JP7146067B2 - Sglt阻害剤の合成に有用な中間体の製造 - Google Patents

Sglt阻害剤の合成に有用な中間体の製造 Download PDF

Info

Publication number
JP7146067B2
JP7146067B2 JP2021507818A JP2021507818A JP7146067B2 JP 7146067 B2 JP7146067 B2 JP 7146067B2 JP 2021507818 A JP2021507818 A JP 2021507818A JP 2021507818 A JP2021507818 A JP 2021507818A JP 7146067 B2 JP7146067 B2 JP 7146067B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
alkyl
alkoxy
halogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021507818A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021534174A (ja
Inventor
チン・リ・イ
ヒ・キュン・ユン
Original Assignee
デーウン ファーマシューティカル カンパニー リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by デーウン ファーマシューティカル カンパニー リミテッド filed Critical デーウン ファーマシューティカル カンパニー リミテッド
Publication of JP2021534174A publication Critical patent/JP2021534174A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7146067B2 publication Critical patent/JP7146067B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/78Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
    • C07D307/82Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/78Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
    • C07D307/79Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D407/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00
    • C07D407/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings
    • C07D407/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D405/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/04Ortho-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H1/00Processes for the preparation of sugar derivatives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07HSUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H7/00Compounds containing non-saccharide radicals linked to saccharide radicals by a carbon-to-carbon bond
    • C07H7/06Heterocyclic radicals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

本発明は、SGLT阻害剤で用いられ得るジフェニルメタン誘導体の合成に有用な中間体の製造に関する。
ナトリウム-依存性グルコース共輸送体(SGLT)は、濃度勾配に逆らうグルコースの輸送と同時に濃度勾配によるNa+の輸送が起こるようにする。現在、2個の重要なSGLTイン型(isoform)がクローニングされ、SGLT1及びSGLT2として知られている。SGLT1は、腸、腎臓及び心臓に位置し、心臓のグルコースの輸送を調節する。SGLT1は、高親和性の低容量輸送体であるため、腎臓におけるグルコース再吸収の一部分のみを担当する。これと対照的に、SGLT2は、初期近位曲尿細管内の上皮細胞のアピカ(apica)ドメインに主に位置する低親和性の高容量輸送体である。健康な個体の場合、腎臓糸球体において濾過される血漿グルコースのうち99%以上が再吸収され、濾過された総グルコースの1%未満が尿で排出される。腎臓におけるグルコース再吸収の90%がSGLT2により促進され、残りの10%が後期近位直細管内のSGLT1により媒介されるものと推定される。SGLT2の遺伝的突然変異は、炭水化物の代謝に対して明確な悪影響はないが、突然変異によって140g/日程度の増加された腎臓のグルコース分泌を誘発する。ヒト突然変異研究によると、SGLT2は、大部分の腎臓におけるグルコース再吸収を担うものと推定されるため、治療研究の対象となってきた。
大韓民国公開特許公報第2017-0142904号は、SGLT2に対する抑制活性を有するジフェニルメタン誘導体の製造方法を開示している。前記文献は、主要グループ別に個別的に合成した後にカップリングさせる収束的合成(convergent synthesis)方式でジフェニルメタン誘導体を製造するため、従来文献に開示された直線的合成(linear synthesis)方式に比べて合成経路が簡潔で収率を高めることができ、直線的合成経路が内在している危険要素を減らし得るという点を開示している。
しかし、大韓民国公開特許公報第2017-0142904号によるジフェニルメタン誘導体の製造方法は、クロロクロム酸ピリジウム(Pyridinium chlorochromate、PCC)のような重金属を用いて安全性管理に負担を与え、グリニャール試薬(Grignard reagent)を別に製造する工程が必要なので、追加的工程による費用負担が発生するだけでなく、グリニャール試薬の製造工程から発生する類縁物質が最終産物に至るまで含まれるので、類縁物質の管理が必要である。また、中間体とグリニャール試薬との反応後に生成される産物に追加の類縁物質が含まれるので、このような類縁物質の再処理工程が必要であるという問題がある。
したがって、既存工程の短所を克服するための新しい中間体の製造方法の開発が必要である。
大韓民国公開特許公報第2017-0142904号
本発明は、SGLT阻害剤で用いられ得るジフェニルメタン誘導体の合成に有用な中間体の改善された製造方法に関する。
本発明者らは、SGLT阻害剤で用いられ得るジフェニルメタン誘導体の合成に有用な中間体の製造工程を改善した。
具体的に、
最終目的化合物であると同時にSGLT阻害剤で用いられる活性成分である化学式1の化合物は、次の通りである。
Figure 0007146067000001
前記式で、
Aは、酸素(O)又は硫黄(S)であり、
Rは、ヒドロキシメチル又はC1-7アルキルチオであり、
nは、1又は2であり、
X’は、ハロゲン(例えば、F、Cl、Br又はI)又はC1-7アルキルであり、
Bは、
Figure 0007146067000002
又は
Figure 0007146067000003
であるが、
このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
本発明の具体例で、前記環B-1は、下記からなる群より選択され得る:
Figure 0007146067000004
前記式で、R7は、水素又はC1-7アルキルであり;R8a及びR8bは、それぞれ独立的に、C1-7アルキルであるか、互いに連結されて5-10員ヘテロシクロアルキル(N、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有)を形成する。
他の具体例で、前記環B-2は、下記からなる群より選択され得る:
Figure 0007146067000005
好ましくは、前記化学式1の化合物は、下記化学式1aの化合物又は下記化学式1bで表示される化合物であってもよい:
Figure 0007146067000006
