JP2001067654A

JP2001067654A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2001067654A
Application number: JP23812399A
Authority: JP
Inventors: Tetsuji Ogata; 哲治緒方
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1999-08-25
Filing date: 1999-08-25
Publication date: 2001-03-16
Anticipated expiration: 2019-08-25
Also published as: JP3710963B2

Abstract

(57)【要約】【課題】従来、磁気記録層以外にホログラムシールを
積層していた従来の磁気記録媒体に、より一層の偽造・
改ざんの困難性を与えることを課題とするものである。【解決手段】磁気記録層３を有する磁気記録媒体１の
基材２上に、磁気記録層３と磁気記録媒体１の基材２の
露出部分とにまたがってパターン層４を積層することに
より、課題を解決することができた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は偽造・改ざんに対す
る安全性が高められた磁気記録媒体に関するもので、特
に本発明は、カードに適用したときに価値の高いもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】銀行カード、クレジットカード、通帳、
あるいは身分証明書等のさまざまな用途に、紙やプラス
チックを基材とし、磁気テープ等の磁気記録層を積層し
た磁気記録媒体が使用されている。中でも、銀行預金や
送金等に使用する銀行カード（またはキャッシュカー
ド）、クレジット会社との契約に基づき、現金を扱うこ
となく決済を行なえるクレジットカードを始めとして、
種々のカードが多用されている。これら磁気記録媒体
は、大きさや形状が異なることを別にすると、いずれも
基材に磁気記録層を有していて、磁気記録媒体を保持す
る各人に特有なＩＤ情報等を保持し、これに基づいて、
種々の入出力、演算、記憶等を行なわせるものである。
以降の説明はカードを念頭に行なうが、本発明は広く磁
気記録媒体全般に適用できるものである。なお、「カー
ド」とは、携帯されるために、ほぼ名刺または手札程度
のサイズに統一されているもので、種々の手段によりＩ
Ｄ情報やその他の情報を持っており、それぞれの目的に
応じて使用されるものを指す。

【０００３】これらのカードには、一般的に言って、カ
ードを横長に置いたとき、上辺に沿って、カードの上辺
から若干離れた位置に磁気記録層が設けられていて、そ
の位置は、磁気記録層を利用した情報の書き込み・読み
取りが円滑にできるよう、統一されている。磁気記録層
は、例えば、磁性酸化鉄粉を塗料中に分散させて、直接
塗布したり、別の基体に塗布したものを転写する等によ
り形成したものであるが、既にかなり普及しており、Ｉ
Ｄやその他の目的で使用する方法についてもよく知られ
ていて、磁気記録層のみを情報を記録手段とするだけで
は、偽造や改ざんに対する安全性が高いとは言えない。

【０００４】最近、カードの分野では、磁気記録層以外
に、ホログラムシール等の光回折パターン層を積層する
ことが行われている。ホログラムの製造には、特殊な素
材やレーザー光を扱う高度な技術を必要とするため、不
正な意図で製造することが難しいためである。ただ、ホ
ログラムシールも、玩具等の分野で市販されていること
から、単にホログラムシールを貼るだけでは、不正な意
図を持つ者を完全に排除することは困難になってきてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、上記の従来技術において、磁気記録層以外にホログ
ラムシールを積層していた従来の磁気記録媒体に、より
一層の偽造・改ざんの困難性を与えることを課題とする
ものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明においては、磁気
記録層を有する磁気記録媒体の基材上に、磁気記録層と
磁気記録媒体の露出部分とにまたがってパターン層を積
層することにより、課題を解決することができた。

