JP7143307B2 - ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法 - Google Patents

ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7143307B2
JP7143307B2 JP2019541247A JP2019541247A JP7143307B2 JP 7143307 B2 JP7143307 B2 JP 7143307B2 JP 2019541247 A JP2019541247 A JP 2019541247A JP 2019541247 A JP2019541247 A JP 2019541247A JP 7143307 B2 JP7143307 B2 JP 7143307B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
elemental
carbide
manufacturing
diamond
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019541247A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020507012A (ja
Inventor
ドーガン,ファイク
ザーグル,アンドレアス
フェヒナー,トビアス
シュポーン,ドミニク
ガルーン,イモー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guehring KG
Original Assignee
Guehring KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guehring KG filed Critical Guehring KG
Publication of JP2020507012A publication Critical patent/JP2020507012A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7143307B2 publication Critical patent/JP7143307B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/223Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C23C14/025Metallic sublayers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/19Soldering, e.g. brazing, or unsoldering taking account of the properties of the materials to be soldered
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81Coating or impregnation
    • C04B41/85Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/87Ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0676Oxynitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5806Thermal treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5873Removal of material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B2226/00Materials of tools or workpieces not comprising a metal
    • B23B2226/31Diamond
    • B23B2226/315Diamond polycrystalline [PCD]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23BTURNING; BORING
    • B23B27/00Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
    • B23B27/14Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
    • B23B27/148Composition of the cutting inserts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

発明の詳細な説明
本発明は、請求項1の上位概念に係る、ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法に関する。本発明は、さらに、請求項17の上位概念に係る、コーティングされたソリッドPCDと、請求項19に係る機械部材とからなる機械領域を有する機械部材の製造方法に関する。
本発明の枠内において「機械部材」という概念は、特に、全ての、当業者によく知られている実施形態に存在できる、バイトおよび切削加工用の工具として理解される。
工具ヘッドと、工具シャフトと、工具チャックに収容するためのクランプ部とを備えた切削加工用の様々な型の工具、特に、切削加工用のものが従来技術から知られている。
このような工具は、切削部分において、加工する材料に特有の要求に適している機能領域トポロジーを有する。