Figure 0007146067000007
前記式で、A、B、X’及びnは、前記化学式1で定義した通りであり、化学式1bで、Rは、C1-7アルキルチオである。
前記化学式1aの化合物の好ましい一例によると、前記Aが酸素であり;前記nが1であり;前記X’がハロゲンであり;前記Bがハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル、C3-10シクロアルキル及びC1-7アルコキシからなる群より選択された一つ又は二つの置換基に置換されるか非置換されたフェニルであってもよい。
また、前記化学式1a及び1bの化合物は、化学式8の化合物と化学式7の化合物(Y位置)の結合部位がα-形態、β-形態又はこれらのラセミック形態の化合物であってもよい。
例えば、前記化学式1aの化合物は、下記化学式1abの化合物であってもよい。
Figure 0007146067000008
前記式で、A、B、n及びX’は、前記定義した通りである。
例えば、前記化学式1bの化合物は、下記化学式1bbの化合物であってもよい。
Figure 0007146067000009
前記式で、R、B、n及びX’は、前記定義した通りである。
本発明は、前記化学式1のジフェニルメタン誘導体の製造のために用いられる中間体である化学式7の化合物の製造方法を提供する。
具体的に、本発明は、
化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得することを含む、
化学式7の化合物の製造方法を提供する:
Figure 0007146067000010
前記式で、
nは、1又は2であり、
X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり、
X’は、ハロゲン又はC1-7アルキルであり、
Bは、
Figure 0007146067000011
又は
Figure 0007146067000012
であるが、
このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
本明細書で「ハロゲン」とは、フッ素(F)、塩素(Cl)、臭素(Br)又はヨウ素(I)を意味する。
一具体例で、
nが1であり、
X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
Bは、
Figure 0007146067000013
であるが、
このとき、Ra及びRbは、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル、C3-10シクロアルキル又はC1-7アルコキシである化学式7の化合物の製造方法が提供される。
より具体的な例で、
nが1であり、
Xは、塩素であり、
Yは、臭素であり、
Halは、塩素であり、
Bは、
Figure 0007146067000014
である
化学式7の化合物の製造方法が提供される。
前記化学式7の化合物を製造するために出発物質として用いられる化学式2の化合物は、大韓民国公開特許公報第2017-0142904号でその合成方法を詳しく開示している。
下では、化学式2の化合物から化学式7の化合物の合成過程をより詳しく説明する。
化学式3の化合物の合成
反応式1
Figure 0007146067000015
化学式2の化合物をカルボキシル化して化学式3の化合物を収得することができる。前記反応は、これに制限されるものではないが、塩基条件下で実行可能である。塩基は、好ましくは、無機塩基であってもよく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのような無機塩基を用いることができる。これに制限されるものではないが、化学式2の化合物1当量を基準として、塩基は2~4当量を用いることできる。また、前記反応に用いられる溶媒としては、極性溶媒が好ましく、例えば、C1-12アルコール、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、アセトニトリル、アセトン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド(DMF)などを用いることができる。溶媒は、5~15v/w%の濃度で使用可能である。一方、前記反応時の温度条件は特に制限されず、例えば、前記反応は、15~30℃で実行可能である。反応時間は、1~3時間、例えば、2時間の間行うことができる。
化学式4の化合物の合成
反応式2
Figure 0007146067000016
化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得することができる。生成された化学式4の化合物は、追加の精製過程なしに次の反応に用いられる。
前記反応には、触媒を用いることができ、触媒は、化学式3の化合物1当量を基準として、0.01当量~0.4当量で用いられる。使用可能な触媒は、これに制限されるものではないが、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N-メチル-N-フェニル-アセトアミド(N-methyl-N-phenyl-acetamide)、N-メチル-N-フェニル-ホルムアミド(N-methyl-N-phenyl-formamide)などが挙げられる。
オキサリルハライドは、化学式3の化合物1当量を基準として、0.5~1.5当量を用いることができる。
反応溶媒としては、これに制限されるものではないが、非プロント性溶媒(aprotic solvent)を用いることができる。例えば、ジクロロメタン(dichloromethane)、ジクロロエタン(dichloroethane)、クロロホルム(CHCl)、四塩化炭素(CCl)、トルエン、ヘキサン、エーテルが非プロント性溶媒に含まれる。
前記反応の条件は、これに制限されるものではないが、好ましくは、窒素雰囲気下で行われ得る。また、反応温度は、これに制限されるものではないが、0~30℃で実行可能である。前記反応は、30分~2時間の間行われ得る。例えば、室温の撹拌下で前記反応を行うことができる。反応後、-20℃~-10℃で冷却し得る。
化学式6の化合物の合成
反応式3
Figure 0007146067000017
化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を製造する。
例えば、前記化学式4の化合物に化学式5の化合物を投入して撹拌し、反応混合物に触媒を投入して撹拌して、化学式6の化合物を製造する。
前記反応で用いられる溶媒の種類は特に制限されないが、非プロント性溶媒(aprotic solvent)を用いることができる。例えば、ジクロロメタン(dichloromethane)、ジクロロエタン(dichloroethane)、クロロホルム(CHCl)、四塩化炭素(CCl)、トルエン、ヘキサン、エーテルが非プロント性溶媒に含まれる。
前記触媒化合物としては、ルイス酸、例えば、AlCl、FeCl、ZnCl、AlBr、AlI、PPA(phenylphosphonic acid)などを用いることができるが、これに制限されるものではない。前記触媒は、化学式4の化合物1当量に対して、0.5~1.5当量の範囲、例えば、1.2当量で用いられる。
これに制限されるものではないが、好ましくは、化学式4の化合物と化学式5の化合物の反応は、-20℃~-10℃で行われ得る。前記温度で行われるとき、収率と純度の側面から有利である。
化学式5の化合物は、合成するか又は市販中のものを用いることができる。これに制限されるものではないが、化学式4の化合物1当量に対して、化学式5の化合物は、1.5~2.5当量の範囲、例えば、2当量で反応させ得る。
反応式3の過程は、グリニャール試薬を使用せずに化学式6の化合物を合成することができるので、従来技術に比べてグリニャール試薬の製造工程に所要される時間及びコストを節減し、グリニャール試薬の合成過程から発生するベンゼンハライド系列の類縁物質の発生を基本的に防止できる。
化学式7の化合物の合成
反応式4
Figure 0007146067000018
化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得する。このとき、還元剤としては、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン、t-ブチルジメチルシラン、水素化ホウ素ナトリウムなどが可能であり、前記酸としては、ボロントリフルオライドジエチルエーテル、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、塩化アルミニウム、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが可能である。前記還元剤は、2~5当量範囲、より好ましくは、約3当量で用いられ得、前記酸は、1.5~3当量、より好ましくは、約2当量で用いられ得る。このときの反応は、0℃~250℃範囲の温度で2~5時間の間行われ得る。また、反応溶媒としては、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、アセトニトリルなどの単一溶媒、又はジクロロメタン/アセトニトリル(1:1)、1,2-ジクロロエタン/アセトニトリル(1:1)などの混合溶媒が用いられ得る。