【０００７】第１の発明は、磁気記録層が基材上の一部
を覆って積層されており、前記基材の前記磁気記録層が
覆っていない部分と前記磁気記録層との境界上に、パタ
ーン層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
に関するものである。第２の発明は、第１の発明におい
て、前記パターン層が印刷パターンであることを特徴と
する磁気記録媒体に関するものである。第３の発明は、
第１の発明において、前記パターン層が金属薄膜のパタ
ーンからなることを特徴とする磁気記録媒体に関するも
のである。第４の発明は、第１の発明において、前記パ
ターン層が光回折構造体のパターンからなることを特徴
とする磁気記録媒体に関するものである。第５の発明
は、第４の発明において、前記光回折構造がホログラム
であることを特徴とする磁気記録媒体に関するものであ
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】図１は、本発明をカードに適用し
た例を示す平面図である。図１において、磁気記録媒体
１は、カードの基材２の一部に約７ｍｍの幅の磁気記録
層３が、基材２の長辺に平行に、かつ、一端より余白を
有して積層されたものであり、磁気記録層３の上辺と上
辺に隣接した基材２の余白部分（磁気記録層３を有して
いない意味）とにまたがって、カードのほぼ右半分の位
置にパターン層として文字４（英文字の「ＣＡＲＤ」）
が形成され、また、磁気記録層２の下辺と下辺に隣接し
た基材２の余白部とにまたがって、カードのほぼ左半分
の位置に文字４が形成されたものである。いずれの文字
４も、磁気記録層３上にほぼ半分が形成されていて、文
字４の残りの部分は磁気記録層３のない基材上に形成さ
れている。なお、カードには、このほか、種々の印刷か
ら始まって、種々の装飾や加工が施されているが、図示
は省略する。

【０００９】図２は、図１に示した磁気記録媒体１のＡ
−Ａ線矢視断面図である。基材１は、図２において表わ
されるように２枚のコアシート２Ｃ、２Ｃ’と、印刷層
５を介して積層された上下２枚のオーバーシート２Ｏ、
２Ｏ’との合計４枚のシートが積層されたものである。
オーバーシート２Ｏの上面には、磁気記録層３と文字４
が積層されており、文字４の上面、および、文字４のな
い部分では磁気記録層３の上面が、オーバーシート２Ｏ
の上面と同じ平面上になるよう、埋め込まれている。図
１及び図２で示したカードの例では、英文字の「ＣＡＲ
Ｄ」からなる文字４の上下のほぼ中央が、基材２の露出
部と磁気記録層３との境界上に位置しているので、偽造
を企てる場合には、磁気記録層３上に、色を本物と合わ
せた文字４を位置合わせをして形成する必要があり、困
難性が増す。また、真正なカードから磁気記録層３と文
字４とを剥がして、別のカードに適用しようとすると、
文字４が切れるのを避けるため、オーバーシート２Ｏご
と剥がさなければならず、磁気記録層３のみを剥がすよ
りも、より困難性が増す。

【００１０】基材２としては、磁気記録媒体を携帯中に
折れ曲がったり、取扱い時に破れたりせず、かつ、磁気
記録層３への書き込み・読み取りを行なう際に使用する
機械内部での走行に支障のない強度と剛性を有している
ものが好ましい。具体的な基材２としては、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレートの構
造を持つもの、もしくはポリエチレンテレフタレート樹
脂のエチレングリコール部分の一部をシクロヘキサンジ
メタノールで置き換え、エチレングリコール部分とシク
ロヘキサンジメタノール部分とをほぼ交互に繰り返した
非結晶質のもの。後者はイーストマンケミカル社がＰＥ
Ｔ−Ｇの名称で販売）、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルロース
トリアセテート、ポリスチレン系、ＡＢＳ、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリプロピレン、またはポリエチレン等
の合成樹脂のシート、銅、アルミニウム、または錫等の
金属シート、もしくは厚紙、特に、樹脂またはラテック
スの含浸紙等のうちから選択した、単独のシートまたは
複合シートを素材として使用する。

【００１１】基材２を構成する上記素材の厚みは、１０
μｍ〜５ｍｍ程度であるが、カードの場合、ＩＳＯの規
格では、０．７６ｍｍが標準である。カード基材２自体
に隠蔽性を持たせる観点から、隠蔽性の顔料を練り込ん
だ合成樹脂のシートを使用することが普通である。例え
ば、厚み、素材、層構成の典型例としては、厚み０．２
８ｍｍの白色のポリ塩化ビニル樹脂シートをコアシート
として２枚使用し、その２枚合わせたものに対し、厚み
０．１ｍｍの無色透明なポリ塩化ビニル樹脂シートを表
裏にオーバーシートとして１枚ずつ使用し、合計厚み
０．７６ｍｍの４層からなる積層シートとして使用す
る。

