JP7147454B2 - 積層体 - Google Patents

Description

本発明は、ＩＣチップやアンテナを設けたインレイを内包する積層体、すなわちＩＣカードやパスポートなどに関する。

近年、カードやパスポート等の個人認証媒体において、ＩＣチップ、ＩＣチップに電気的に接続されたアンテナ等を備えた非接触型の通信機能を有する個人認証媒体が広く活用されている。

従来、このようなＩＣチップとアンテナを設けたインレイを備えた個人認証媒体では、インレイは、白色などの有色コア層の中やパスポートのカバー内などに封入され、外観からはその存在が確認できない状態で用いるのが一般的であった。

また、パスポートの分野においては、カバー内にインレイを設けたいわゆるｅカバーからポリカーボネートなどのプラスチックを主体とするデータページにインレイを設ける方法（例えば、特許文献１）に置き換えが進んでいる。

これは、プラスチックとしてポリカーボネートを使用することで、耐久性が向上し、データページの層内にレーザ発色による文字、顔画像等のＩＤ情報の書き込みも可能で、また多層構成にし易いことから、ＩＣ読取用のアンテナなどの機能層に加え、特殊な印刷やホログラムのようなＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）層などを挿入して一体化することで、改ざんを困難にすることが可能であるためである。

しかし、カードやパスポートなどの個人認証媒体の分野においては、常に新しい技術が求められており、高い意匠性や偽造防止機能が望まれている。

特表２００９－５１０５７９号公報

以上のような状況を鑑み、本発明では、高い意匠性を有すると共に、個人認証媒体に設けられた顔画像情報などの改ざんを困難なものとする偽造防止機能の高い積層体を提供しようとするものである。

本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものである。
すなわち、請求項１に記載の発明は、インレイと、コア層と、レーザ発色層と、ＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）層と、を少なくともこの順に積層してなる積層体であって、前記インレイは、金属薄膜をパターン状に形成してなるアンテナ部を有し、前記コア層は、少なくとも一部に透明な窓部を有し、前記レーザ発色層は、レーザ印字可能であり、前記ＯＶＤ層は、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域の少なくとも一部を覆う領域に設けられており、かつ表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、前記レリーフ構造形成層表面の少なくとも一部を覆う金属反射層を有し、かつ前記レリーフ構造形成層表面に設けられた凹凸構造において、前記凹凸構造の凸部あるいは凹部の断面形状が、左右非対称となる溝構造を含み、前記インレイには、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域と少なくとも一部が重なる領域において、前記金属薄膜からなる絵柄模様部が設けられていることを特徴とする積層体である。

次に、請求項２に記載の発明は、前記レリーフ構造形成層に設けられた前記溝構造が、それぞれ傾斜角の異なる第１斜面と第２斜面とを有する複数の溝構造からなり、前記溝構造の構造周期が、４６２ｎｍ以上１４００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の積層体である。

請求項３に記載の発明は、前記ＯＶＤ層を平面視した際の面を水平面とした時、前記第１斜面の前記水平面に対する角度が、９．５度以上１６．５度以下であることを特徴とする請求項２に記載の積層である。

請求項４に記載の発明は、前記ＯＶＤ層が設けられた領域の少なくとも一部が重なる領域において、前記レーザ発色層に発色部が形成されてなり、前記ＯＶＤ層側から前記発色部を目視可能に、前記発色部と重なる領域において前記金属反射層の除去部を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の積層体である。

請求項５に記載の発明は、前記積層体を特定の角度に傾けて観察した際に、前記ＯＶＤ層ならびに前記透明な窓部を介して、前記インレイに設けられた前記絵柄模様の少なくとも一部が観察されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の積層体である。

本発明によれば、パスポートなどの個人認証媒体において、高い意匠性と、高度な改ざん防止性を付与することが可能となる。

本発明の一態様に係る積層体の構成例を示す断面図である。 パスポートデータシートの構成例を示す概念図である。 ＯＶＤ転写箔の構成例を示す断面図である。 本発明の一態様に係る積層体の光学効果の例を示す概念図である。 ブレーズド回折格子の光学効果を説明するための概念図である。 ブレーズ角を説明するための概念図である。

以下では、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、各図はそれぞれ一例を示しているにすぎず、これらに限定されるものではない。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