上述した工具は、例えば、ドリル工具、平削り工具、皿もみ工具、旋削工具、ねじ切り工具、輪郭形成工具、または摩擦工具として構成されているものである。これらは、機能領域として切削体および/またはガイド縁を有することができ、その切削体は、支持体の上に、はんだ付けされているか、または、例えば、交換式チップまたは転換式チップとして形成されている。さらに、通例は、転換式チップ支持体にはんだ付けすることもできる。
独国実用新案第2005 021 817(U1)号明細書 米国特許第5,082,359号明細書 独国特許出願公開第2015 208 742(A1)号明細書 米国特許第5,626,909号明細書 米国特許出願公開第2007/0 160 830(A1)号明細書
Tillmann et al. Mat.-Wiss. u. Werkstofftech. 2005, 36, No. 8, 370-376
典型的には、このような工具ヘッドは、強く磨り減らす材料、例えばAl-Si合金または岩石の加工時の、高い耐摩耗性を工具に与える機能領域を有する。例えば、本発明の出願人のDE 20 2005 021 817 U1と同様に工具ヘッドが立方晶系の窒化ホウ素(CBN)や多結晶ダイヤモンド(PCD)のような超硬素材を含む機能層を備える場合に、前記耐摩耗性は高まる。
ドリル加工、平削り、または摩擦加工の機械的または熱的な要求に関して長い耐用期間をもつ工具の製造のために、従来技術では、例えば、多結晶フィルム、特に、非ダイヤモンド基盤に被覆したダイヤモンド材料からなるものの付着方法が記述されている。例えば、US 5,082,359に、多結晶ダイヤモンドフィルムを化学蒸着(chemical vapour deposition、CVD)によって付着させることが記述されている。
さらに、他の改良した、ダイヤモンドコーティングされた超硬合金工具またはサーメット工具が本出願人のDE 10 2015 208 742 A1に記述されている。
それに加えて、該ソリッドPCDには、多結晶ダイヤモンドと焼結補助物質とからなる成形体が、堅固な多結晶ダイヤモンド体、いわゆるソリッドPCDに焼結された、いわゆるソリッドPCDの製造が公知である。
このようなソリッドPCDは商業的に入手でき、例えば、シールドガスまたは真空の下の活性はんだ付け方法において、指定のはんだで超硬合金基板にはんだ付けできる。
しかしその際、一方では、ソリッドPCDが、使用されている金属質のはんだ合金で不適切に濡らされることと、他方では、ダイヤモンド格子がグラファイト格子に変換される傾向が生じることとが、特に問題として判明した。
ダイヤモンド体を超硬合金基盤にはんだ付けする際の関連および問題と、対応する界面反応と、使用に関する問題とは、Tillmann et al. Mat.-Wiss. u. Werkstofftech. 2005, 36, No. 8, 370-376に記述されている。その間に、合成ダイヤモンドは優れた性質のために材料技術分野において重要となっているものの、ダイヤモンドは金属質の構造を持たず、C-C結合がsp共有結合となっている立方晶系の格子を有するために、ダイヤモンドと他の材料との繋ぎ合わせには問題があることが判明した。Tiを含有する活性はんだ合金がダイヤモンドを濡らすことができる事実とは無関係に、Tillmann et al.によれば、界面反応はもっと研究しなければならない。炭化物の反応層がダイヤモンド結晶表面とはんだとの間に現れると推測されているが、実際のダイヤモンド-超硬合金のはんだ付け結合の分析は、超硬合金の存在がダイヤモンド表面へのTi移動に対して不利な影響を与えうることを示した。
はんだ付けパラメータによっては、Tillmann et al.では、いくつかのケースにて、はんだ/ダイヤモンドの界面において顕著なTi濃縮は行われなかった。しかし、より高いはんだ付け温度およびより長いはんだ付け時間とすることで、例えばTiを含有する反応層がはっきり際立つように、ダイヤモンド側の界面反応の明確な強化を引き起こすことができる。それに加えて、これにより酸化のさらなるリスクが生じ、グラファイト形成の傾向があり、これは全体的に、上述の効果によって発生する生産の粗悪品によってコストを高騰させる。
Tillmann et al.によれば、Niに基づくはんだは―Tiを含有するはんだ合金と同様に―ダイヤモンド表面との化合反応に好適な濡れ性を示す。Cr、Si、またはBのような、反応性がより低い活性元素も同様に界面反応を生じさせる。研究結果は、濡れ性とCr、Si、またはBの含有量との明確な依存関係を示す。ただし、界面活性元素のより大きい含有量が、結果としてダイヤモンドの事前破損のリスクを伴うより激しい分解反応をもたらすことは、Tillmann et alによれば考慮しなければならない。Tillmann et al.によれば、ダイヤモンドは空気中では約500℃以上、真空中では約1300℃以上の高温で分解し始めるのでこの臨界温度を越えない繋ぎ合わせ方法の提供が決定的であるという事実を考慮しなければならないにもかかわらず、真空はんだ付けはダイヤモンド工具製造のための最も有望な繋ぎ合わせ方法の一つである。
Tillmann et al.によれば、ダイヤモンドの、その結合した電子を用いた共有結合は、はんだ合金とダイヤモンドとの間の冶金学上の相互作用の最も大きい障害である。Tillmann et al.の先行技術は、ダイヤモンドと直接に化学反応する活性元素を含むはんだ合金を使ってこの障害を克服することを提案する。これについてTillmann et al.は、チタンまたは他のより詳細に述べられていない「不反応性金属」(Refraktarmetalle(2つ目のaはウムラウト付))を使うことを特に提案している。
特に、Tillmann et al.は、炭化物の反応産物が同様に電子ガスの意味での金属結合を有するため、濡れ反応の鍵になるTiC反応層の形成を引き起こす炭化物反応を記述している。酸化物セラミックまたは非酸化物セラミックの活性はんだ付けとは逆に、ダイヤモンドについては、界面反応を促進するために、熱力学上の理由でこのような高反応性の活性金属がどうしても必要というわけではない。Tillmann et al.は、銅に基づいているはんだおよび合成ダイヤモンドを使って実験し、該ダイヤモンドには、CrおよびSiからなる炭化物が生成しながらダイヤモンド表面が部分的に分解されたことを示す薄い反応層が検出された。