【００１２】磁気記録層３は、通常、６〜１３ｍｍ幅程
度のストライプ状のものであり、基材２の表面に、磁性
物質を添加し混練して調製した磁気塗料を用いて直接に
塗布して設けるか、一旦、別の薄いプラスチックシート
等の基材に塗布し、ストライプ状にカットしてカード基
材２上に貼るか、あるいは、一旦、別の仮の基材に剥離
可能に積層して磁気記録層転写シートを準備し、転写法
により、カード基材上に転写して形成する。磁性物質を
添加し混練して作製した塗料を用いる以外に、磁性物質
の蒸着やスパッタリング等により気相状態で磁性物質の
薄膜を形成して磁気記録層２とする方法によって行なう
か、以降、ストライプ状にカットして貼るか、転写によ
り適用する等によってもよい。磁気記録層３としては、
公知のものが使用できるが、現在、おもて面磁気ストラ
イプ付き識別カードに関して、ＪＩＳＸ６３０１で
は、抗磁力が５２±４ＫＡ／ｍと決められていることか
ら、４８〜５６ＫＡ／ｍのものが好ましく、また、その
ための具体的な磁性材料としては、バリウムフェライト
を使用するとよい。

【００１３】パターン層４は、図１に例示したものであ
れば、通常のインキを使用して印刷することにより形成
できる。片面に通常の印刷を施した２枚のコアシートを
準備し、いずれも印刷面を外側にして重ね、これらの上
下にオーバーシートを重ね、オーバーシート上に磁気ス
トライプを貼り付け、全体を加熱加圧して一体化してか
ら、印刷してパターン層４を形成し、印刷後、再度、全
体を加熱加圧して、表面を平らにならして、カードとす
る。印刷方式としては、平版オフセット印刷、グラビア
印刷、もしくはフレキソ印刷等の、印刷対象のシートに
直接印刷する方式が利用できるが、これら以外にも、転
写シートを使用して加圧および／または加熱により行な
う転写方式も利用できる。このほか、インキジェット方
式や電子写真方式も利用でき、以上のいずれも印刷の概
念に含めるものとする。

【００１４】上記の印刷を利用して、種々の印刷のバリ
エーションが行なえる。まず、見えやすく、偽造・改ざ
んがあった場合に判別しやすいという観点からは、形成
するパターン層４の色相は、磁気記録層３の色相と差が
大きい方が好ましい。しかし、可視化するための手段を
別に講じて、色相的な判別がしにくい色相や無色透明な
ものとすることもできる。赤外線や紫外線に感度のある
染料または顔料、導電性物質等の添加物を練り込んだイ
ンキを使用し、各々の添加物を検出する手段、例えば、
赤外線カメラの使用、紫外線照射による蛍光発光の検出
等により、パターンの判別を行なう。パターン層４のパ
ターンとしては、通常の文字、記号、取扱い会社の社章
やサービスマーク等、輪郭や色相で、目視で区別できる
パターンのほか、彩紋や細かい線、網点等を使用して形
成したものも使用できる。また、上記したような、赤外
線や紫外線に感度のある染料または顔料、導電性物質等
の添加物を配合したインキによる必ずしも目視できない
か、目立たないパターンであってもよい。パターン層４
のパターンは、磁気記録層３上と、磁気記録層３のない
基材２の露出部とにまたがって形成するが、磁気記録層
３上に文字「Ａ」が形成され、磁気記録層３のない基材
２の露出部に文字「Ｂ」が形成されるような文字どうし
の間が磁気記録層３と、磁気記録層３のない基材２の露
出部との境界になるような配置よりも、図１に示したよ
うに、文字の上下の中央が磁気記録層３上と、磁気記録
層３のない基材２の露出部との境界上になるよう形成す
ると、偽造・改ざんの困難性が高まるので、好ましい。
前述の赤外線や紫外線に感度のある染料または顔料、導
電性物質等の添加物を用いて、パターン部に、それらの
物理的読み取り可能なパターンを形成しておいて、パタ
ーン層のうち磁気記録層３上にある部分から読み取れる
信号と、磁気記録層３のない基材２の露出部上のパター
ン層から読み取れる信号とを検出して、両者が揃ってい
ることにより、真正なパターンと見なすこともできる。