（積層体構成）
図１は、本発明の一態様に係わる積層体の構成例を示した断面図であり、図２は、パスポートのデータシートの構成例を示す概念図である。

図１では、積層体（１０）として、インレイ（１１）の片面に、透明な窓部（１３）を有するコア層（１２）、レーザ発色層（１４）、ＯＶＤ層（１５）がそれぞれ積層され、これらの積層物（１７）の両面に外装シート（１６）が設けられている。

ここで、インレイ（１１）は、図２に示されるように、インレイ基材上にアンテナ部（２１）と絵柄模様部（２２）が形成されている。

このようなインレイ（１１）は、インレイ基材上に設けた金属薄膜をパターン状にエッチングすることによって形成される。

インレイ（１１）に用いられるインレイ基材としては、このような用途用いられる従来公知の材料をいずれも用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂などの各種樹脂材料からなるフィルムなどを例示することができる。

中でも取扱いの容易性や積層体（１０）の耐久性などを考慮するとポリカーボネート樹脂を好適に用いることができる。

このインレイ基材上に、メッキ法、蒸着法、貼り合わせ法などにより、金属の薄膜が形成される。

次いで、金属薄膜上にレジストをコーティングし、パターン露光、現像工程などを経た後、エッチングを実施する方法、あるいは印刷法により、マスク層用樹脂を印刷パターン形成した後、エッチングを施す方法などによって、アンテナ部（２１）ならびに絵柄模様部（２２）が形成される。

また、アンテナ部（２１）が形成された面の反対側の面には、アンテナジャンパーが形成される場合があり、その際、インレイ基材の両面に金属薄膜とレジスト層あるいは印刷パターンを形成して、両面同時にエッチング処理を施す方法などが用いられる場合には、絵柄模様部（２２）は、両面の金属薄膜の組合せによって、形成されていても良い。

ここで、マスク層用樹脂による印刷パターンを形成する印刷方法としては、従来公知の印刷法をいずれも用いることができ、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、更にはインクジェット法などの印刷法を適宜用いることができる。

また、図２では、アンテナ部（２１）と絵柄模様部（２２）とは分離して形成されているが、少なくとも互いの一部が結合されていても何ら問題ない。

金属薄膜としては、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、銀、などを例示することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。

このような金属薄膜は、少なくとも絵柄模様部（２２）において、電気化学的処理や薬品浸漬処理、更には色材を含む印刷層の形成などの手法を用いて本来の金属薄膜の色とは異なる色に着色が施されていても良い。

コア層（１２）は、少なくとも一部に透明な窓部（１３）が形成されており、この透明な窓部（１３）が形成されている領域は、インレイの絵柄模様部（２２）が設けられた領域と少なくとも一部重なるように形成されている。

またコア層（１２）は、図２に示すように、インレイを挟むように、裏面コア層（１２’）と対の状態で設けられていても良い。

この裏面コア層（１２’）には、必要に応じて、裏面窓部（１３’）が設けられていても良く、このようにすることによって、窓部（１２）と裏面窓部（１３’）の双方を介し
て、インレイに設けられた絵柄模様部（２２）を観察することができ、積層体（１０）の意匠性を向上させることができる。

このような窓部（１３、１３’）を形成する方法としては、例えば、本来透明な素材からなるコア層に対して、窓部を除く領域に、例えば白色などの色材や金属粉等を含む隠蔽層を形成する方法、あるいは隠蔽性を有するコア層の一部を抜き加工する方法、さらには抜き加工した部分に透明なコア材を嵌め込む方法など、任意の方法を用いることができる。

更に、コア層（１２）および／または裏面コア層（１２’）には、必要に応じて、任意の印刷層（２３）を設けることができる。

この様なコア層に用いられる材料としては、従来公知の材料をいずれも用いることができ、例えば、紙類をはじめポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンテレフタレート共重合体（ＰＥＴ－Ｇ）などのポリエチレンテレフタレート樹脂類、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、スチレン－メチルメタクリレート共重合体、ポリ乳酸樹脂類、ポリオレフィン樹脂類、など任意の樹脂を単独あるいは複合体、アロイ体、ブレンド体などとして用いることができる。