例えば、化学式6(1.0eq)の化合物をアセトニトリル、ジクロロメタン(1:1、20v/w)、三フッ化ホウ素エーテラート(BF・OEt)(2.5eq)、トリエチルシラン(EtSiH)(3eq)、25℃条件下で反応させると、化学式7の化合物を得ることができる。
化学式6の化合物を脱酸素化させる工程は、ヒドロキシ基を除去する既存工程(大韓民国公開特許公報第2017-0142904号の化学式6aの化合物からヒドロキシ基を除去して化学式6の化合物を収得するステップ)と比較して、類縁物質の生成がほとんどないため、既存工程で類縁物質を含んだ反応産物の再処理が不必要になる。
このように、上述した本発明による化学式7の化合物の合成方法は、既存に比べて合成工程を減らすことができ、グリニャール試薬の合成によって追加工程が必要であり且つ類縁物質の管理が必要な問題点を解消した。また、反応式4の脱酸素化工程は、類縁物質の生成が最小化されるので、反応産物の再処理が不必要になって工程を簡素化させ得る。
このように合成された化学式7の化合物は、化学式1の化合物の製造のために用いられ得る。
本発明は、
化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得し、
化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させることを含む、
化学式1aの化合物の製造方法を提供する:
Figure 0007146067000019
Figure 0007146067000020
前記式で、
Aは、酸素(O)又は硫黄(S)であり;
PGは、保護基であり、
X’は、ハロゲン又はC1-7アルキルであり;
nは、1又は2であり、
X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
Bは、
Figure 0007146067000021
又は
Figure 0007146067000022
であるが、
このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
本発明の一具体例で、前記化学式1aの化合物は、下記化学式1abの立体構造を有するものであってもよい。
Figure 0007146067000023
前記式で、A、B、n及びX’は、前記定義した通りである。
化学式7の化合物から化学式1の化合物の製造に対しては、大韓民国公開特許公報第2017-0142904号で詳細に説明している。
以下、化学式7の化合物から化学式1aの化合物及び化学式1bの化合物を製造する過程に対して説明する。
化学式1aの化合物の合成
化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させた後、脱保護及び還元させる過程を経て化学式1aの化合物を製造することができる。
前記化学式7の化合物と前記化学式8の化合物の反応は、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、i-プロピルマグネシウムクロリド(i-PrMgCl)などの存在下で行われ得る。
前記化学式7の化合物を前記化学式8の化合物と反応させて、下記化学式9aの化合物を収得することができる:
Figure 0007146067000024
前記式で、Aは、酸素又は硫黄であり;nは、1又は2であり;Xは、ハロゲンであり;PGは、保護基であり;Bは、前記化学式1で定義した通りである。
前記保護基は、例えば、トリメチルシリル基(TMS)、ベンジル基又はアセチル基であってもよい。
その後、前記化学式9aの化合物を脱保護して前記化学式1aの化合物を収得することができる。
例えば、前記保護基がトリメチルシリル基(TMS)である場合、前記化学式7aの化合物にメタンスルホン酸(CHSOH)又はトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート(TMSOTf)を加えて脱保護を行い、前記化学式1aの化合物を収得することができる。
また、前記脱保護以後に還元を追加で行って前記化学式1aの化合物を収得してもよい。このとき、溶媒としてジクロロメタン(CHCl)及びアセトニトリル(CHCN)を組み合わせて用いると良い。
以上のステップを経て収得した化学式1aの化合物は、化学式8の化合物と化学式7の化合物(Y位置)の結合部位がα-形態とβ-形態が混合された化合物であってもよい。
したがって、このうち希望するα-又はβ-形態のみを収得するために追加的な分離を行うことができる。すなわち、前記脱保護及び還元以後、又は前記脱保護及び還元過程中に、化学式8の化合物と化学式7の化合物(Y位置)の結合部位がβ-形態である化合物のみを分離することを追加で行うことができる。
例えば、前記脱保護及び還元の結果得た化合物に保護基を導入した後、アルコール、酢酸エチル又はジクロロメタン中で加熱して生成される沈殿物を分離した後に脱保護させ、化学式8の化合物と化学式7の化合物(Y位置)の結合部位がβ-形態である化合物のみを収得することができる。
具体的に、前記脱保護及び還元の結果得た化合物でヒドロキシ基をアセチル基などで保護させた後、C1-6アルコール溶媒(メタノール、エタノール又はイソプロパノールなど)中で加熱及び撹拌させて生成される沈殿物を分離することで、β-形態の下記化学式9eの化合物のみを得ることができる:
Figure 0007146067000025
前記式で、Aは、酸素又は硫黄であり;nは、1又は2であり;Xは、ハロゲンであり;PGは、保護基であり;Bは、前記化学式1で定義した通りである。
その後、前記化学式9eの化合物を脱保護させて、化学式9fの化合物(β-形態)を最終的に収得することができ、その後、選択的にアルキル化反応を進行して下記化学式9gの化合物を得ることができる。
Figure 0007146067000026
Figure 0007146067000027
前記式で、A、B、n及びX’は、前記化学式1で定義した通りであり、Xaは、C1-7アルキルである。
本発明の一具体例によると、
化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
化学式7の化合物を化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させて下記化学式9aの化合物を得るステップ;
前記化学式9aの化合物をメタノール存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて下記化学式9bの化合物を得るステップ;
前記化学式9bの化合物を還元させて下記化学式9cの化合物を得るステップ;及び
前記化学式9cの化合物に保護基を導入し、再結晶化した後に脱保護させ、下記化学式9fの化合物を収得するステップ(例えば、化学式9cの化合物に保護基を導入した後、アルコール、酢酸エチル又はジクロロメタン中で加熱して生成される沈殿物を分離して脱保護させ、下記化学式9fの化合物を収得するステップ)を含んで行われ得る。
Figure 0007146067000028
Figure 0007146067000029
Figure 0007146067000030
Figure 0007146067000031
前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、前記化学式1aで定義した通りである。
例えば、前記再結晶化ステップは、アルコール(例えば、C1-6アルコール)、酢酸エチル又はジクロロメタンからなる群より選択される溶媒を用いて行われ得る。
化学式7の化合物と化学式8の化合物反応後には、蒸発、抽出、乾燥、濾過などを追加で経て前記化学式9aの化合物を得た後、次のステップに用いることが好ましい。
化学式9aの化合物から化学式9bの化合物を得る過程で用いられる酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、塩化水素ガスなどが可能である。
本発明の他の具体例では、
化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
