JP7165682B2 - 揮発性化合物の検出および定量用光学装置 - Google Patents
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Description
- 反射率が被検空気(atmosphere to be tested)に含まれるエタノール含有量の関数として変化する、高感度反射素子(sensitive reflective element)であって、
・ 基板(substrate)と、
・ 厚さが250nmを超える、特に400nm~1200nmであり、平均細孔径が2nm未満であり、空隙率(porosity)が25%未満である、微孔性疎水性ゾル-ゲルシリカを含む感受性層(sensitive layer)であって、特に、エタノールで充填されていてもされていなくてもよい被検空気、より具体的には、個体の呼気の存在下に置くことを意図した感受性層と、
を含む高感度反射素子、
- 入射角の下で感受性層を照らすように配置された単色または準単色光源、
- 検出角の下で反射素子によって反射された強度を測定するための光検出器、
並びに
- 反射素子によって反射された強度から、血中アルコール含有量に対応するパラメータを推定するように構成された処理演算ユニット、
を含む、揮発性化合物の検出及び定量用光学装置を提供する。
- 反射率が被検空気に含まれる含水量の関数として変化する、追加の高感度反射素子、
- 検出角の下で追加の高感度反射素子によって反射された強度を測定するための追加の光検出器、
- 一方では反射素子によって、他方では追加の高感度反射素子によって、反射された強度から、被検空気中の水分の影響を考慮しつつ、血中アルコール含有量に対応するパラメータを推定するように構成されている処理演算ユニット。
- TEOS及びMTEOSを、PrOH、塩酸及び水で構成される溶液に溶解して、ゾル-ゲル溶液を調製する、
- 感受性層を得るために、前記ゾル-ゲル溶液を、40%~90%、特に50%~60%の相対湿度下で、基板上に堆積させる、
- 感受性層を、250℃~450℃、特に350℃の温度で、5分より長い時間、特に10分間、焼成工程に供する、
ことを特徴とする。
感受性層の厚さは、例えば250nmより厚く、特に400nm~1200nmである。
- 基板、並びに
- 厚さが250nmより厚く、特に400nm~1200nmであり、平均細孔径が2nm未満であり、空隙率が25%未満である、微孔性疎水性ゾル-ゲルシリカを含む感受性層であって、特に、エタノールで充填されていてもされていなくてもよい被検空気、より具体的には、個体の呼気の存在下に置くことを意図した感受性層、
を含むことを特徴とする。
- 高感度反射素子を形成するために、基板上に感受性層を堆積する、
- 高感度反射素子の反射スペクトルを測定する、
- 光源の波長は、単色または準単色であり、反射素子の反射スペクトルの変曲の波長に関する位置と一致するように、反射素子への光線の入射角で選択される、
ことを特徴とする。
- 反射率が被検空気に含まれるエタノール含有量の関数として変化する、上記で定義された高感度反射素子によって反射された強度を測定する、
- 反射率が被検空気に含まれる含水量の関数として変化する、上記で定義された追加の高感度反射素子によって反射された強度を測定する、
- エタノールが存在しない場合に測定された2つの強度の時間微分が同じである所定の関心時間帯において、測定された2つの強度の時間微分の差を求めて、検量線との相関を行い、被検空気に含まれるエタノールを定量する。
以下の実装は例である。説明は1つまたは複数の実施形態を参照しているが、これは必ずしも各参照が同じ実施形態に関連すること、またはその特徴が単一の実施形態のみに適用されることを意味しない。様々な実施形態の単純な特徴は、他の実装を提供するために、組み合わせおよび/または交換することもできる。
- Rsは入射偏光sに対する反射率を表し、
- Rpは入射偏光pに対する反射率を表し、
- Rは非偏光の場合の反射率を表し、
- θiは入射波の角度を表し、
- θtは透過波の角度を表し、
- θrは高感度反射素子21の法線に対する光線の検出角度であり、
- n1は空気の屈折率であり、n1=1=定数であり、
- n2は被検空気に含まれるエタノール含有量の関数として変化する感受性層29の屈折率である。
全到達可能細孔表面積Sの(s=1cm2の表面積の単位に関連する)cm2/cm2での計算:
S=4*V*e*s/D
式中、
-Vは細孔容積であり、例えば25%以下であり、
-eは疎水性多孔質層7の厚さであり、例えば400nm~1000nm、特に500nm~700nmであり、
-Dは平均細孔径であり、例えば2nm以下であり、
-s単位表面積1cm2である。
Claims (17)
- 揮発性化合物を検出および定量するための光学装置であって、
- 反射率が個体(14)の呼気に含まれるエタノール量の関数として変化する、高感度反射素子(21)であって、
・ 基板(27)と、
・ 厚さが250nmを超え、平均細孔径が2nm未満であり、空隙率が25%未満である、微孔性疎水性ゾル-ゲルシリカを含む感受性層(29)であって、前記個体(14)の呼気の存在下に置かれる感受性層(29)と、
を含む高感度反射素子(21)、
- 入射角の下で前記感受性層(29)を照らすように配置された単色または準単色光源(23)、
- 検出角の下で前記高感度反射素子(21)からの反射強度を測定するための光検出器(25)、
並びに
- 前記高感度反射素子(21)からの反射強度から、血中アルコール含有量に対応するパラメータを推定するように構成された処理演算ユニット(31)、
を含み、
