JP7171165B2 - 膜プロフィール調整のためのシャワーヘッドカーテンガス方法及びシャワーヘッドガスカーテンシステム - Google Patents
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Description
半導体基板上に膜を堆積させるための動作は、通常は、図1に示されるような基板処理装置の中で実行されてよい。以下で更に詳しく説明される図1の装置100は、真空ポンプ118によって真空下に維持されえる内部空間内に1つの基板ホルダ108を伴う1つの処理チャンバ102を有する。チャンバには、(例えば)膜前駆体、キャリアガス及び/又はパージガス及び/又はプロセスガス、二次反応物等の配送のために、ガス配送システム101及びシャワーヘッド106も流体連通式に結合されている。図1には、処理チャンバ内でプラズマを生成するための装備も示されており、以下で更に詳しく説明される。いずれにせよ、以下で詳しく説明されるように、図1で図解される装置は、半導体基板に対してALDなどの膜堆積動作を実行するための基本装備を提供する。
複数のプロセスステーションを伴う大型の処理チャンバの使用によって、上記の利点が得られるだろう一方で、小型の単一ステーション型処理チャンバの利用にも、特定の強みがあるのが一般的である。その1つが、チャンバ空間の迅速な循環であり、反応物や副生成物等を迅速に導入する及び除去することが可能である。これは、十分な厚さの膜を堆積させるために多数の堆積サイクルが必要とされそれゆえにチャンバ空間の循環に費やされる時間が極めて長くなりえるALDプロセスにおいて、とりわけ重要だろう。
基板のエッジの近くにおける1枚又は複数枚の堆積材料層の不均一性は、半導体処理に根強く残る問題である。不均一性の尺度の1つは、「半区間不均一性」と呼ばれ、また、NU%(R/2)とも呼ばれ、1/2×(最大厚さ-最小厚さ)/平均厚さ×100%として定義される。このような不均一性の尺度は、基板上に堆積された材料の厚さを基板の真中心から基板のエッジにかけて半径方向に検査したものであり、本書では、「半径方向厚さ」と呼ばれる。したがって、本書で使用される「半径方向厚さの不均一性」という用語は、基板上に堆積された材料の、基板の真中心から基板のエッジにかけての半径方向における厚さの不均一性を言う。
本書で説明される方法及び技術は、本書に組み込まれた上記特許出願のうちの、名称を「COMPOSITION-MATCHED CURTAIN GAS MIXTURES FOR EDGE UNIFORMITY MODULATION IN LARGE-VOLUME ALD REACTORS(大容積ALDリアクタにおけるエッジ均一性調整のための、組成を整合されたカーテンガス混合)」並びに「METHODS AND APPARATUSES FOR SHOWERHEAD BACKSIDE PARASITIC PLASMA SUPPRESSION IN A SECONDARY PURGE ENABLED ALD SYSTEM(二次パージを可能にされたALDシステムにおいてシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置)」とする少なくとも2つの特許出願で説明されたものなどの、マルチステーション型半導体処理ツール(例えば、任意の適切な半導体基板処理装置)の中で膜堆積を実行するための任意の適切なシステムによって実行されてよい。1つ以上のマルチステーション型半導体処理ツールの中で膜堆積を実行するためのシステムは、プロセス動作を実現するためのハードウェアと、本書で開示される処理技術にしたがってプロセス動作を制御するための機械読み取り可能命令を有する(又はそのような命令へのアクセスを有する)システムコントローラとを含む。
図2は、プロセスツール200のプロセス条件及びハードウェア状態を制御するために利用されるシステムコントローラ250を含むシステムの一実施形態も示している。システムコントローラ250は、1つ以上のメモリデバイス256と、1つ以上の大容量ストレージデバイス254と、1つ以上のプロセッサ252とを含んでいてよい。プロセッサ252は、CPU、ASIC、(1つ若しくは複数の)汎用コンピュータ及び/又は(1つ若しくは複数の)専用コンピュータ、1つ以上のアナログ及び/又はデジタル入力/出力接続、1つ以上のステッピングモータ制御盤等を含んでいてよい。
本書で論じられるシステムは、上述のようにカーテンガスを使用して基板の不均一性を制御するための技術を実現するために使用されてよい。一部のこのような実施形態では、マルチステーション型半導体処理ツールの中で膜堆積を実行するためのシステムが、図1のガス配送システム101などの、本書で説明されるシステムのうちの1つ以上の態様を含んでいてよい。システムは、また、図1のチャンバ102又は図2の処理チャンバ214などの、少なくとも2つのステーションを含む処理チャンバも含んでいてよい。処理チャンバは、ガス配送システムを共有してよく、各ステーションの縁の周囲にカーテンガスを流すように構成されてよい。このような構成の一例が、本書で、並びに名称を「COMPOSITION-MATCHED CURTAIN GAS MIXTURES FOR EDGE UNIFORMITY MODULATION IN LARGE-VOLUME ALD REACTORS(大容積ALDリアクタにおけるエッジ均一性調整のための、組成を整合されたカーテンガス混合物)」並びに「METHODS AND APPARATUSES FOR SHOWERHEAD BACKSIDE PARASITIC PLASMA SUPPRESSION IN A SECONDARY PURGE ENABLED ALD SYSTEM(二次パージを可能にされたALDシステムにおいてシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置)」とする上記の組み込まれた特許出願で、説明されている。
上述されたように、デバイスの小型化が進むにつれて、並びにICが3Dトランジスタ及びその他の3D構造の利用に移行するにつれて、正確な量(厚さ)の共形膜材料を堆積させる能力が、ますます重要性を増している。共形膜材料としては、特に誘電体が挙げられるが、様々なドーパント含有材料も可能である。原子層堆積は、共形膜の堆積を実現するための技術の1つであり、通常は、所望の厚さの膜を実現するために、複数の堆積サイクルを伴う。
