの原子比率は、例えば２２原子％以上２５原子％以下であり、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＤの原子比率は、例えば２２原子％以上３３原子％以下である請求項１に記載の光記録媒体。
  5. 前記記録層は、光照射面から最も奥側に位置している請求項１に記載の光記録媒体。
  6. 前記記録層の第１の面側に設けられた第１の誘電体層と、
    前記記録層の第２の面側に設けられた第２の誘電体層と
    をさらに備える請求項１に記載の光記録媒体。
  7. 第１のディスクと、
    第２のディスクと
    を備え、
    前記第１のディスクおよび前記第２のディスクは、
    第１の面と第２の面とを有する基板と、
    前記第１の面側に設けられた２層以上の情報信号層と、
    ２層以上の前記情報信号層を覆うカバー層と
    を備え、
    前記第１のディスクが備える前記基板の前記第２の面と、前記第２のディスクが備える前記基板の前記第２の面とが貼り合わされており、
    ２層以上の前記情報信号層のうち、光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層は、前記記録層を備える請求項１に記載の光記録媒体。
  8. 前記第１の面側に設けられた前記情報信号層の層数が３層であり、
    前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の反射率は、３．０％以上４．５％以下であり、
    前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の最適記録パワーは、２３ｍＷ以上である請求項７に記載の光記録媒体。
  9. 前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の反射率は、３．５％以上４．５％以下であり、
    前記光照射面から最も奥側に位置している前記情報信号層の最適記録パワーは、２７ｍＷ以上である請求項８に記載の光記録媒体。
  10. 金属ＭＡの酸化物と、金属ＭＢの酸化物と、金属ＭＣの酸化物と、金属ＭＤの酸化物と、金属ＭＥの酸化物とを含み、
    前記金属ＭＡは、ＭｎおよびＮｉからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＢは、Ｗ、Ｍｏ、ＺｒおよびＴａからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＣは、Ｚｎであり、
    前記金属ＭＤは、ＣｕおよびＡｇからなる群より選ばれる少なくとも１種であり、
    前記金属ＭＥは、Ｎｂであり、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢおよび前記金属ＭＥの含有量が、０．３０≦ａ／（ｂ＋ｅ）≦０．７１（但し、ａ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＡの原子比率［原子％］、ｂ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＢの原子比率［原子％］、ｅ：前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率［原子％］）の関係を満たし、
    前記金属ＭＡ、前記金属ＭＢ、前記金属ＭＣ、前記金属ＭＤおよび前記金属ＭＥの合計に対する前記金属ＭＥの原子比率が、５原子％以上３０原子％以下である光記録媒体用録媒層。
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