前記化学式7の化合物を前記化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させ、別途の精製なしにメタノールの存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて、下記化学式9bの化合物を得るステップ;
前記化学式9bの化合物を還元させて下記化学式9cの化合物を得るステップ;
前記化学式9cの化合物に保護基を導入して再結晶化して化学式9eの化合物を分離するステップ;及び
前記化学式9eの化合物を脱保護させて下記化学式9fの化合物を得るステップを含んで行われ得る。
Figure 0007146067000032
Figure 0007146067000033
Figure 0007146067000034
Figure 0007146067000035
前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、前記化学式1aで定義した通りである。
例えば、前記再結晶化ステップは、アルコール(例えば、C1-6アルコール)、酢酸エチル又はジクロロメタンからなる群より選択される溶媒を用いて行われ得る。
前記化学式7の化合物と前記化学式8の化合物の反応ステップで、まず、結合反応が行われ、このとき、前記化学式7の化合物1当量に対して、前記化学式8の化合物及び前記反応試薬(すなわち、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリド)がそれぞれ1.5~2.5当量範囲、より好ましくは、1.7~2.3当量範囲、特に、約2.0当量で反応に用いられ得る。このときの反応は、-80℃~-10℃範囲、より好ましくは、-70℃~-60℃範囲の温度で、1~12時間又は1~3時間の間行われ得る。また、反応溶媒としては、テトラヒドロフラン又はエーテルの単一溶媒や、テトラヒドロフラン/トルエン(1:1)混合溶媒などが用いられ得る。
また、結合反応後には、脱保護及びメチル化反応が酸条件で行われる。このとき、用いられる酸としては、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、塩化水素ガスなどが挙げられ、前記化学式6の化合物1当量に対して、2~5当量範囲、より好ましくは、3当量の酸が用いられ得る。このときの反応は、0~40℃範囲、より好ましくは、20~30℃範囲の温度で、6~24時間又は6~12時間の間行われ得る。また、反応溶媒としては、メタノールなどが用いられ得る。
その後、化学式9bの化合物を還元させて化学式9cの化合物を得るステップでは、還元剤と酸を用いて還元反応を行うことができる。前記還元剤としては、トリエチルシラン、トリイソプピルシラン、t-ブチルジメチルシラン、水素化ホウ素ナトリウムなどが可能であり、前記酸としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、塩化アルミニウム、トリフルオロ
酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが可能である。前記還元剤は、2~5当量範囲、より好ましくは、約3当量で用いられ得、前記酸は、1.5~3当量、より好ましくは、約2当量で用いられ得る。このときの反応は、-50℃~0℃範囲、より好ましくは、-20℃~-10℃範囲の温度で、2~12時間又は2~5時間の間行われ得る。また、反応溶媒としては、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、アセトニトリルなどの単一溶媒、又はジクロロメタン/アセトニトリル(1:1)、1,2-ジクロロエタン/アセトニトリル(1:1)などの混合溶媒が用いられ得る。
次に、化学式9cの化合物に保護基を導入して化学式9eの化合物(β-形態)のみを分離して脱保護させるステップが行われる。このとき、アセチル化剤及び塩基を用いた反応が行われ得る。前記アセチル化剤としては、塩化アセチル、臭化アセチル、無水酢酸などが挙げられ、前記塩基としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、4-ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。前記アセチル化剤は、4~12当量、より好ましくは、8当量範囲で用いられ得、前記塩基は、1~4当量範囲、より好ましくは、約1.5当量で用いられ得る。このときの反応は、0~50℃範囲、より好ましくは、20~30℃範囲の温度で、1~12時間又は1~3時間の間行われ得る。また、反応溶媒としては、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチル酢酸アミド、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルムなどが用いられ得る。その後、脱保護反応が行われ、このとき、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの試薬を2~12当量、より好ましくは、約5当量範囲で用いることができる。このときの反応は、0~50℃範囲、より好ましくは、20~30℃範囲の温度で、1~12時間又は1~3時間の間行われ得る。反応溶媒としては、メタノール/水(1:1~3:1)、ジクロロメタン/メタノール(1:1~1:2)、ジクロロメタン/エタノール(1:1~1:2)、テトラヒドロフラン/メタノール(1:1~1:2)、テトラヒドロフラン/エタノール(1:1~1:2)、テトラヒドロフラン/メタノール/水(1:1:3~2:1:3)、テトラヒドロフラン/エタノール/水(1:1:3~2:1:3)などが用いられ得る。
また他の具体例によると、
化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
前記化学式7の化合物を前記化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させ、別途の精製なしにメタノール存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて、下記化学式9bの化合物を得るステップ;
前記化学式9bの化合物に保護基を導入して下記化学式9dの化合物を得るステップ;
前記化学式9dを還元させて再結晶化して下記化学式9eの化合物を分離するステップ;及び
前記化学式9eの化合物を脱保護させて下記化学式9fの化合物を得るステップを含んで行われ得る。
Figure 0007146067000036
Figure 0007146067000037
Figure 0007146067000038
Figure 0007146067000039
前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、前記化学式1aで定義した通りである。
例えば、前記再結晶化ステップは、アルコール(例えば、C1-6アルコール)酢酸エチル又はジクロロメタンからなる群より選択される溶媒を用いて行われ得る。
前記化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて化学式9bの化合物を得るステップでは、結合反応、脱保護及びメチル化が行われ、このときの好ましい当量比、反応温度と溶媒などの条件は、前記具体例で例示した通りである。
化学式9bの化合物に保護基を導入して下記化学式9dの化合物を得るステップでは、化学式9bの化合物に保護基が導入され、このとき、アセチル化剤及び塩基を用いた反応が行われ得、好ましいアセチル化剤の種類、塩基の種類、当量比、反応温度と溶媒などの条件は、前記具体例で例示した通りである。
化学式9dを還元させて再結晶化して下記化学式9eの化合物(β-形態)のみを分離し、前記化学式9eの化合物を脱保護させて化学式9fの化合物を得るステップでは、まず、還元反応が行われ、このとき、還元剤と酸が用いられ得、好ましい還元剤の種類、酸の種類、当量比、反応温度と溶媒などの条件は、前記具体例で例示した通りである。
還元反応後に脱保護反応が行われ、このときの好ましい試薬の種類、当量比、反応温度と溶媒などの条件は、前記具体例で例示した通りである。
前記好ましい例示から分かるように、前記化学式9bの化合物を得る過程は、二つのステップで進行されてもよく、またはin-situ反応により一つのステップで行われることで最終収率を一層向上させ得る。また、in-situ反応により一つのステップで実行するときに、前記化学式9bの化合物を含有する未精製の濃縮残渣を得るか、又は結晶化を通じて前記化学式9bの化合物を固形分で収得して次のステップで用いることができ、後者の場合、反応副産物の除去を通じた品質向上及び水分含量の制御がより容易である。