ALDプロセスにおいて、膜前駆体は、一般的に、反応チャンバ内に存在するのと次いで排出されるのとを交互に繰り返される必要がある。寄生堆積を防ぐために、処理チャンバ内の余分な前駆体は、次の前駆体の導入前に処理チャンバ及び(シャワーヘッドの柄内などの)共通の前駆体通路から除去される。余分な前駆体の除去は、通例、供給通路及びチャンバを不活性ガスでパージすることによってなされる。しかしながら、シャンデリア型シャワーヘッドを使用するときは、シャワーヘッドの頭の底面からチャンバに流されたパージガス(プラズマフィードガスと同じであってよい)は、例えば柄の周囲でシャワーヘッドの後方に及び/又は背後に存在する余分な前駆体を効果的に除去できないだろう。したがって、シャワーヘッドの背後、上板上、及び/又は処理チャンバの壁上に、大量の寄生堆積が生じる恐れがある。シャワーヘッドの後方及び/又は背後のデッドスペースを固体の誘電体で満たすことは、大地へのRF結合を引き起こすことが多い/可能性が高いゆえに、不可能である及び/又は望ましくないのが一般的である。したがって、プロセスステーション間に流されて、それによってプロセスステーション間に或る程度の容量的分離を提供することを主目的とするカーテンガスの流れが、上記の容量的分離を提供することに加えて、シャワーヘッドの背後における寄生堆積を防ぐ働きもしえるように、カーテンガスが、シャワーヘッドの背後で処理チャンバに導入されてよい。このようなカーテンガスの放出を実現するためのハードウェアが、以下で詳しく説明される。
Claims (56)
- マルチステーション型半導体処理チャンバの中で膜を堆積させる方法であって、
(a)前記チャンバの中で膜堆積を実行するための、前記チャンバの中の各ステーションの縁の周囲に流れるカーテンガスのフロー条件を含むプロセス条件を決定し、
(b)(a)で決定された前記プロセス条件にしたがって、膜堆積の最中に、前記チャンバの中の各ステーションに前記カーテンガスを流し、
(c)(b)の最中又は後に、基板の不均一性を決定し、
(d)前記基板の不均一性に基づいて、前記基板の不均一性を改善するために前記チャンバの中の前記カーテンガスの調節後フロー条件を決定し、
(e)(d)の後に、(d)で決定された前記調節後フロー条件にしたがって、膜堆積の最中に、前記カーテンガスを流す、
ことを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの流量であり、前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後流量である、方法。 - 請求項2に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、(e)の最中に、実質的に一定の流量で流される、方法。 - 請求項2に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、(e)の最中に、可変流量で流される、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの分圧であり、前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後分圧である、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記プロセス条件は、前記チャンバの圧力を含み、前記チャンバの中の前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記チャンバの調節後圧力によって引き起こされる、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記プロセス条件は、前記チャンバの排気率を含み、前記チャンバの中の前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記チャンバの調節後排気率によって引き起こされる、方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの流量及び前記カーテンガスの分圧であり、
前記プロセス条件は、前記チャンバの圧力及び前記チャンバの排気率を含み、
前記チャンバの中の前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記チャンバの調節後圧力によって引き起こされた、及び前記チャンバの調節後排気率によって引き起こされた、前記カーテンガスの調節後流量、及び前記カーテンガスの調節後分圧のうちの、1つ以上である、方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法であって、
(e)は、前記膜堆積の一段階の最中に実行される、方法。 - 請求項9に記載の方法であって、
前記(e)は、前記膜堆積の、各ステーションの中の基板を材料の前駆体に暴露する段階、前記前駆体の少なくとも一部を前記チャンバから除去する段階、各基板上における前記前駆体の反応を活性化する段階、及び前記反応の後に、前記チャンバの中の前記ガスの少なくとも一部を除去する段階のうちの、少なくとも1つの段階の最中に実行される、方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法であって、
(e)は、前記膜堆積の全段階の最中に実行される、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
(e)は、前記膜堆積の、各ステーションの中の基板を材料の前駆体に暴露する段階、前記前駆体の少なくとも一部を前記チャンバから除去する段階、各基板上における前記前駆体の反応を活性化する段階、及び前記反応の後に、前記チャンバの中の前記ガスの少なくとも一部を除去する段階の、全ての段階の最中に実行される、方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、純粋な分子酸素を含む、方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法であって、
(d)で決定された前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、(a)で流された前記カーテンガスの流れと比べて調節された酸素濃度を前記カーテンガス中に含む、方法。 - 請求項14に記載の方法であって、
(d)で決定された前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、純粋な分子酸素を含む、方法。 - 請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、酸素と、アルゴン及び窒素からなる群より選択される第2の成分との混合を含む、方法。 - マルチステーション型半導体処理チャンバの中で膜堆積を実行するためのシステムであって、
ガス配送システムと、
少なくとも2つのステーションを含む処理チャンバと、
各ステーションは、前記ガス配送システムを共有し、
前記処理チャンバは、各ステーションの縁の周囲にカーテンガスを流すように構成され、
別々のステーションの中で処理される少なくとも2枚の基板上に材料を堆積させるように前記システムを制御するためのコントローラであって、
(a)前記チャンバの中で膜堆積を実行するための、前記チャンバの中の各ステーションの縁の周囲に流れるカーテンガスのフロー条件を含むプロセス条件にしたがって、膜堆積の最中に、前記チャンバの中の各ステーションに前記カーテンガスを流すための制御ロジックと、
(b)(a)の最中又は後に、基板の不均一性を決定するための制御ロジックと、