これらの樹脂には、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、白鉛華など従来公知の顔料や体質顔料をはじめ、熱安定剤、紫外線吸収剤などを各種添加剤が添加されてあっても何ら問題ない
レーザ発色層（１４）は、積層体（１０）を形成した後に、レーザ照射によって、積層体（１０）の層内に、第１顔画像部（２４）、文字情報部（２５）、第２顔画像部（２６）などの個人情報を印字、記録するために設けるもので、レーザ印字によって炭化するポリカーボネート樹脂や、上記コア層（１２）や後述する外装シート（１６）と同様の樹脂に対して、発色剤を混入したもの、更には、発色層用基材上に、発色剤などを含むレーザ発色インキ層を設けたものなどを例示することができる。

発色剤としては、レーザ光線を吸収し光熱変換による発熱によって有色になる金属酸化物等が好ましく用いられ、具体的には、コントラストの高い黒色系の酸化物を形成しうる金属として、銅、鉄、ニッケル、マンガン、チタン、鉛、クロム、コバルト、錫、タリウム、バナジウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、タンタル、タングステン、銀等を例示することができるが、必ずしも黒色発色に限定されるものではなく、更には金属化合物に限定されるものでもなく、レーザ照射による化学変化で黒以外の色を表示することが可能な材料を適宜用いることができる。

このような黒色以外の色を表示することが可能な発色剤を用いることにより、例えば図２に示す第２顔画像部（２６）を黒以外の発色とすることで、視認性や意匠性を変化させることが可能となる。

上述のような、レーザ発色層（１４）は、コア層（１２）と外装シート（１６）との間だけではなく、裏面コア層（１２’）と外装シート（１６’）との間などに設けられていても何ら問題無い。

ＯＶＤ層（１５）は、表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、このレリーフ構造形成層表面の少なくとも一部を覆う金属反射層とを、少なくとも含むもので、例えば、図３に示すようなＯＶＤ転写箔（３０）を用いて、転写形成することによって、設けることができる。

その際、ＯＶＤ層（１５）は、先に述べたコア層（１２）に設けられた透明な窓部（１３）が設けられている領域の少なくとも一部を覆う領域に設けることが重要である。

これにより、後述する光学効果を発揮することが可能となり、高い意匠性と偽造防止効果を発揮することが可能となる。

ＯＶＤ層（１５）を形成するためのＯＶＤ転写箔（３０）について、図３を参考にしながら、より詳しく説明する。

ＯＶＤ転写箔（３０）は、転写箔基材（３１）、剥離層（３２）、表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層（３３）、このレリーフ構造形成層表面の少なくとも一部を覆うように形成された金属反射層（３４）、そして接着層（３５）とからなる。

転写箔基材（３１）は、転写箔用の基材と用いられる従来公知の材料をいずれも用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニルやポリビニルアルコールなどのポリビニル系フィルム、ポリイミドフィルム、アクリル系フィルム、トリアセチルセルロースなどのセルロース系フィルム、ポリカーボネートフィルムなどを例示することができるが、取扱いの容易性やコスト面などを考慮すると、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルムを好適に用いることができる。

転写箔基材（３１）は、単層構造を有していても良く、多層構造を有していても良い。更に、転写箔基材（３１）には、帯電防止処理や防汚処理などの各種処理が施されていても良い。

剥離層（３２）は、転写箔基材（３１）からＯＶＤ層（１５）の転写時剥離を容易にするための層であり、具体的な材料としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ニトロセルロースやトリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ系樹脂、などを例示することができ、これらの樹脂を単独あるは共重合体や２つ以上の混合物などとして用いることができ、単層あるいは２層以上を積層して用いても良い。

このような剥離層（３２）には、動物系ワックス、植物系ワックス、モンタンワックスなどの鉱物系ワックス、ポリフィンワックスやマイクロクリスタリンワックスなどの石油系ワックス、ポリエチレンワックスなどの合成ワックスといったワックス類や高級脂肪酸類、ステアリン酸亜鉛などの金属石鹸類をはじめ、各種添加剤などを添加することができる。

レリーフ構造形成層（３３）は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂などから構成することができる。

レリーフ構造形成層（３３）として、熱可塑性樹脂を用いる場合には、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂などや、これらの混合物、またはこれらの共重合体などを使用することができる。

また、熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば、アクリル系ポリオール樹脂やポリエステル系ポリオール樹脂などのポリオール系樹脂とイソシアネート化合物との架橋反応によって形成されるウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂などや、これらの混合物、またはこれらの共重合物を使用することができる。