前記光源(23)の波長が単色であり、前記光源の波長(23)が前記高感度反射素子(21)の反射スペクトルの2つの強め合うおよび弱め合う干渉ピーク間の変曲点(I 1 、I 2 、I 3 )に対応する波長となるように、前記入射角を調整する、
揮発性化合物の検出および定量用光学装置。 - 前記感受性層(29)が、CTAB、DTABまたはF127を含まないことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記基板(27)が、250nm~1500nmの間の波長に対して、2.5より大きい屈折率を有することを特徴とする、請求項1または2に記載の装置。
- 前記基板(27)が、半導体材料から構成されることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記入射角および前記検出角が、それぞれ30°~75°の間であることを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の装置。
- 前記光源(23)の波長が500nm~1000nmの間であることを特徴とする、請求項1~5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記感受性層(29)が、500nm~1000nmの間の波長に対して、1.2~1.6の間の屈折率を有することを特徴とする、請求項1~6のいずれか一項に記載の装置。
- - 反射率が前記個体(14)の呼気に含まれる水分量の関数として変化する、追加の高感度反射素子(21B)、
- 検出角の下で前記追加の高感度反射素子(21B)からの反射強度を測定するための追加の光検出器(25B)、
をさらに含み、
前記処理演算ユニット(31)が、一方では前記高感度反射素子(21)からの反射強度から、他方では前記追加の高感度反射素子(21B)からの反射強度から、前記個体(14)の呼気中の水分の影響を考慮しつつ、血中アルコール含有量に対応するパラメータを推定するように構成されていることを特徴とする、請求項1~7のいずれか一項に記載の装置。 - 請求項1~8のいずれか一項に記載の揮発性化合物の検出および定量用光学装置(3)のための高感度反射素子(21)を製造する方法であって、
- TEOSおよびMTEOSを、PrOH、塩酸および水で構成される溶液に溶解して、ゾル-ゲル溶液を調製する、
- 感受性層(29)を得るために、前記ゾル-ゲル溶液を、40%~90%の間の相対湿度下で、基板(27)上に堆積する、
- 前記感受性層(29)を、250℃~450℃の間の温度で、5分より長い時間、焼成工程に供する、
ことを特徴とする高感度反射素子(21)の製造方法。 - 前記感受性層(29)の厚さが、250nmを超えることを特徴とする、請求項9に記載の高感度反射素子(21)の製造方法。
- 請求項1~8のいずれか一項に記載の揮発性化合物の検出および定量用光学装置(3)のための高感度反射素子(21)であって、
- 基板(27)、並びに
- 厚さが250nmを超え、平均細孔径が2nm未満であり、空隙率が25%未満である、微孔性疎水性ゾル-ゲルシリカを含む感受性層(29)であって、個体(14)の呼気の存在下に置かれる感受性層(29)、
を含むことを特徴とする、高感度反射素子(21)。 - 前記個体(14)の呼気に含まれるエタノール量の関数として変化する反射率を有することを特徴とする、請求項11に記載の高感度反射素子(21)。
- 請求項1~8のいずれか一項に記載の揮発性化合物の検出および定量用光学検出装置(3)を製造する方法であって、
- 高感度反射素子(21)を形成するために、基板(27)上に感受性層(29)を堆積する、
- 前記高感度反射素子(21)の反射スペクトルを測定する、
- 光源(23)の波長が、単色、または準単色であり、前記光源(23)の波長が前記高感度反射素子(21)の反射スペクトルの変曲点(I1、I2、I3)に対応する波長となるように、前記高感度反射素子(21)に対する光線の入射角を調整する、
ことを特徴とする光学検出装置(3)の製造方法。 - 前記基板(27)が、1.8~4の間の屈折率を有し、
前記感受性層(29)が、250nmを超える厚さを有し、1.2~1.6の間の屈折率を有し、
前記光源(23)の波長が、500nm~1000nmの間であることを特徴とする、請求項13に記載の製造方法。 - 前記高感度反射素子(21)が、請求項9または10に記載の方法に従って製造されることを特徴とする、請求項13または14に記載の製造方法。
- 個体(14)の呼気中の揮発性化合物を検出および定量するための光学的検出方法であって、
- 反射率が前記個体(14)の呼気に含まれるエタノール量の関数として変化する、請求項1~7のいずれか一項に記載の高感度反射素子(21)からの反射強度を測定する工程、
- 反射率が前記個体(14)の呼気に含まれる水分量の関数として変化する、請求項8に記載の追加の高感度反射素子(21B)からの反射強度を測定する工程、
- エタノールが存在しない場合に測定された2つの強度の時間微分が同じである所定の関心時間帯(Δt)において、測定された2つの強度の時間微分の差を求めて、検量線(252)との相関を行い、前記個体(14)の呼気に含まれるエタノールを定量する工程、
を含むことを特徴とする、光学的検出方法。 - 前記光源(23)の波長が、前記高感度反射素子(21)の反射スペクトルの2つの強め合う及び弱め合う干渉ピーク間の変曲点(I1、I2、I3)に対応する波長となるように調整されることを特徴とする、請求項16に記載の光学的検出方法。
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