(c)前記基板の不均一性に基づいて、基板の不均一性を改善するために前記チャンバの中の前記カーテンガスの調節後フロー条件を決定するための制御ロジックと、
(d)(c)の後に、(c)で決定された前記調節後フロー条件にしたがって、膜堆積の最中に、前記カーテンガスを流すための制御ロジックと、
を含むコントローラと、
を備えるシステム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの流量であり、前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後流量である、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの分圧であり、前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後分圧である、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記プロセス条件は、前記チャンバの圧力を含み、前記チャンバの中の前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記チャンバの調節後圧力によって引き起こされる、システム。 - 請求項17に記載のシステムであって、
前記プロセス条件は、前記チャンバの排気率を含み、前記チャンバの中の前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記チャンバの調節後排気率によって引き起こされる、システム。 - 請求項17ないし21のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記コントローラは、更に、
(e)各ステーションの中の基板を材料の前駆体に暴露するための制御ロジックと、
(f)前記前駆体の少なくとも一部を前記チャンバから除去するための制御ロジックと、
(g)各基板上における前記前駆体の反応を活性化するための制御ロジックと、
(h)前記反応の後に、前記チャンバの中の前記ガスの少なくとも一部を除去するための制御ロジックと、
を含み、(d)は、(e)から(h)までのうちの1つ以上の最中に実行される、システム。 - 請求項17ないし21のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記コントローラは、更に、(i)前記チャンバの中で膜堆積を実行するための、前記カーテンガスの前記フロー条件を含むプロセス条件を決定するための制御ロジックを含む、システム。 - 請求項17ないし21のいずれか一項に記載のシステムであって、更に、
前記処理チャンバの中の基板ホルダと、
前記処理チャンバ内へガスを流すためのシャワーヘッドと、
を備え、
前記処理チャンバは、更に、処理チャンバボディ、前記基板ホルダ、及び前記シャワーヘッドからなる群より選択されるコンポーネントから前記カーテンガスを流すように構成される、システム。 - マルチステーション型半導体処理チャンバにおいて膜を堆積させる方法であって、
(a)前記処理チャンバの中の各ステーションの外縁の周囲に流れるカーテンガスのフロー条件を含む、前記処理チャンバの中で膜堆積を実行するためのプロセス条件を決定し、
(b)(a)において決定された前記プロセス条件にしたがって、循環式堆積プロセスの1つ以上の堆積サイクルからなる第1の一連の堆積サイクルの最中に、前記処理チャンバの中の各ステーションに前記カーテンガスを流し、
(c)前記カーテンガスの前記フロー条件を、基板の不均一性を改善する調節後フロー条件に調節し、
(d)(c)の後に、(c)の前記調節後フロー条件にしたがって、前記堆積プロセスの1つ以上の堆積サイクルからなる第2の一連の堆積サイクルの最中に、前記カーテンガスを流して基板の不均一性を改善し、
前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後組成を含む、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの流量及び前記カーテンガスの組成であり、
前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後流量及び前記カーテンガスの調節後組成である、方法。 - 請求項26に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記フロー条件を前記調節後フロー条件に調整することは、前記カーテンガスに1つ以上の成分を加えること、又は、前記カーテンガスから1つ以上の成分を減らすことを含む、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
前記循環式堆積プロセスは、原子層堆積プロセスである、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
(b)は、(d)の前に実行される、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
(b)は、(d)の後に実行される、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、分子酸素を含む、方法。 - 請求項31に記載の方法であって、
前記カーテンガスの前記調節後組成は、前記カーテンガス中に調節された酸素濃度を含む、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
前記マルチステーション型半導体処理チャンバは、シャンデリア型シャワーヘッドと、前記シャンデリア型シャワーヘッドの柄の周囲のシャワーヘッド環と、を含み、
前記カーテンガスは、前記シャワーヘッド環を通って前記処理チャンバに流れる、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
前記カーテンガスは、酸素と、アルゴン及び窒素からなる群より選択される第2の成分との混合ガスを含み、
前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後組成を含む、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
(b)の前記カーテンガスは、単一のガス成分であり、
前記カーテンガスの前記調節後組成は、前記単一のガス成分を含む、方法。 - 請求項35に記載の方法であって、
前記単一のガス成分は、酸素であり
前記カーテンガスの前記調節後組成は、更に、アルゴン及び窒素のうちの1つ以上を含む、方法。 - 請求項35に記載の方法であって、
前記単一のガス成分は、酸素、アルゴン、及び窒素からなる群より選択される、方法。 - 請求項25に記載の方法であって、
(a)の前記カーテンガスは、単一のガス成分を含むガス混合であり、
(d)の前記カーテンガスは、前記単一のガス成分である、方法。 - 請求項38に記載の方法であって、
前記単一のガス成分は、酸素、アルゴン、及び窒素からなる群より選択される、方法。 - 請求項38に記載の方法であって、
