JP7172375B2 - 半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
図1は、実施の形態1に係る半導体デバイスの断面図である。この半導体デバイスのパッケージは、例えば、フレーム10とキャップ12を封止材13で接着したものである。封止材13として例えばはんだを用いることができる。このようなパッケージには、クラック等が原因で、リークパス14が生じる場合がある。パッケージの中には、半導体チップ15が格納されている。
図10は、実施の形態2に係る半導体デバイスの平面図である。多孔質部分15Fは、平面視で半導体素子15Bの周りに複数形成されている。この例では、4つの多孔質部分15Fが半導体素子15Bの周りに設けられている。図11は、多孔質部分15Fの別の構成例を示す図である。この例では、多孔質部分15Fは、平面視で半導体素子15Bの横に1つ形成されている。このように多孔質部分15Fは半導体基板15Aの任意の場所に設けることができる。多孔質部分を複数設けたり、島状の1つの多孔質部としたりすることは、設計自由度を向上させる。
図12は、実施の形態3に係る半導体デバイスの断面図である。多孔質部分50の熱伝導率は、ソース電極15C、ゲート電極15D及びドレイン電極15Eの熱伝導率より大きい。例えば、電極の材料をAu又はAlとした場合であれば、多孔質部分50の材料はAg又はCuとすることができる。
図13は、実施の形態4に係る半導体デバイスの断面図である。半導体基板15Aに10nm以下の間隔で設けられた複数の凸部60がある。この複数の凸部60は半導体基板15Aの上に形成された酸化膜又は窒化膜とすることができる。酸化膜の例はSiOであり、窒化膜の例はSiNである。複数の凸部60と、半導体基板15Aの上面15aによって、凹凸構造62が提供されている。複数の凸部60の距離x4を10nm以下とすることで、凹凸構造62に水蒸気が結露しやすくなる。図13の凹凸構造62は、例えば酸化膜又は窒化膜を形成した後に、これをフッ素系ガスのドライエッチングによってパターニングすることで得ることができる。
Claims (7)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に形成された半導体素子と、
前記半導体基板に固定された、10nm以下の孔径の孔を複数有する多孔質部分と、
前記半導体基板を覆うパッケージと
を備え、
前記半導体素子は前記半導体基板の上に電極を有し、
前記多孔質部分の熱伝導率は前記電極の熱伝導率より大きいことを特徴とする半導体デバイス。 - 前記多孔質部分は、平面視で前記半導体素子を囲むことを特徴とする請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記多孔質部分は、平面視で前記半導体素子の周りに複数形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記多孔質部分は、平面視で前記半導体素子の横に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体デバイス。
- 前記多孔質部分の材料はAu又はAlであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 前記電極の材料はAu又はAlであり、前記多孔質部分の材料はAg又はCuであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
- 前記半導体素子は前記半導体基板の上に複数の電極を有し、
前記複数の電極は、50nm以上離れて設けられたことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の半導体デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018182649A JP7172375B2 (ja) | 2018-09-27 | 2018-09-27 | 半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法 |
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Publications (2)
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JP2018182649A Active JP7172375B2 (ja) | 2018-09-27 | 2018-09-27 | 半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法 |
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JP (1) | JP7172375B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284477A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Kyocera Corp | 半導体装置 |
JP2006501679A (ja) | 2002-09-30 | 2006-01-12 | モトローラ・インコーポレイテッド | 真空を維持する単結晶シリコンゲッターを有する気密封止マイクロデバイス |
JP2013207646A (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Daishinku Corp | 圧電振動デバイスおよび圧電振動デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54161273A (en) * | 1978-06-09 | 1979-12-20 | Nec Corp | Semiconductor device |
-
2018
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2001284477A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Kyocera Corp | 半導体装置 |
JP2006501679A (ja) | 2002-09-30 | 2006-01-12 | モトローラ・インコーポレイテッド | 真空を維持する単結晶シリコンゲッターを有する気密封止マイクロデバイス |
JP2013207646A (ja) | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Daishinku Corp | 圧電振動デバイスおよび圧電振動デバイスの製造方法 |
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JP2020053595A (ja) | 2020-04-02 |
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