また、前記化学式9bの化合物の合成後の精製過程を経て次のステップで用いることができ、例えば、(i)前記化学式9bの化合物を合成した後にトルエンなどの有機溶媒との共沸混合物(azotropic mixture)を形成し、濃縮過程を繰り返して残留水分を除去した後に得た残渣を次のステップで用いるか、又は(ii)前記化学式9bの化合物を合成した後に結晶化を行い、真空乾燥を通じて残留水分を除去して固形分を得た後に次のステップで用いることができる。
また、本発明は、化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップ以後に、アルキル化反応をさらに含むことができる。
その結果、前記化学式1で、X’は、C1-7アルキルであってもよい。
例えば、化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップ以後の生成物をメチルボロン酸と反応させて、X’がメチルである化学式1の化合物(化学式1aの化合物)を得ることができる。
また、本発明による化学式1aの化合物は、結晶形、無定形で又はこれらの混合物で製造され得るが、結晶形であるものが安定性及び非吸湿性の面から優れており製剤化に容易である物理化学的特性を有する点で好ましい。
したがって、本発明による化学式1aの化合物の製造方法は、化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップ以後に、多様な溶媒を用いた結晶化ステップを含むことができ、多様な結晶形の生成が可能である。大韓民国公開特許公報第2017-0142904号で多様な結晶形化合物とその生成方法を詳しく開示している。
一例として、前記結晶化に用いられる溶媒は、トルエン;酢酸エチル;ジクロロメタン;アセトン;アセトニトリル;2-プロパノール、テトラヒドロフラン;n-ヘキサン及びこれらの混合物(例えば、テトラヒドロフラン及びジクロロメタンの混合物、テトラヒドロフラン及びn-ヘキサンの混合物)からなる群より選択される溶媒を用いて行われ得る。
他の例として、前記結晶化に用いられる溶媒は、メタノール及び蒸溜水の混合物;メタノール及びn-ヘキサンの混合物;及びメタノール、ジクロロメタン及びn-ヘキサンの混合物のうちから選択され得る。
また他の例として、前記結晶化に用いられる溶媒は、エタノール、蒸溜水及びn-ヘキサンの混合物;及びテトラヒドロフラン及びトルエンの混合物のうちから選択され得る。
また他の例として、前記結晶化に用いられる溶媒は、エタノール及びn-ヘキサンの混合物であってもよい。
好ましい一例として、前記結晶化に用いられる溶媒は、トルエン、酢酸エチル、ジクロロメタン、テトラヒドロフランとジクロロメタンの混合物、及びテトラヒドロフランとn-ヘキサンの混合物からなる群より選択され得る。
また、本発明は、下記ステップを含む化学式1bの化合物(化学式1で、R=C1-7アルキルチオ、A=酸素)の製造方法を提供する。
化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得し、
化学式7の化合物を化学式9の化合物と反応させた後、還元させ、化学式10の化合物を収得し、
化学式10の化合物のフラノース環を酸性条件でピラノース環に形成した後、保護基を導入して、化学式11の化合物を収得し、
前記化学式11の化合物をチオ尿素で処理し、C1-7アルキルハライドと反応させた後、還元させることを含む、
化学式1bの化合物の製造方法。
Figure 0007146067000040
Figure 0007146067000041
Figure 0007146067000042
Figure 0007146067000043
Figure 0007146067000044
Figure 0007146067000045
Figure 0007146067000046
Figure 0007146067000047
Figure 0007146067000048
Figure 0007146067000049
前記式で、
Aは、酸素(O)又は硫黄(S)であり;
Rは、C1-7アルキルチオであり;
PGは、保護基であり、
X’は、ハロゲン又はC1-7アルキルであり;
nは、1又は2であり、
X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
Bは、
Figure 0007146067000050
又は
Figure 0007146067000051
であるが、
このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
化学式1bの化合物の製造方法で、化学式2の化合物から化学式7の化合物を製造するステップは、上述した化学式1aの化合物の製造方法と同一に行うことができる。
下では、化学式7の化合物から化学式1bの化合物を収得するまでの過程を説明する。
化学式10の化合物の製造
反応式5
Figure 0007146067000052
化学式7の化合物を化学式9の化合物と反応させた後、還元させ、化学式10の化合物を収得する。
化学式9の化合物は、公知された方法、例えば、WO2009/014970号に開示された方法によって製造され得る。
具体的に、前記化学式9の化合物は、L-キシロースから出発してWO2009/014970号に開示された方法によって製造され得る。
一例によると、前記化学式7の化合物を前記化学式9の化合物と反応させ、下記化学式10aの化合物を収得することができる。
Figure 0007146067000053
前記式で、B、n及びXは、前記化学式1で定義した通りである。
その後、前記化学式10aの化合物を還元させて前記化学式10の化合物を得ることができる。
化学式11の化合物の製造
反応式6
Figure 0007146067000054
化学式10の化合物のフラノース環を酸性条件でピラノース環に形成した後、保護基を導入して、化学式11の化合物を収得する。本ステップを通じて、グルコースグループを成すピラノース環を完成することができる。
前記保護基は、例えば、アセチル基であってもよい。
化学式12の化合物の製造
反応式7
Figure 0007146067000055
化学式11の化合物をチオ尿酸で処理し、C1-7アルキルハライドと反応させた後還元させる。
本ステップを通じて、最終化合物(化学式1bの化合物)にアルキルチオ基が導入され得る。前記C1-7アルキルハライドは、例えば、C1-7アルキルアイオダイドであってもよい。
また、前記ステップ以後に、アルキル化反応をさらに含むことができ、その結果、X’がC1-7アルキルである化学式1bの化合物を得ることができる。
本発明のまた他の様態によると、上述した製造方法によって製造された化合物の結晶形が提供される。
本発明による化学式7の化合物の合成方法は、グリニャール試薬の合成によって追加工程が必要であり且つ類縁物質の管理が必要であった既存合成工程の問題点を解消した。また、類縁物質の生成の最小化を通じて反応産物の再処理が不必要になって工程を簡素化させ得、これを通じて、ジフェニルメタン誘導体の生産収率を極大化させ得る。
以下、本発明を実施例を通じてより具体的に説明する。ただし、下記実施例は、本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の範囲がこれら実施例によって限定されるものではない。
以下の実施例に記載された略語の意味は下の通りである。
-DMF:N,N-ジメチルホルムアミド
-EtOH:エタノール
-Et3SiH:トリエチルシラン
-MC:ジクロロメタン
-MC/AN:ジクロロメタン及びアセトニトリル
-NaOH:水酸化ナトリウム
-RT又はrt:室温
反応模式図
Figure 0007146067000056
ステップ1:4-bromo-7-chloro-2,3-dihydrobenzofuran-6-carboxylic acid(化合物2)
Figure 0007146067000057
室温でエタノール(200mL)中のメチル4-ブロモ-7-クロロ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-6-カルボン酸(化合物1)(20.0g、68.6mmol)の混合物に4N水酸化ナトリウム(51.4mL、205.8mmol)を投入した。混合物を室温で2時間の間撹拌し、反応完結をTLCで確認した後、反応液に1N-HClを加えて(酸性pH~1.0)反応を終決させ、酢酸エチルEtOAcで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過及び真空濃縮して、表題化合物2(18.3g、44.4mmol、96.3%)を白色固体として収得した。生成物は、追加精製せずに次のステップですぐ用いた。
H NMR(400MHz、CDCl):δ7.69(s、1H)、4.76(t、J=9.0Hz、2H)、3.35(t、J=9.0Hz、2H);LC-MS:[M+H]277.
