JP7161424B2 - インペラ及び回転機械 - Google Patents
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Description
本発明の第一態様に係るインペラは、軸線を中心とした円盤状をなすディスクと、前記ディスクの軸線方向の第一側を向く前面に、前記軸線周りの周方向に間隔をあけて設けられた複数のブレードと、複数の前記ブレードを前記第一側から覆い、前記第一側から前記軸線方向の第二側に向かうにしたがって漸次拡径するカバーと、を備え、前記カバーは、最も前記第一側に位置する第一端部の厚みよりも厚みが大きい厚肉部が前記第一端部から離れた位置であって、前記ディスク、前記ブレード及び前記カバーにより形成されたインペラ流路の流入口と流出口との間に形成されている。
また、厚肉部49は、本実施形態のように軸線方向Daの第一側Dauから第二側Dadに向かうにしたがって厚みが増すように形成された構造に限定されるものではない。厚肉部49は、カバー43において、局部的に厚みが厚くなるように形成されていてもよい。また、厚肉部49は、遷移部60を介して薄肉部48と接続されていることに限定されるものではない。厚肉部49は、第一端部431から離れた位置に形成されていれば、薄肉部48と離れて形成されていてもよい。
20 ケーシング
20a 一端部
20b 他端部
24 内部空間
25 吸込口
26 排出口
28A、28B ジャーナル軸受
29 スラスト軸受
30 回転軸
40 インペラ
41 ディスク
42 ブレード
43 カバー
45 インペラ流路
47 凹部
47b 底部
48 薄肉部
49 厚肉部
60 遷移部
50 ケーシング側流路
51 ディフューザ部
52 リターンベンド部
53 戻り流路
411 貫通孔
412 背面
413 ディスク主面(前面)
430 カバー内面
431 第一端部
432 第二端部
451 流入口
452 流出口
A 領域
Da 軸線方向
Dau 第一側
Dad 第二側
Dr 径方向
Dri 内側
Dro 外側
G 作動流体(プロセスガス)
O 軸線
T1、T2 厚み
Claims (5)
- 軸線を中心とした円盤状をなすディスクと、
前記ディスクの軸線方向の第一側を向く前面に、前記軸線周りの周方向に間隔をあけて設けられた複数のブレードと、
複数の前記ブレードを前記第一側から覆い、前記第一側から前記軸線方向の第二側に向かうにしたがって漸次拡径するカバーと、を備え、
前記カバーは、最も前記第一側に位置する第一端部の厚みよりも厚みが大きい厚肉部が前記第一端部から離れた位置であって、前記ディスク、前記ブレード及び前記カバーにより形成されたインペラ流路の流入口と流出口との間に形成されているインペラ。 - 前記厚肉部は、前記第一側から前記第二側に向かうにしたがって前記厚みが増加している請求項1に記載のインペラ。
- 前記カバーは、前記第一端部と前記厚肉部とを接続し、前記第一側から前記第二側に向かうにしたがって厚みが増加する遷移部を有する請求項1又は2に記載のインペラ。
- 前記ディスクには、前記軸線方向の前記第二側を向く背面に、前記軸線方向の前記第一側に向かって窪む凹部が形成され、
前記厚肉部は、前記軸線方向において、前記軸線方向における前記凹部の底部の位置と重なる領域に形成されている請求項1又は2に記載のインペラ。 - 軸線回りに回転する回転軸と、
前記回転軸に固定された請求項1から4の何れか一項に記載のインペラを備える回転機械。
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