また、放射線硬化性樹脂を用いる場合には、放射線硬化性樹脂は、典型的には、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。

重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用する。具体的には、エチレン性不飽和結合またはエチレン性不飽和基を有したモノマー、オリゴマーまたはポリマーを使用することができる。あるいは光ラジカル重合が可能な化合物として、１，６－ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタエリスリトールアクリラート、ペンタエリスリトールテトラアクリラート、ペンタエイスリトールペンタアクリラートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリラート等のモノマー、エポキシアクリラート、ウレタンアクリラートおよびポリエステルアクリラート等のオリゴマー、またはウレタン変性アクリル樹脂およびエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーなどを使用してもよい。

重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用することができる。

この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルおよびベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノンおよびメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α－アミノアセトフェノンおよび２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モリホリノプロパン－１－オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、または、ミヒラーズケトンなどを使用することができる。

あるいは、重合性化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を備えたモノマー、オリゴマーもしくはポリマー、キセタン骨格含有化合物、または、ビニルエーテル類を使用する。

重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用する。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩または混合配位子金属塩を使用する。

あるいは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。

この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用する。あるいは、この場合、光ラジカル重合および光カチオン重合の双方の開始剤として機能しうる重合開始剤を使用してもよい。

このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩または芳香族スルホニウム塩などを使用する。

また、重合開始剤を使用しない例として、電子線照射により重合性化合物の重合反応を引き起こす方法を用いてもよい。

前記放射線硬化樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、
タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、エポキシ樹脂等の添加剤、離型剤またはこれらの組合せを更に含んでいてもよい。

また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、前記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などを単独または混合物として用いることができる。

上述のようなレリーフ構造形成層（３３）に凹凸構造を形成する方法としては、例えば、金属表面に凹凸構造を設けた原版を用いた熱圧転写方式などによって、凹凸構造を容易に形成することができる。

ここで、レリーフ構造形成層（３３）の表面に設けられる凹凸構造は、その凹凸構造の凸部あるいは凹部の断面形状が、左右非対称となる溝構造を含むことが重要である。

断面形状が左右非対称の溝構造とは、図３に示すように、傾斜角の異なる第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する複数の溝構造とすることができるが、必ずしも鋭角な頂点を有する三角形形状に限定されるものではなく、頂点部が円弧状などの曲線部を有するものや平坦な頂点部を有する多角形形状などであっても何ら問題無い。

このような凹凸構造を有するレリーフ構造形成層（３３）を含む積層体（１０）の光学効果については、後述する。

金属反射層（３４）としては、例えば、アルミニウム、銅、銀、錫、クロム、及びそれらの合金などの金属材料を使用することができる。

金属反射層（３４）を形成する方法としては、従来公知の薄膜形成法であればいずれを用いても良く、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的気相成長法や、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法などを例示することができるが、物理的気層成長法が好ましく用いられ、中でも真空蒸着法を好適に用いることができる。

金属反射層（３４）の形成に先立って、レリーフ構造形成層（３３）の表面には、コロナ処理、プラズマ処理、イオンボンバード処理などの表面処理が施されても何ら問題ない。

また、金属反射層（３４）は真空蒸着法等で形成された後、マスク印刷層やフォトレジストを用いてパターン状マスク層を形成した後、エッチング溶液等によりエッチングを行う化学エッチング法などを用いて、パターン状に形成しても良い。

あるいは、水溶性樹脂からなるインキによってレリーフ構造形成層（３３）上にパターン印刷を施した後、蒸着法あるいはスパッタリング法等で金属反射層（３４）を設け、その後水溶性樹脂も含めて水洗処理する水性エッチング法などを用いて、金属反射層（３４）をパターン化しても良い。

金属反射層（３４）のパターン形成法はこれらに限定されるものではなく、従来公知の任意の方法でパターンを形成することが可能である。

接着層（３５）は、レーザ発色層（１４）などの被転写体に対して、ＯＶＤ層（１５）を接着させるための層であり、感熱接着性を有する熱可塑性樹脂などが好ましく用いられる。

この様な熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニルや塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体などのビニル系樹脂、エチレン共重合体や塩素化ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、石油樹脂、スチレン－ブタジエンゴムなどのゴム類などを例示することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、各種樹脂は、単独で用いられても良いし、混合物や共重合体などの複合物として用いられても良い。