ステップ2:(4-bromo-7-chloro-2,3-dihydrobenzofuran-6-yl)(4-cyclopropylphenyl)methanone(化合物5)
Figure 0007146067000058
室温及び窒素雰囲気下でジクロロメタン(30mL)中の化合物2(1.00g、3.60mmol)溶液にDMF(0.01mL、0.13mmol)を投入した後、(COCl)(0.34mL、3.96mmol)を滴下した。室温で1時間の間撹拌した後、-15℃まで冷却した。その後、反応混合物にシクロプロピルベンゼン(化合物4)(0.91mL、7.20mmol)を投入して5分間撹拌し、反応混合物にAlCl(0.58g、4.32mmol)を投入し、同一温度で60分間撹拌した。その後、反応完結をTLCで確認した後、反応溶液にNaHCO水溶液を加えて反応を終了させ、酢酸エチルで抽出した。抽出して得た有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した後に真空濃縮させた。濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、表題化合物5(1.18g、86.7%)を白色固体として収得した。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.70(d、J=8.0Hz、2H)、7.11(d、J=8.0Hz、2H)、6.99(s、1H)、4.78(t、J=9.0Hz、2H)、3.36(t、J=7.2Hz、2H)、1.97-1.94(m、1H)、1.10-1.07(m、2H)、0.82-0.81(m、2H);LC-MS:[M+H]377.
ステップ3:4-bromo-7-chloro-6-(4-cyclopropylbenzyl)-2,3-dihydrobenzofuran(化合物6)
Figure 0007146067000059
-15℃でジクロロメタン(9.7mL)及びアセトニトリル(9.7mL)混合物中の(4-bromo-7-chloro-2,3-dihydrobenzofuran-6-yl)(4-cyclopropylphenyl)methanone(化合物5)(0.97g、2.57mmol)溶液にEtSiH(1.2mL、7.71mmol)及びBF-EtO(0.79mL、6.42mmol)を順に投入した。反応混合物を室温に加温した後、4時間の間撹拌した。反応完結をTLCで確認した後、反応溶液に飽和されたNaHCO水溶液(40mL)を加えて反応を終了させ、酢酸エチルで抽出した。抽出により得た有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過して真空濃縮させた。濃縮残渣は、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製して、表題化合物6(0.84g、89.9%)を灰白色固体として収得した。
H NMR(500MHz、CDCl):δ7.07(d、J=10.0Hz、2H)、6.99(d、J=10.0Hz、2H)、6.80(s、1H)、4.70(t、J=11.0Hz、2H)、3.97(s、2H)、3.26(t、J=11.0Hz、2H)、1.88-1.84(m、1H)、0.95-0.90(m、2H)、0.68-0.64(m、2H);LC-MS:[M+H]363.

Claims (17)

  1. 化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
    化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
    化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
    化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得することを含み、
    化学式4の化合物と化学式5の化合物の反応は、-20℃~-10℃で行われることを特徴とする、化学式7の化合物の製造方法:
    Figure 0007146067000060
    Figure 0007146067000061
    Figure 0007146067000062
    Figure 0007146067000063
    Figure 0007146067000064
    Figure 0007146067000065
    前記式で、
    nは、1又は2であり、
    X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり、
    Bは、
    Figure 0007146067000066
    又は
    Figure 0007146067000067
    であるが、
    このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
    環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
    前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル、及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
  2. nが1であり、
    X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
    Bは、
    Figure 0007146067000068
    であるが、
    このとき、Ra及びRbは、それぞれ独立的に水素、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル、C3-10シクロアルキル又はC1-7アルコキシであることを特徴とする、請求項1に記載の化学式7の化合物の製造方法。
  3. nが1であり、
    Xは、塩素であり、
    Yは、臭素であり、
    Halは、塩素であり、
    Bは、
    Figure 0007146067000069
    であることを特徴とする、請求項1に記載の化学式7の化合物の製造方法。
  4. 化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得するステップは、0℃~25℃で行われることを特徴とする、請求項1に記載の化学式7の化合物の製造方法。
  5. 化学式3の化合物を触媒中でオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得することを特徴とする、請求項1に記載の化学式7の化合物の製造方法。
  6. 前記触媒は、化学式3の化合物1当量を基準として0.01当量~0.4当量で用いられることを特徴とする、請求項に記載の化学式7の化合物の製造方法。
  7. 化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
    化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
    化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
    化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得し、
    化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させることを含み、
    化学式4の化合物と化学式5の化合物の反応は、-20℃~-10℃で行われることを特徴とする、化学式1aの化合物の製造方法:
    Figure 0007146067000070
    Figure 0007146067000071
    Figure 0007146067000072
    Figure 0007146067000073
    Figure 0007146067000074
    Figure 0007146067000075
    Figure 0007146067000076
    Figure 0007146067000077
    前記式で、
    Aは、酸素(O)又は硫黄(S)であり;
    PGは、保護基であり、
    X’は、ハロゲン又はC1-7アルキルであり;
    nは、1又は2であり、
    X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
    Bは、
    Figure 0007146067000078
    又は
    Figure 0007146067000079
    であるが、
    このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
    環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
    前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
  8. 前記脱保護及び還元以後にアルキル化反応をさらに含み、
    前記X’がC1-7アルキルであることを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
  9. 前記化学式1aの化合物は、下記化学式1abの立体構造を有することを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
    Figure 0007146067000080
    前記式で、A、B、n及びX’は、請求項で定義した通りである。
  10. 化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