【００１５】パターン層４は、上記した印刷による以外
に、金属薄膜を転写層として有する転写シートを使用し
た転写によっても形成できる。転写シートとしては、ポ
リエステルフィルム等に離型層を積層した離型シートを
転写シートのベースとして、その離型層上に、透明樹脂
保護層、および金属薄膜層を順に形成し、さらに接着剤
層を積層して準備した転写シート等を使用する。このよ
うな転写シートを使用して金属薄膜からなるパターン層
４を形成するには、蒸着またはスパッタリングの際にマ
スクを使用して、パターン状の金属薄膜を形成する方
法、もしくは一様均一に形成した金属薄膜をレジストを
用いたエッチング法により、パターン状に形成する方法
が利用でき、これらの方法においては、転写シート上に
予めパターンが形成される。または、金属薄膜は一様均
一に形成しておき、転写の際にパターン状に転写させる
やり方も利用できる。金属薄膜層上に接着剤層をパター
ン状に形成する方法、もしくは転写の際の押し型として
パターン状のものを準備し、パターン状に転写する方法
が利用できる。

【００１６】さらにパターン層４としては、ホログラム
や回折格子等の光回折構造を持つ光回折構造体を、転写
または貼付けにより適用しても、形成することができ
る。図３に示すように、光回折構造体１１は、光回折構
造を有する光回折構造形成層１４の裏面側（観察者側か
ら見た場合の）に金属薄膜等の光反射性層１３、および
接着剤層１２が順に積層され、表側の最表面に透明保護
層１５が積層されたものである。この光回折構造体１１
は、図の上方からの入射光を光反射性層１３で反射する
ので、反射型のものである。光回折構造体は透明型のも
のも使用できる。透明型の場合は、光反射性層１３に代
えて、光回折構造形成層１４とは光の屈折率の異なる透
明薄膜が積層されたものである。光回折構造体１１の各
層、およびパターン化、基材２への適用方法について、
次に述べる。

【００１７】光回折構造形成層１４は、透明な合成樹脂
の片面、通常は汚染や損傷をさける意味で通常、下面に
光回折構造の微細な凹凸を有しているか、あるいは体積
ホログラムのように、内部に回折格子を有している。表
面に微細な凹凸を有する前者は、熱プレス等の方式で複
製するのに適している。光回折構造としては、平面ホロ
グラム、体積ホログラムのいずれも使用でき、レリーフ
ホログラム、リップマンホログラム、フレネルホログラ
ム、フラウンホウファーホログラム、レンズレスフーリ
エ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム（イメージ
ホログラム等）、白色光再生ホログラム（レインボーホ
ログラム）、カラーホログラム、コンピュータホログラ
ム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログ
ラム、ホログラフィックステレオグラクム、ホログラフ
ィック回折格子、電子線直接描画等により機械的に形成
された回折格子が挙げられる。

【００１８】光回折構造形成層１４を構成する素材とし
ては、光回折構造の凹凸を注型や型押しで再現できる熱
可塑性樹脂、硬化性樹脂、または光回折構造情報に応じ
て硬化部と未硬化部とを成形することができる感光性樹
脂組成物が利用できる。具体的には、例えば、ポリ塩化
ビニル、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリ
スチレン、またはポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、
不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステ
ル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メ
タ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、
メラミン（メタ）アクリレート、またはトリアジン系ア
クリレート等の熱硬化性樹脂であり、それぞれの単独、
熱可塑性樹脂どうし、または熱硬化性樹脂同志の混合、
もしくは熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合等であって
もよい。ラジカル重合性不飽和基を有し、熱成形性を有
するものや、ラジカル重合性不飽和モノマーを添加した
電離放射線硬化性樹脂組成物も利用できる。光回折構造
形成層１４の厚みは０．１〜６μｍ、より好ましくは、
０．１〜４μｍであることが好ましい。