このような接着層（３５）には、転写適性向上などを目的として、上述のようなワックス類や、酸化チタン、シリカ、炭酸カルシウム、タルクなどのようなフィラー類が添加されていても良い。

また、ＯＶＤ転写箔（３０）のいずれかの層中には、例えば、蛍光性色素、アップコンバージョン材料や特定波長吸収色素などの各種特殊材料などが添加されていても良い。

外装シート（１６、１６’）は、透明な熱可塑性樹脂であれば、いずれも用いることができ、例えば、ポリカーボネートをはじめ、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、アクリル系樹脂などを例示することができるが、耐久性等の観点からポリカーボネートを好適に用いることができる。

上述のような積層体（１０）において、各層間には、必要に応じて、中間層や接着層、印刷層などが別途設けられていても何ら問題ない。

（光学効果）
図４は、積層体（１０）の光学効果の例を説明するための概念図である。

ＯＶＤ層（１５）は、レーザ発色層（１４）上に設けられており、さらにＯＶＤ層（１５）上には、外装シート（１６）が設けられている。

このため、図２における第２顔画像部（２６）をＯＶＤ層（１５）が設けられた領域に形成するためには、外装シート（１６）ならびにＯＶＤ層（１５）を介して、レーザ照射を実施する必要がある。

この時、レーザ照射された際に、ＯＶＤ層（１５）における金属反射層（３４）は、レーザ照射による破壊により除去され、レーザ発色層（１４）には、発色部（４０）が形成される。

従って、積層体（１０）の平面視（第１の観察位置）において、ＯＶＤ層（１５）と共に発色部（４０）により形成された画像すなわち、図２においては、第２顔画像部（２６）が観察される。

この時、金属反射層（３４）がレーザ照射によって破壊された除去部と発色部（４０）の位置は完全に一致しており、レーザ発色層（１４）に形成される画像の改ざんを困難なものとすることができる。

また、ＯＶＤ層（１５）は、レリーフ構造形成層（３３）の表面に第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する複数の溝構造が規則的に配列された周期構造を含んでおり、最適には、ある方向からの入射光に対して、第１斜面（３６）からの反射光の方向が、周期構造に由来する回折光の射出方向と同じものとなる。

このような反射光あるいは回折光により、入射光の方向や観察角度（第２の観察位置）に応じて、任意の画像表現が可能となり、ＯＶＤ層（１５）の画像が観察される。

これに対して、第２斜面（３７）は第１斜面（３６）に比べて、積層体（１０）の法線方向に対してなす角が小さく、回折光への寄与が小さいと言える。

これらの斜面には、金属反射層（３４）が形成されており、金属反射層（３４）の形成方法としては、先に説明したように、真空蒸着法、スパッタリング法のような気相成長法などが用いられ、中でも真空蒸着法が、主な手法として用いられるが、斜面の角度により、各斜面の法線方向に対しての金属反射層（３４）の膜厚がことなり、積層体（１０）の法線方向に対してなす角が小さいほど、斜面の法線方向に対する金属反射層（３４）の膜厚が薄くなる。

従って、第２斜面（３７）は、上記法線方向に対して、できるだけ０度に近いことが好ましい。

すなわち、ＯＶＤ転写箔（３０）を作製しようとする時、金属反射層（３４）の形成を真空蒸着法によって実施する際に、転写箔基材（３１）の法線方向よりも、第１斜面（３６）の法線に近い方向から蒸着されるようにすると、第１斜面（３６）の法線方向に対する金属反射層（３４）の膜厚を厚くし、第２斜面（３７）の法線方向に対する金属反射層（３４）の膜厚をより薄く（ほとんど形成されないように）することが可能となる。

このようにすることで、積層体（１０）を特定の角度（第３の観察位置）から観察した際に、第２斜面を通して、コア層（１２）に設けられた透明な窓部（１３）を介した絵柄模様部（２２）を観察することが可能となる。

ここで、第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する溝構造からなる周期構造の代表的な構造として、ブレーズド回折格子を例として、回折光について説明する。

図５は、ブレーズド回折格子（５０）の回折の様子を模式的に示したもので、格子周期がｄであるブレーズド回折格子（５０）の法線方向（ＮＬ）に対して、角度αから入射光（ＩＬ）が照射された際に、角度βの方向に１次回折光（ＤＬ）が射出される様子を示している。