前記単一のガス成分は、酸素であり、
(a)の前記カーテンガスは、酸素と、アルゴン及び窒素のうちの1つ以上とを含む、方法。 - マルチステーション型半導体処理ツールの中で膜堆積を実行するためのシステムであって、
ガス配送システムと、
少なくとも2つのステーションを含む処理チャンバと、
各ステーションは、前記ガス配送システムを共有し、
前記処理チャンバは、各ステーションの外縁の周囲にカーテンガスを流すように構成され、
別々のステーションの中で処理される少なくとも2枚の基板上に材料を堆積させるように前記システムを制御するためのコントローラであって、
(a)前記処理チャンバの中の各ステーションの外縁の周囲に流れるカーテンガスのフロー条件を含む、前記処理チャンバの中で膜堆積を実行するためのプロセス条件にしたがって、循環式堆積プロセスの1つ以上の堆積サイクルからなる第1の一連の堆積サイクルの最中に、前記処理チャンバの中の各ステーションに前記カーテンガスを流すための制御ロジックと、
(b)前記カーテンガスの前記フロー条件を、基板の不均一性を改善する調節後フロー条件に調節するための制御ロジックであって、前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後組成を含む、制御ロジックと、
(c)(b)の後に、(b)の前記調節後フロー条件にしたがって、前記循環式堆積プロセスの1つ以上の堆積サイクルからなる第2の一連の堆積サイクルの最中に、前記カーテンガスを流して基板の不均一性を改善するための制御ロジックと、
を含むコントローラと、
を備えるシステム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記カーテンガスの前記フロー条件は、前記カーテンガスの流量及び前記カーテンガスの組成であり、
前記カーテンガスの前記調節後フロー条件は、前記カーテンガスの調節後流量及び前記カーテンガスの調節後組成である、システム。 - 請求項42に記載のシステムであって、
前記カーテンガスの前記フロー条件を前記調節後フロー条件に調節するための前記制御ロジックは、前記カーテンガスに1つ以上の成分を加えるための制御ロジック、又は、前記カーテンガスから1つ以上の成分を減らすための制御ロジックを含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記コントローラは、更に、前記循環式堆積プロセスの最中に、(a)、(b)、及び(c)を繰り返すための制御ロジックを含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記循環式堆積プロセスは、原子層堆積プロセスである、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記コントローラは、更に、
(c)の前に(a)を実行するための制御ロジックと、
(c)の後に(a)を実行するための制御ロジックと、
を含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記カーテンガスは、分子酸素を含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記カーテンガスの前記調節後組成は、前記カーテンガス中に調節後酸素濃度を含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、更に、
前記処理チャンバにガスを流すためのシャンデリア型シャワーヘッドと、
前記シャンデリア型シャワーヘッドの柄の周囲のシャワーヘッド環と、を含み、
前記カーテンガスは、前記シャワーヘッド環を通って前記処理チャンバに流れる、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
前記コントローラは、更に、
(d)前記カーテンガスの第2のフロー条件を、基板の不均一性を改善する第2の調節後フロー条件に調節するための制御ロジックと、
(e)(d)の後に、(d)の前記第2の調節後フロー条件にしたがって、前記循環式堆積プロセスの1つ以上の堆積サイクルからなる第3の一連の堆積サイクルの最中に、前記カーテンガスを流して基板の不均一性を改善するための制御ロジックと、
を含む、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
(a)の前記カーテンガスは、単一のガス成分であり、
前記カーテンガスの前記調節後組成は、前記単一のガス成分を含む、システム。 - 請求項51に記載のシステムであって、
前記単一のガス成分は、酸素であり、
前記カーテンガスの前記調節後組成は、更に、アルゴン及び窒素のうちの1つ以上を含む、システム。 - 請求項52に記載のシステムであって、
前記単一のガス成分は、酸素、アルゴン、及び窒素からなる群より選択される、システム。 - 請求項41に記載のシステムであって、
(a)の前記カーテンガスは、単一のガス成分を含むガス混合であり、
(c)の前記カーテンガスは、前記単一のガス成分である、システム。 - 請求項54に記載のシステムであって、
前記単一のガス成分は、酸素、アルゴン、及び窒素からなる群より選択される、システム。 - 請求項54に記載のシステムであって、
前記単一のガス成分は、酸素であり、
(a)の前記カーテンガスは、酸素と、アルゴン及び窒素のうちの1つ以上を含む、システム。
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Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9388494B2 (en) | 2012-06-25 | 2016-07-12 | Novellus Systems, Inc. | Suppression of parasitic deposition in a substrate processing system by suppressing precursor flow and plasma outside of substrate region |
US9617638B2 (en) * | 2014-07-30 | 2017-04-11 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for showerhead backside parasitic plasma suppression in a secondary purge enabled ALD system |
US9793096B2 (en) * | 2014-09-12 | 2017-10-17 | Lam Research Corporation | Systems and methods for suppressing parasitic plasma and reducing within-wafer non-uniformity |