【００１９】光反射性層１３の役割は、その上方にある
ホログラム層等の光回折構造形成層１４の光回折模様の
視認性を高める事である。光反射性層１３は、通常、金
属光沢を有する金属元素の蒸着、スパッタリングにより
得られる金属の薄膜であるが、メッキ等によっても形成
できる。光反射性層１３を、金属の薄膜で構成する場合
には、アルミニウム、クロム、ニッケル、金、銀、白
金、亜鉛、または錫等が特に好ましく、２００〜１００
０Å程度の厚みになるよう、通常は、蒸着、スパッタリ
ング等により設ける。このような光反射性層１３を背面
に有するホログラムは、光の反射により観察することが
できる。光反射性層１３はまた、その膜厚にもよるが、
下地を隠蔽する働きもある。

【００２０】透明型の場合、光回折構造形成層１４の裏
面には、光回折構造形成層１４を構成する樹脂とは光の
屈折率が異なる物質の透明薄膜を形成して光の屈折を起
こさせ、ホログラム等の光回折模様の視認性を付与する
ことができる。具体的には、光回折構造形成層１４と比
べて、光の屈折率の高い薄膜と屈折率の低い薄膜とがあ
り、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｓｂ ₂Ｓ₃、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ₂、等が
あり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ₂、ＡｌＦ₃
がある。アルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜
も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出てくるの
で、上記のような光回折構造形成層１４とは光の屈折率
が異なる物質からなる透明な薄膜と同じ効果を発揮で
き、使用できる。このような透明薄膜を裏面に形成した
ものは透明型であって、下層を透視することができるの
で、下層には、文字、パターン等が形成してもよい。

【００２１】光回折構造形成層１４には、透明保護層１
５を積層することが好ましい。透明保護層１５を形成す
る樹脂としては、熱可塑性のものも使用し得るが、熱硬
化性樹脂を使用する熱硬化性樹脂組成物、あるいは紫外
線又は電子線照射により硬化する電離放射線硬化性樹脂
組成物等の硬化性の化合物を用い、塗布後に加熱した
り、電離放射線を照射して架橋硬化させることにより、
さらに物理的、化学的な諸性能を向上させることができ
る。透明保護層１５の厚みは保護機能の確保と、一方で
厚みを減らしたい要望とから０．５〜４μｍとすること
が好ましい。このように薄い膜で保護機能を発揮させる
ためには、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて架橋硬
化させて得られるものが特に好ましい。ここで、電離放
射線硬化性樹脂組成物としては、分子中に重合性不飽和
結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴ
マー、及び／又はモノマーを適宜に混合したものであ
る。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子
を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指
し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。次に、電離放
射線硬化性樹脂組成物を構成する成分について説明す
る。

【００２２】電離放射線硬化性樹脂組成物中のプレポリ
マー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポ
リエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。これらのプレポリマー、オリ
ゴマーに、多官能モノマー、または単官能モノマーを必
要に応じて１種若しくは２種以上を混合して用いるが、
電離放射線硬化性樹脂組成物に通常の塗布適性を与える
ために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを５重量％
以上、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９
５重量％以下とするのが好ましい。

【００２３】電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布し、硬
化させたときのフレキシビリティーが要求されるとき
は、モノマー量を減らすか、官能基の数が１又は２のア
クリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化
性樹脂組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐
熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が３つ
以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化
性樹脂組成物の設計が可能である。ここで、官能基が１
のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヘキ
シルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙
げられる。官能基が２のものとして、エチレングリコー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レートが挙げられる。官能基が３以上のものとして、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレ
リート等が挙げられる。