積層体（１０）を実際に手に持って観察しようとする時、積層体（１０）の正面方向から入射された光に対して、ある程度傾けた状態で回折光を観察できることが望ましく、実用上、３０度から６０度程度の角度が適当な範囲であると言える。

また、目視観察可能な可視光の範囲を４００ｎｍから７００ｎｍとすると、上記の範囲に１次回折光を射出するためのブレーズド回折格子の格子周期として、好ましい格子周期の幅を以下の式（１）で求めることができる。

ｄ（ｓｉｎα － ｓｉｎβ） ＝ ±λ … （１）
（但し、ｄ＝格子周期、α＝入射角、β＝射出角、λ＝波長である。）

上記の式（１）より、入射光を積層体（１０）の正面方向すなわち、法線方向からの入射（α＝０度）とすると、格子周期（ｄ）、すなわち第１斜面と第２斜面とを有する複数の溝構造の構造周期としては、下記の式（２）から可視光の射出角（β）が３０～６０度となる領域として、４６２ｎｍ以上１４００ｎｍ以下であることが望ましいと言える。

ｄ＝λ／ｓｉｎβ … （２）

また、図６に示すように、入射光（ＩＬ）と例えば１次の回折光が鏡面反射の関係にある射出光（ＲＬ１）が、樹脂中に射出され、最終的に目視観察する際に、空気との界面で屈折した射出光（ＲＬ２）として観察される場合、この時のブレーズ角（θ_Ｂ）、すなわちＯＶＤ層を平面視した際の面を水平面とした時の前記第１斜面（３６）の前記水平面に対する角度は、式（３）で表すことができる。

θ_Ｂ＝（α＋β’）／２ … （３）
但し、入射光（ＩＬ）は、法線（ＮＬ１）方向から入射されているため、α＝０となる。

また、最終的に目視観察される射出光（ＲＬ２）の射出角（β）と、樹脂中の射出光（ＲＬ１）の射出角（β’）は、式（４）で表すことができることから、可視光を３０～６０度の範囲で観察することが可能となるブレーズ角（θ_Ｂ）は、式（５）で求めることができる。

ｓｉｎβ＝ｎ×ｓｉｎβ’ … （４）
θ_Ｂ＝ｓｉｎ^－１（ｓｉｎβ／ｎ）／２ … （５）
（但し、ｎ＝樹脂の屈折率）

従って、ｎを一般的な樹脂の屈折率１．５とした時、ブレーズ角（θ_Ｂ）は、９．５度以上１６．５度以下であることが望ましいと言える。

上述のような格子周期（ｄ）ならびにブレーズ角（θ_Ｂ）などがそれぞれ異なる複数の領域を組み合わせることにより、積層体（１０）を特定の観察角度（第２の観察位置）から観察した際の、回折光の観察波長や光の明度を任意に制御することが可能となり、ＯＶＤ層（１５）の画像を形成することができる。

ここで、第１斜面（３６）ならびに第２斜面（３７）は、その断面が直線的に形成されていることが望ましいが、階段状に近い構造となっていても何ら問題ない。

また、格子周期（ｄ）は、上述の値よりも大きい数μｍから数十μｍあっても良いが、この場合には、積層体（１０）を傾けて観察した際に、回折光が観察されなくなる。

つまり、第１斜面（３６）が、マイクロミラーとしての効果を発揮し、同じ角度を有する斜面部分が、特定の角度で同じように光って見えることを利用して、ＯＶＤ層用の画像を形成することが可能となり、第２斜面（３７）を通しての絵柄模様部（２２）の観察については、上述の説明と同様に実施することが可能である。

また、第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する複数の溝構造の配向方向は、全ての領域で同一である必要はなく、視認させたいＯＶＤ層（１５）の画像に応じて、任意の領域毎に任意の方向に設定することが可能である。

すなわち、特定の領域を一定の配向方向で配置、その他の領域を異なる配向方向に配置することで、積層体（１０）を水平方向に回転させて観察した際に、異なる画像を視認できるように配置することも可能である。

上述のようなＯＶＤ層（１０）において、レリーフ構造形成層（３３）表面の一部には、第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する溝構造とは異なり、平坦面を含む別の凹凸構造が設けられてあっても良い。