US9738977B1 (en) | 2016-06-17 | 2017-08-22 | Lam Research Corporation | Showerhead curtain gas method and system for film profile modulation |
US10927459B2 (en) | 2017-10-16 | 2021-02-23 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for atomic layer deposition |
KR102560283B1 (ko) * | 2018-01-24 | 2023-07-26 | 삼성전자주식회사 | 샤워 헤드를 설계하고 제조하는 장치 및 방법 |
US11241720B2 (en) * | 2018-03-22 | 2022-02-08 | Tel Manufacturing And Engineering Of America, Inc. | Pressure control strategies to provide uniform treatment streams in the manufacture of microelectronic devices |
KR102501472B1 (ko) * | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
KR102424808B1 (ko) * | 2018-05-24 | 2022-07-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기상 라디칼의 제어를 위한 다중 구역 가스 분사 |
US11913113B2 (en) * | 2018-08-22 | 2024-02-27 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for modulating film uniformity |
TWI754180B (zh) * | 2018-10-29 | 2022-02-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於形成薄膜的處理腔室與方法 |
CN109390435B (zh) * | 2018-12-03 | 2024-01-26 | 乐山新天源太阳能科技有限公司 | 用于太阳能电池抗pid设备的氮气和氧气单向混合装置 |
US11302526B2 (en) * | 2019-01-14 | 2022-04-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Supercritical drying apparatus and method of drying substrate using the same |
SG11202109797SA (en) * | 2019-03-11 | 2021-10-28 | Lam Res Corp | Apparatus for cleaning plasma chambers |
CN113853450A (zh) * | 2019-04-11 | 2021-12-28 | 应用材料公司 | 在处理腔室内的等离子体致密化 |
CN118098919A (zh) * | 2019-06-07 | 2024-05-28 | 朗姆研究公司 | 多站半导体处理中的可独立调整流路传导性 |
WO2023004128A1 (en) * | 2021-07-22 | 2023-01-26 | Entegris, Inc. | Adsorbents and methods for reducing contamination in wafer container microenvironments |
US20230151489A1 (en) * | 2021-11-12 | 2023-05-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Deposition Apparatus and Method |
US20230195078A1 (en) * | 2021-12-21 | 2023-06-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and mechanisms for adjusting process chamber parameters during substrate manufacturing |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009135201A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Nuflare Technology Inc | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP2010206026A (ja) | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、成膜方法、プログラム、およびコンピュータ可読記憶媒体 |
US20120269968A1 (en) | 2011-04-21 | 2012-10-25 | Kurt J. Lesker Company | Atomic Layer Deposition Apparatus and Process |
US20160068953A1 (en) | 2014-09-10 | 2016-03-10 | Applied Materials, Inc. | Gas Separation Control in Spatial Atomic Layer Deposition |
JP2016036020A (ja) | 2014-07-30 | 2016-03-17 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 二次パージ対応aldシステムにおけるシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置 |
Family Cites Families (68)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2075455B (en) | 1980-04-30 | 1984-08-22 | Nippon Steel Corp | Apparatus and method for supporting a metal strip under a static gas pressure |
US5755886A (en) | 1986-12-19 | 1998-05-26 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for preventing deposition gases from contacting a selected region of a substrate during deposition processing |