【００２４】電離放射線硬化性樹脂組成物の塗布後の硬
化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や
光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジ
カル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフ
ェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合し
て用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系
の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム
塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メ
タセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単
独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、
電離放射線硬化性樹脂組成物１００重量部に対し、０．
１〜１０重量部である。

【００２５】接着剤層１２の素材としては、光反射性層
１３（または透明薄膜）との接着性および貼る対象とな
るカード基材２や磁気記録層３の表面との接着性のよい
ものを選択して使用する。具体的な素材としては、塩化
ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル／酢酸ビ
ニル共重合体系樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、もしくは
ゴム変成物等が挙げられ、これらのうちから単独もしく
は混合して使用することができる。上記の樹脂は適宜な
溶媒に溶解させ、ロールコーティング等により塗布して
乾燥させ、接着剤層１２とする。接着剤層の厚みは、
０．５〜５μｍ、より好ましくは１．５〜３μｍであ
る。

【００２６】基材２上に、光回折構造体をパターン状に
適用するには、大別すると、光回折構造体をパターン状
に作るか、または光回折構造体自体をパターン化するこ
とはせず、転写の際にパターン状に転写する。光回折構
造体をパターン状に作るには、例えば、光回折構造形成
層１４そのものをパターン状に作る方法か、または光回
折構造形成層１４そのものは、パターン化せず、裏面に
形成する光反射性層１３または光回折構造形成層１４を
構成する樹脂とは光の屈折率が異なる物質の透明薄膜を
パターン状に形成する方法がある。

【００２７】光回折構造体をパターン状に作る方法とし
て、光回折構造形成層１４をパターン状に作る方法があ
り、光回折構造形成層１４の素材により、次のような方
法が利用できる。素材が熱可塑性樹脂の場合には、その
熱可塑性樹脂を含むインキを印刷法により、パターン状
に形成できる。素材が熱硬化性樹脂の場合には、主剤を
一様均一に適用しておき、硬化剤をパターン状に与えて
硬化させ、未硬化部分を溶解除去するとよい。素材が電
離放射線硬化性樹脂組成物の場合には、電離放射線をマ
スクを用いる等してパターン状に照射して硬化させ、未
硬化部分を溶解除去する方法が利用できる。あるいは、
いずれの樹脂の場合も、一旦、一様均一に適用してお
き、マスクを介してサンドブラスト等により、パターン
化する方法も利用できる。

【００２８】光回折構造体をパターン状に作る別の方法
として、光回折構造形成層１４そのものは、パターン化
せず、裏面に形成する光反射性層１３または光回折構造
形成層１４を構成する樹脂とは光の屈折率が異なる物質
の透明薄膜をパターン状に形成する方法がある。例え
ば、光反射性層および透明薄膜を気相で形成する際に、
マスクを介して行なう方法か、一旦、一様均一に形成し
ておいて、レジストを利用したエッチングによりパター
ン化する方法が利用できる。あるいは、光回折構造形成
層１４中に、光回折構造を有する区域をパターン化する
方法も利用できる。干渉縞を露光する際に、マスクを使
用してパターン状に露光するか、一旦、干渉縞を全面に
露光した後に、マスクを使用して非パターン部に単なる
露光を行ない、記録された干渉縞を解消するやり方が利
用できる。

【００２９】光回折構造体自体はパターン化せず、転写
の際にパターン状に転写する方法としては、接着剤層を
パターン状に形成する方法、もしくは転写の際の押し型
としてパターン状のものを準備して転写する方法が利用
できる。