別の凹凸構造としては、例えば、平坦面をはじめ、マット面、ホログラムなどの回折格子構造、あるいは画像形成層（５）の表面からの距離が異なる複数の面からなる凹凸構造、光の半波長以上の格子が一方向に並んだ一次元格子や、光の波長以下で、２方向の交差する方向に配列された二次元格子などの各種凹凸構造を例示することができる。

この様な凹凸構造を部分的に配置することにより、ＯＶＤ層（１５）の装飾性を高めると共に、より高いセキュリティ性を付与することが可能となる。

但し、少なくともコア層（１２）に設けられた透明な窓部（１３）の領域と重なる領域においては、第１斜面（３６）と第２斜面（３７）とを有する溝構造からなる領域の面積が、別の凹凸構造からなる領域の面積よりも大きいことが望ましい。

以上のように、本発明の積層体を用いることにより、層内に形成された印字情報（例えば、第２顔画像部）に対し、表側および裏側にそれぞれ別々のセキュリティ素子を重ねることで、積層体自体を削って情報の改ざんを実施しようとする行為に対し、改ざん行為を防ぐ、あるいは改ざんされたことを検知することが可能となる。

また、ＯＶＤ層（１５）と絵柄模様（２２）の存在により、高い意匠性を発揮すると共に、積層体（１０）の観察位置に応じて、複数の画像が視認されることから、高いセキュリティ性を有する積層体を提供することができる。

１０ … 積層体
１１ … インレイ
１２ … コア層
１２’… 裏面コア層
１３ … 窓部
１３’… 裏面窓部
１４ … レーザ発色層
１５ … ＯＶＤ層
１６、１６’ … 外装シート
１７ … 積層物
２１ … アンテナ部
２２ … 絵柄模様部
２３ … 印刷
２４ … 第１顔画像部
２５ … 文字情報部
２６ … 第２顔画像部
３０ … ＯＶＤ転写箔
３１ … 転写箔基材
３２ … 剥離層
３３ … レリーフ構造形成層
３４ … 金属反射層
３５ … 接着層
３６ … 第１斜面
３７ … 第２斜面
４０ … 発色部
５０ … ブレーズド回折格子
ＩＬ … 入射光
ＤＬ … １次回折光
ＮＬ、ＮＬ１、ＮＬ２ … 法線
ＲＬ１、ＲＬ２ … 射出光
α、β、β’… 角度
ｄ … 格子周期
θ_Ｂ … ブレーズ角

Claims (5)

1. インレイと、コア層と、レーザ発色層と、ＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ
   Ｄｅｖｉｃｅ）層と、を少なくともこの順に積層してなる積層体であって、
   前記インレイは、金属薄膜をパターン状に形成してなるアンテナ部を有し、
   前記コア層は、少なくとも一部に透明な窓部を有し、
   前記レーザ発色層は、レーザ印字可能であり、
   前記ＯＶＤ層は、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域の少なくとも一部を覆う領域に設けられており、かつ表面に凹凸構造を有するレリーフ構造形成層と、前記レリーフ構造形成層表面の少なくとも一部を覆う金属反射層を有し、かつ前記レリーフ構造形成層表面に設けられた凹凸構造において、前記凹凸構造の凸部あるいは凹部の断面形状が、左右非対称となる溝構造を含み、
   前記インレイには、前記コア層の前記透明な窓部が設けられた領域と少なくとも一部が重なる領域において、前記金属薄膜からなる絵柄模様部が設けられていることを特徴とする積層体。
2. 前記レリーフ構造形成層に設けられた前記溝構造が、それぞれ傾斜角の異なる第１斜面と第２斜面とを有する複数の溝構造からなり、前記溝構造の構造周期が、４６２ｎｍ以上１４００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の積層体。
3. 前記ＯＶＤ層を平面視した際の面を水平面とした時、前記第１斜面の前記水平面に対する角度が、９．５度以上１６．５度以下であることを特徴とする請求項２に記載の積層体。
4. 前記ＯＶＤ層が設けられた領域の少なくとも一部が重なる領域において、前記レーザ発色層に発色部が形成されてなり、
   前記ＯＶＤ層側から前記発色部を目視可能に、前記発色部と重なる領域において前記金属反射層の除去部を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記積層体を特定の角度に傾けて観察した際に、前記ＯＶＤ層ならびに前記透明な窓部を介して、前記インレイに設けられた前記絵柄模様の少なくとも一部が観察されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の積層体。

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