    化学式7の化合物を化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させて下記化学式9aの化合物を得るステップ;
    前記化学式9aの化合物をメタノール存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて下記化学式9bの化合物を得るステップ;
    前記化学式9bの化合物を還元させて下記化学式9cの化合物を得るステップ;及び
    前記化学式9cの化合物に保護基を導入し、再結晶化した後に脱保護させて下記化学式9fの化合物を収得するステップを含んで行われることを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
    Figure 0007146067000081
    Figure 0007146067000082
    Figure 0007146067000083
    Figure 0007146067000084
    前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、請求項で定義した通りである。
  11. 化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
    前記化学式7の化合物を前記化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させて、別途の精製なしにメタノールの存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて、下記化学式9bの化合物を得るステップ;
    前記化学式9bの化合物を還元させて下記化学式9cの化合物を得るステップ;
    前記化学式9cの化合物に保護基を導入し、再結晶化して化学式9eの化合物を分離するステップ;及び
    前記化学式9eの化合物を脱保護させて下記化学式9fの化合物を得るステップを含んで行われることを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
    Figure 0007146067000085
    Figure 0007146067000086
    Figure 0007146067000087
    Figure 0007146067000088
    前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、請求項で定義した通りである。
  12. 化学式7の化合物を化学式8の化合物と反応させて脱保護及び還元させるステップは、
    前記化学式7の化合物を前記化学式8の化合物とn-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム又はi-プロピルマグネシウムクロリドの存在下で反応させ、別途の精製なしにメタノール存在下の酸条件で脱保護及びメチル化反応させて、下記化学式9bの化合物を得るステップ;
    前記化学式9bの化合物に保護基を導入して下記化学式9dの化合物を得るステップ;
    前記化学式9dを還元させて再結晶化して下記化学式9eの化合物を分離するステップ;及び
    前記化学式9eの化合物を脱保護させて下記化学式9fの化合物を得るステップを含んで行われることを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
    Figure 0007146067000089
    Figure 0007146067000090
    Figure 0007146067000091
    Figure 0007146067000092
    前記式で、PGは、保護基であり;A、B、n及びXは、請求項で定義した通りである。
  13. 前記化学式7の化合物1当量に対して、前記化学式8の化合物及びn-ブチルリチウムがそれぞれ1.5~2.5当量範囲で用いられることを特徴とする、請求項10~請求項12のうちいずれか一項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
  14. 前記再結晶化ステップは、アルコール、酢酸エチル又はジクロロメタンからなる群より選択される溶媒を用いて行われることを特徴とする、請求項10~請求項12のうちいずれか一項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
  15. 前記nが1であることを特徴とする、請求項~請求項12のうちいずれか一項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
  16. 前記Aが酸素であり;
    前記nが1であり;
    前記X’がハロゲンであり;
    前記Bがハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル、C3-10シクロアルキル及びC1-7アルコキシからなる群より選択された一つ又は二つの置換基に置換されるか非置換されたフェニルであることを特徴とする、請求項に記載の化学式1aの化合物の製造方法。
  17. 化学式2の化合物をカルボキシル化させて化学式3の化合物を収得し、
    化学式3の化合物をオキサリルハライドと反応させて化学式4の化合物を収得し、
    化学式4の化合物を化学式5の化合物と反応させて化学式6の化合物を収得し、
    化学式6の化合物を脱酸素化させて化学式7の化合物を収得し、
    化学式7の化合物を化学式9の化合物と反応させた後、還元させ、化学式10の化合物を収得し、
    化学物10の化合物のフラノース環を酸性条件でピラノース環に形成した後、保護基を導入して、化学式11の化合物を収得し、
    前記化学式11の化合物をチオ尿素で処理し、C1-7アルキルハライドと反応させた後、還元させることを含み、
    化学式4の化合物と化学式5の化合物の反応は、-20℃~-10℃で行われることを特徴とする、化学式1bの化合物の製造方法:
    Figure 0007146067000093
    Figure 0007146067000094
    Figure 0007146067000095
    Figure 0007146067000096
    Figure 0007146067000097
    Figure 0007146067000098
    Figure 0007146067000099
    Figure 0007146067000100
    Figure 0007146067000101
    Figure 0007146067000102
    前記式で
    は、C1-7アルキルチオであり;
    PGは、保護基であり、
    X’は、ハロゲン又はC1-7アルキルであり;
    nは、1又は2であり、
    X、Y及びHalは、それぞれ独立的にハロゲンであり;
    Bは、
    Figure 0007146067000103
    又は
    Figure 0007146067000104
    であるが、
    このとき、Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立的に、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、オキソ、C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ、C2-7アルケニル、C2-7アルキニル、C1-7アルコキシ、C1-7アルコキシ-C1-7アルキル、C2-7アルケニル-C1-7アルキルオキシ、C2-7アルキニル-C1-7アルキルオキシ、C3-10シクロアルキル、C3-7シクロアルキルチオ、C5-10シクロアルケニル、C3-10シクロアルキルオキシ、C3-10シクロアルキルオキシ-C1-7アルコキシ、フェニル-C1-7アルキル、C1-7アルキルチオ-フェニル、フェニル-C1-7アルコキシ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ、モノ-又はジ-C1-7アルキルアミノ-C1-7アルキル、C1-7アルカノイル、C1-7アルカノイルアミノ、C1-7アルキルカルボニル、C1-7アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノ-又はジ-C1-7アルキルカルバモイル、C1-7アルキルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、C1-7アルキルスルフィニル、C6-14アリールスルファニル、C6-14アリールスルホニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール、5-10員ヘテロシクロアルキル、5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルキル又は5-10員ヘテロシクロアルキル-C1-7アルコキシであり;
    環Cは、C3-10シクロアルキル、C5-10シクロアルケニル、C6-14アリール、5-13員ヘテロアリール又は5-10員ヘテロシクロアルキルであり;
    前記アルキル、アルケニル、アルキニル及びアルコキシは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-7アルキル及びC2-7アルキニルからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的に、非置換されるか又はハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、メルカプト、C1-4アルキル及びC1-4アルコキシからなる群より選択された一つ以上の置換基を有し;
    前記ヘテロアリール及びヘテロシクロアルキルは、それぞれ独立的にN、S及びOからなる群より選択される1種以上のヘテロ原子を含有する。