【００３０】光回折構造１１の基材２への適用に当たっ
ては、図４に示すように、仮の基材シート１７の下面に
離型層１６を積層した離型シートに、透明保護層１５、
光回折構造形成層１４、光反射性層１３（または透明薄
膜）、および接着剤層１２を順に、かつ剥離可能に積層
した転写シート２０を準備して使用し、転写するとよ
い。あるいは、図５に示すように、透明保護層１５、光
回折構造形成層１４、光反射性層１３（または透明薄
膜）、および接着剤層１２を積層したものに、必要に応
じ、接着剤層１２側にセパレーターシート１８を、また
透明保護層１５側に剥離可能な保護フィルム１９を積層
した、ラベル２１を準備しておき、離型シート１８や保
護フィルム１９を剥離して、積層を行なわせてもよい。
これらの転写シート２０、およびラベル２１の、層１
４、１４、１３、および１２を転写または貼付けるため
の構造自体は、従来からなるもので、種々のバリエーシ
ョンがあり得る。

【００３１】なお、パターン層４を形成するための印
刷、金属薄膜の適用、およびホログラムや回折格子等の
光回折構造を持つ光回折構造体の適用の各手法は、単独
でも、任意に２つ以上組み合わせて利用することができ
る。例えば、金属薄膜のパターンと印刷パターンを重ね
たものや、光回折構造体のパターンと印刷パターンを重
ねたものを、いずれも印刷パターンを上にして適用する
ことができる。

【００３２】本発明の磁気記録媒体には、このほか、こ
の分野で用いられる各種の手段を形成してあってもよ
く、例えば、必要な文字や説明等の印刷層、エンボス文
字、筆記性層、光学記録可能な光記録層、ＩＣまたはＬ
ＳＩ等を任意に選択して、適宜な位置に積層したり、埋
設したりして形成してもよい。

【００３３】

【発明の効果】第１の発明によれば、磁気記録層と基材
の双方にまたがってパターン層が形成されているため、
偽造や改ざんが困難な磁気記録媒体を提供できる。第２
の発明によれば、第１の発明の効果に加え、印刷手法を
利用して製造するのに適した磁気記録媒体を提供でき
る。第３の発明によれば、第１の発明の効果に加え、金
属薄膜を別に準備する必要があるため、偽造や改ざんが
より困難な磁気記録媒体を提供できる。第４の発明によ
れば、第１の発明の効果に加え、製造が難しい光回折構
造体を適用するため、偽造や改ざんがより困難な磁気記
録媒体を提供できる。第５の発明によれば、第４の発明
とほぼ同様な効果を有し、ホログラム模様を有した、外
観がより複雑で、偽造や改ざんも一層困難な磁気記録媒
体を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カードへの適用例の平面図である。

【図２】カードへの適用例の断面図である。

【図３】パターン層に用いるホログラム等の光回折構造
体の断面図である。

【図４】光回折構造体を転写シートの構成とした例を示
す断面図である。

【図５】光回折構造体をラベルの構成とした例を示す断
面図である。

【符号の説明】

１磁気記録媒体２基材（２Ｃ；コアシート、２Ｏ；オーバーシー
ト）３磁気記録層４パターン層５印刷層１１光回折構造体１２接着剤層１３光反射性層（または透明薄膜）１４光回折構造形成層１５透明保護層１６離型層１７基材シート１８セパレーターシート１９保護フィルム２０転写シート２１ラベル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０６Ｋ 19/00 ＢＦターム(参考） 2C005 HA01 JA02 JA08 JA26 JB08 JB09 JB11 JB12 JB13 JB19 JB21 JB25 KA02 KA08 KA15 KA31 KA37 KA40 KA41 KA48 LA02 LA11 LA14 LA18 LA20 LA24 LA27 LA28 LA30 LB16 2K008 AA13 EE01 EE04 EE07 FF13 FF14 GG05 HH18 HH25 5B035 AA15 BA05 BB02 BB05 BC00 5D006 AA02 AA05 BA19 DA01 FA00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録層が基材上の一部を覆って積層
されており、前記基材の前記磁気記録層が覆っていない
部分と前記磁気記録層との境界上に、パターン層が形成
されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記パターン層が印刷パターンであるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記パターン層が金属薄膜のパターンか
らなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記パターン層が光回折構造体のパター
ンからなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
体。
【請求項５】前記光回折構造体がホログラムであるこ
とを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体。