US6002109A (en) | 1995-07-10 | 1999-12-14 | Mattson Technology, Inc. | System and method for thermal processing of a semiconductor substrate |
US5892235A (en) | 1996-05-15 | 1999-04-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus and method for doping |
US6143081A (en) | 1996-07-12 | 2000-11-07 | Tokyo Electron Limited | Film forming apparatus and method, and film modifying apparatus and method |
US6217715B1 (en) | 1997-02-06 | 2001-04-17 | Applied Materials, Inc. | Coating of vacuum chambers to reduce pump down time and base pressure |
DE19852552C2 (de) | 1998-11-13 | 2000-10-05 | Daimler Chrysler Ag | Verfahren zum Betrieb eines im Viertakt arbeitenden Verbrennungsmotors |
US6333272B1 (en) * | 2000-10-06 | 2001-12-25 | Lam Research Corporation | Gas distribution apparatus for semiconductor processing |
US20020104556A1 (en) | 2001-02-05 | 2002-08-08 | Suraj Puri | Controlled fluid flow and fluid mix system for treating objects |
US6902620B1 (en) * | 2001-12-19 | 2005-06-07 | Novellus Systems, Inc. | Atomic layer deposition systems and methods |
US6866255B2 (en) | 2002-04-12 | 2005-03-15 | Xerox Corporation | Sputtered spring films with low stress anisotropy |
US6932871B2 (en) * | 2002-04-16 | 2005-08-23 | Applied Materials, Inc. | Multi-station deposition apparatus and method |
US6890596B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-05-10 | Micron Technology, Inc. | Deposition methods |
KR100520900B1 (ko) * | 2003-03-13 | 2005-10-12 | 주식회사 아이피에스 | Ald 박막증착방법 |
KR100505367B1 (ko) * | 2003-03-27 | 2005-08-04 | 주식회사 아이피에스 | 박막증착용 반응용기 |
US7601223B2 (en) * | 2003-04-29 | 2009-10-13 | Asm International N.V. | Showerhead assembly and ALD methods |
US7699932B2 (en) | 2004-06-02 | 2010-04-20 | Micron Technology, Inc. | Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces |
WO2006088463A1 (en) * | 2005-02-17 | 2006-08-24 | Selitser Simon I | Atmospheric pressure molecular layer cvd |
KR100673979B1 (ko) | 2005-03-17 | 2007-01-24 | 안강호 | 초미립자 제조장치 및 그 방법 |
KR101218114B1 (ko) | 2005-08-04 | 2013-01-18 | 주성엔지니어링(주) | 플라즈마 식각 장치 |
KR20070098104A (ko) * | 2006-03-31 | 2007-10-05 | 삼성전자주식회사 | 가스커튼을 구비한 박막증착장치 |
US8409351B2 (en) | 2007-08-08 | 2013-04-02 | Sic Systems, Inc. | Production of bulk silicon carbide with hot-filament chemical vapor deposition |
JP2009071017A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nuflare Technology Inc | 気相成長装置及び気相成長方法 |
US20090109595A1 (en) | 2007-10-31 | 2009-04-30 | Sokudo Co., Ltd. | Method and system for performing electrostatic chuck clamping in track lithography tools |
KR101417728B1 (ko) | 2008-03-12 | 2014-07-11 | 삼성전자주식회사 | 지르코늄 유기산질화막 형성방법 및 이를 이용하는 반도체장치 및 그 제조방법 |
US20090270849A1 (en) | 2008-03-17 | 2009-10-29 | Arqos Surgical Inc. | Electrosurgical Device and Method |
JP5253933B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、基板処理装置、成膜方法及び記憶媒体 |
DE102008049494A1 (de) | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Xtreme Technologies Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Betreiben von plasmabasierten kurzwelligen Strahlungsquellen |