JP2021507818A 2018-08-13 2019-08-09 Sglt阻害剤の合成に有用な中間体の製造 Active JP7146067B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20180094261 2018-08-13
KR10-2018-0094261 2018-08-13
PCT/KR2019/010123 WO2020036382A1 (ko) 2018-08-13 2019-08-09 Sglt 저해제의 합성에 유용한 중간체의 제조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021534174A JP2021534174A (ja) 2021-12-09
JP7146067B2 true JP7146067B2 (ja) 2022-10-03

Family

ID=69525610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021507818A Active JP7146067B2 (ja) 2018-08-13 2019-08-09 Sglt阻害剤の合成に有用な中間体の製造

Country Status (12)

Country Link
US (1) US11661406B2 (ja)
EP (1) EP3838894B1 (ja)
JP (1) JP7146067B2 (ja)
KR (1) KR102307475B1 (ja)
CN (1) CN112585124B (ja)
BR (1) BR112021002523A2 (ja)
CA (1) CA3109107C (ja)
CO (1) CO2021001857A2 (ja)
MX (1) MX2021001732A (ja)
PE (1) PE20211206A1 (ja)
PH (1) PH12021550297A1 (ja)
WO (1) WO2020036382A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2021225706A1 (en) * 2020-02-27 2022-09-01 Daewoong Pharmaceutical Co., Ltd. Intermediate useful for synthesis of SGLT inhibitor and method for preparing SGLT inhibitor using same
KR20230110001A (ko) * 2022-01-14 2023-07-21 주식회사 대웅제약 Ssglt 저해제의 합성에 유용한 중간체의 제조 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014515396A (ja) 2011-06-01 2014-06-30 グリーン クロス コーポレーション Sglt2阻害剤としての新規のジフェニルメタン誘導体
WO2017217792A1 (ko) 2016-06-17 2017-12-21 주식회사 대웅제약 다이페닐메탄 유도체의 제조방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
UA107175C2 (uk) 2007-07-26 2014-12-10 Спосіб і сполука, призначені для одержання інгібіторів контранспортера натрій-глюкози 2 типу, варіанти
US9340521B2 (en) * 2013-03-18 2016-05-17 Green Cross Corporation Method for dual inhibition of SGLT1 and SGLT2 using diphenylmethane derivatives
CA2923522C (en) * 2013-09-09 2018-11-06 Jiangsu Hansoh Pharmaceutical Group Co., Ltd. C-aryl glucoside derivative, preparation method for same, and medical applications thereof
KR101770302B1 (ko) * 2016-06-28 2017-08-22 주식회사 녹십자 다이페닐메탄 유도체의 제조방법
CN110337442B (zh) * 2017-02-24 2023-05-12 东亚St株式会社 作为2型钠依赖性葡萄糖转运蛋白抑制剂的新型葡萄糖衍生物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014515396A (ja) 2011-06-01 2014-06-30 グリーン クロス コーポレーション Sglt2阻害剤としての新規のジフェニルメタン誘導体
WO2017217792A1 (ko) 2016-06-17 2017-12-21 주식회사 대웅제약 다이페닐메탄 유도체의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
MX2021001732A (es) 2021-06-23
PH12021550297A1 (en) 2021-10-11
CA3109107A1 (en) 2020-02-20
KR20200019092A (ko) 2020-02-21
EP3838894A4 (en) 2022-04-20
CA3109107C (en) 2023-04-25
KR102307475B1 (ko) 2021-09-30
US20210292291A1 (en) 2021-09-23
WO2020036382A1 (ko) 2020-02-20
BR112021002523A2 (pt) 2021-05-04
EP3838894A1 (en) 2021-06-23
JP2021534174A (ja) 2021-12-09
PE20211206A1 (es) 2021-07-05
CO2021001857A2 (es) 2021-02-26
US11661406B2 (en) 2023-05-30
EP3838894B1 (en) 2024-03-13
CN112585124A (zh) 2021-03-30
CN112585124B (zh) 2024-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW202237575A (zh) 用於合成2-羥基-6-((2-(1-異丙基-1h-吡唑-5-基)-吡啶-3-基)甲氧基)苯甲醛 之方法
JP2000109497A (ja) スピロ環式c―グリコシド
JP7146067B2 (ja) Sglt阻害剤の合成に有用な中間体の製造
JP5717752B2 (ja) ピリピロペン誘導体の製造法
JP5114556B2 (ja) ゲムシタビンの高立体選択的な新規合成プロセス及び中間体
JP2002530423A (ja) 新規な中間体、それを用いたマイクロライド系抗生物質の製造方法
JP2011503093A (ja) β−ヌクレオシドの新規な合成
JP3453188B2 (ja) オレアノール酸誘導体の製造方法
KR100699099B1 (ko) 1-α-할로-2,2-다이플루오로-2-데옥시-D-라이보퓨라노스유도체 및 이의 제조방법
JP3228488B2 (ja) 20−エピステロイド誘導体およびその製造方法
JP7442663B2 (ja) Sglt阻害剤の合成に有用な中間体およびこれを用いたsglt阻害剤の製造方法
RU2802443C1 (ru) Промежуточное соединение, применяемое для синтеза ингибитора sglt, и способ получения ингибитора sglt с применением указанного промежуточного соединения
KR101259648B1 (ko) 2′,2′-디플루오로뉴클레오시드 및 중간체의 새로운 제조방법
Chen et al. Synthetic studies of erythromycin derivatives: 6-O-methylation of (9S)-12, 21-anhydro-9-dihydroerythromycin A derivatives
KR100741310B1 (ko) 젬시타빈의 합성에 유용한 신규한나프탈렌-2-카르복실레이트 유도체와 그의 제조방법
JP3682291B2 (ja) オレアノール酸誘導体の製造方法
US8168766B2 (en) Process of making 2-deoxy-2,2-difluoro-D-ribofuranosyl nucleosides and intermediates therefor
JP2750170B2 (ja) ステロイド誘導体の製造法
JPH07145093A (ja) ビタミンd誘導体の合成中間体の製造法
WO2003051904A1 (fr) Procede de production d'un derive de pregnane
KR20070119422A (ko) 신규한 d-에리트로-2-데옥시-2,2-디플루오로-1-옥소리보스화합물 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220314

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220614

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220920

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7146067

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150