CN102087955B (zh) | 2009-12-04 | 2012-10-31 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 改善等离子体工艺中反应腔室内部颗粒状况的方法 |
CN102136410B (zh) | 2010-01-27 | 2013-04-10 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 用于半导体工艺腔的清洁方法 |
US9028924B2 (en) * | 2010-03-25 | 2015-05-12 | Novellus Systems, Inc. | In-situ deposition of film stacks |
US8637411B2 (en) | 2010-04-15 | 2014-01-28 | Novellus Systems, Inc. | Plasma activated conformal dielectric film deposition |
US9611544B2 (en) | 2010-04-15 | 2017-04-04 | Novellus Systems, Inc. | Plasma activated conformal dielectric film deposition |
US8956983B2 (en) | 2010-04-15 | 2015-02-17 | Novellus Systems, Inc. | Conformal doping via plasma activated atomic layer deposition and conformal film deposition |
US8728956B2 (en) | 2010-04-15 | 2014-05-20 | Novellus Systems, Inc. | Plasma activated conformal film deposition |
KR101772723B1 (ko) | 2010-06-28 | 2017-08-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 방법 |
TWI590335B (zh) | 2010-08-18 | 2017-07-01 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 膜形成設備及膜形成方法 |
CN102031498B (zh) * | 2010-12-17 | 2016-05-18 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 用于iii-v族薄膜生长反应室的基片支撑座、其反应室及工艺处理方法 |
EP2481833A1 (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-01 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Apparatus for atomic layer deposition |
NL2006962C2 (nl) * | 2011-06-17 | 2012-12-18 | Draka Comteq Bv | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm. |
TWI516739B (zh) | 2012-02-07 | 2016-01-11 | 三菱麗陽股份有限公司 | 橫式熱處理裝置 |
KR101430657B1 (ko) * | 2012-05-29 | 2014-09-23 | 주식회사 에스에프에이 | 원자층 증착장치 |
KR101832404B1 (ko) * | 2012-06-22 | 2018-02-26 | 주식회사 원익아이피에스 | 가스분사장치 및 기판처리장치 |
US9388494B2 (en) * | 2012-06-25 | 2016-07-12 | Novellus Systems, Inc. | Suppression of parasitic deposition in a substrate processing system by suppressing precursor flow and plasma outside of substrate region |
JP5953994B2 (ja) * | 2012-07-06 | 2016-07-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
US20140044889A1 (en) | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Globalfoundries Inc. | Methods of making stressed material layers and a system for forming such layers |
KR20140033911A (ko) | 2012-09-11 | 2014-03-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 증착 장치 및 증착 방법 |
TWI480417B (zh) | 2012-11-02 | 2015-04-11 | Ind Tech Res Inst | 具氣幕之氣體噴灑裝置及其薄膜沉積裝置 |
US9399228B2 (en) | 2013-02-06 | 2016-07-26 | Novellus Systems, Inc. | Method and apparatus for purging and plasma suppression in a process chamber |
TWI624560B (zh) | 2013-02-18 | 2018-05-21 | 應用材料股份有限公司 | 用於原子層沉積的氣體分配板及原子層沉積系統 |
US8940646B1 (en) | 2013-07-12 | 2015-01-27 | Lam Research Corporation | Sequential precursor dosing in an ALD multi-station/batch reactor |
US20150030766A1 (en) * | 2013-07-25 | 2015-01-29 | Novellus Systems, Inc. | Pedestal bottom clean for improved fluorine utilization and integrated symmetric foreline |
TWI769494B (zh) | 2013-08-16 | 2022-07-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 用於高溫低壓環境中的延長的電容性耦合的電漿源 |
WO2015080900A1 (en) | 2013-11-26 | 2015-06-04 | Applied Materials, Inc. | Tilted plate for batch processing and methods of use |
JP6616070B2 (ja) | 2013-12-01 | 2019-12-04 | ユージェヌス インコーポレイテッド | 誘電性複合体構造の作製方法及び装置 |
US9514933B2 (en) | 2014-01-05 | 2016-12-06 | Applied Materials, Inc. | Film deposition using spatial atomic layer deposition or pulsed chemical vapor deposition |
CN105917445B (zh) | 2014-01-13 | 2020-05-22 | 应用材料公司 | 具有空间原子层沉积的自对准式双图案化 |
KR102135740B1 (ko) | 2014-02-27 | 2020-07-20 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
US9336997B2 (en) | 2014-03-17 | 2016-05-10 | Applied Materials, Inc. | RF multi-feed structure to improve plasma uniformity |
TW201610215A (zh) | 2014-03-27 | 2016-03-16 | 應用材料股份有限公司 | 用於低熱預算處理的循環尖峰退火化學曝露 |
KR102421679B1 (ko) | 2014-04-18 | 2022-07-14 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 서셉터 온도 확인을 위한 장치 및 사용 방법들 |
US9797042B2 (en) * | 2014-05-15 | 2017-10-24 | Lam Research Corporation | Single ALD cycle thickness control in multi-station substrate deposition systems |
US20150380221A1 (en) | 2014-06-30 | 2015-12-31 | Applied Materials, Inc. | Hole Pattern For Uniform Illumination Of Workpiece Below A Capacitively Coupled Plasma Source |
JP6298383B2 (ja) * | 2014-08-19 | 2018-03-20 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
US10273578B2 (en) | 2014-10-03 | 2019-04-30 | Applied Materials, Inc. | Top lamp module for carousel deposition chamber |
US20160138160A1 (en) | 2014-11-18 | 2016-05-19 | Lam Research Corporation | Reactive ultraviolet thermal processing of low dielectric constant materials |
US9508547B1 (en) | 2015-08-17 | 2016-11-29 | Lam Research Corporation | Composition-matched curtain gas mixtures for edge uniformity modulation in large-volume ALD reactors |
US9738977B1 (en) | 2016-06-17 | 2017-08-22 | Lam Research Corporation | Showerhead curtain gas method and system for film profile modulation |
-
2016
- 2016-06-17 US US15/186,275 patent/US9738977B1/en active Active
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2017
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2021
- 2021-11-26 KR KR1020210166181A patent/KR102396162B1/ko active IP Right Grant
-
2022
- 2022-05-04 KR KR1020220055269A patent/KR102605484B1/ko active IP Right Grant
-
2023
- 2023-11-20 KR KR1020230160858A patent/KR20230164622A/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009135201A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Nuflare Technology Inc | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP2010206026A (ja) | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置、成膜方法、プログラム、およびコンピュータ可読記憶媒体 |
US20120269968A1 (en) | 2011-04-21 | 2012-10-25 | Kurt J. Lesker Company | Atomic Layer Deposition Apparatus and Process |
JP2016036020A (ja) | 2014-07-30 | 2016-03-17 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 二次パージ対応aldシステムにおけるシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置 |
US20160068953A1 (en) | 2014-09-10 | 2016-03-10 | Applied Materials, Inc. | Gas Separation Control in Spatial Atomic Layer Deposition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170142891A (ko) | 2017-12-28 |
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