しかし、Tillmann et al.は、はんだ-ダイヤモンド界面において実際に起こることについて、現在(2005年)に文献においてはっきりした画像が存在しないことを指摘している。
さらに、US 5,626,909 Aは、結合層および保護層で被覆された後に空気中で支持体にはんだ付けできる、多結晶ダイヤモンドからなる工具セットを開示している。前記結合層(bonding layer)は、例えばタングステンまたはチタンからなる金属層で(CVDまたはPVDによって)コーティングすることと、工具セットとのすなわちダイヤモンドとの界面において対応する金属炭化物を生産するために熱処理することとによって製造される。さらなるステップにおいて付着された保護層は、銀、銅、金、パラジウム、プラチナ、ニッケル、これらの合金、およびニッケルとクロムとの合金のような金属からなる。
それに加えて、US 2007/0 160 830 A1には、例えばダイヤモンドからなる研磨粒子の被覆が記述され、ここで、相前後して2つの層が付着される。内層は金属炭化物、窒化物、または炭窒化物(好ましくはTiC)からなり、外層はタングステンからなる。コーティングされた研磨粒子は空気中で単なるはんだ付けでさらに加工できる。
US 5,626,909 Aの先行技術を出発点として、本発明の課題は、安全にかつ負荷に耐え得て室内空気下で金属質の表面または他のダイヤモンド表面にはんだ付けまたは貼り付けできるダイヤモンド材料を製造できる製造方法を提供することである。
前記課題の解決は請求項1に記載のソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法および請求項17に記載の機械部材の製造方法によって行われる。
請求項15に記載のコーティングされたソリッドPCDおよび請求項18に記載の機械部材は同様に前記課題を解決する。
特に、本発明は、
コーティングされたダイヤモンド材料を室内空気下で金属質の表面または第2のダイヤモンド表面にはんだ付けするかまたは貼り付けるためのソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法であって、
前記ダイヤモンド材料は希ガス雰囲気下で蒸着によって少なくとも部分的にコーティングされ、該コーティングは、B、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、およびWからなる群より選ばれる、炭化物を産み出す少なくとも1つの化学元素を用いて行われ、
前記ダイヤモンド材料の表面に含まれているダイヤモンドのダイヤモンド炭素の部分量は元素炭化物に変換され、この元素炭化物は元素炭化物層を形成し、
元素炭化物層の表面の上に元素層が析出されるかまたは元素炭化物/元素-混合層が形成されるように、前記化学元素は形成される元素炭化物に対してモル比率での化学量論上の過剰量で存在し、
生成した元素層または元素炭化物/元素-混合層の上に遷移層が析出され、
前記遷移層は、ホウ化物含有層、窒化物含有層、酸化物含有層およびこれらの混合層、炭窒化物含有層、酸窒化物含有層および/または炭酸窒化物含有層からなる群から選択された少なくとも1つの層を含む、
方法を記述する。
炭化物を形成する元素でのダイヤモンド表面のコーティングによって、ダイヤモンド炭素の一部が、対応する元素炭化物に変わる。この元素炭化物層はPCD層と固く結合されている。炭化物を形成する1つまたは複数の元素を、化学量論性を超えて、使用することにより、元素炭化物層の上に、コーティングする1つの元素(または複数の元素)を含む元素層が生成する。
両方の層―一方では前記元素炭化物層、他方では前記元素層―は、金属結合性を有し、これによって炭化物層上への元素層の強い付着が生じる。さらに、前記元素層または元素炭化物層/元素-混合層は同様に、基盤との安定したはんだ付け結合が生じうるように、それら金属質の性質に基づいて、すでに好適に金属質のはんだで濡らされうる。
しかし、はんだ付けしなければならない部分の表面の上の、さらに好適な濡れ性とはんだの最終的な付着とは、ホウ化物含有層、窒化物含有層、酸化物含有層およびこれらの混合層、炭窒化物含有層、酸窒化物含有層および/または炭酸窒化物含有層からなる群から選択された少なくとも1つの層を含む遷移層を付着させることによって得られる。この手段により頑丈な工具部が得られ、例えばソリッドPCDと基盤表面との間のはんだ付け結合は、明らかに改良された耐用期間を有する。
本発明の枠内において、単結晶ダイヤモンドまたは多結晶ダイヤモンドからなるソリッドダイヤモンド材料が使用されることが好ましい。
多結晶ダイヤモンドからなる焼結されたダイヤモンド粒子、いわゆる「ソリッドPCD」がソリッドダイヤモンド材料として使用される場合に、本発明には特に大きな意義がある。
Al、Mg、Fe、Co、Niおよびこれらの混合物からなる群から選択された焼結補助物質を含むソリッドPCDが使用されることが有利である。これらの金属は同様に、はんだに濡らされうる、炭化物を含むダイヤモンド/はんだ界面の形成に貢献できる。
超硬合金からなる基盤を含み、あらかじめ製造された未処理のソリッドPCDが使用できる。
しかし、より良く制御可能な元素炭化物/元素-混合層を得るために、製造時由来の前記焼結補助物質および/または前記超硬合金基盤を少なくとも大幅にソリッドPCDから除去することは、本発明の枠内において有意義かつ有利になりうる。
典型的には、焼結されたダイヤモンド粒子の粒子大きさが0.5μm以上100μm以下である。
本発明の好ましい一実施形態は、形成された元素層または元素炭化物/元素-混合層の上に遷移層を析出させることである。
このような遷移層は、元素(B、C、N、O)のタイプであって、生じた元素層または下元素炭化物/元素-混合層の上に析出されてもよく、ここで、ホウ化物含有層、窒化物含有層、酸化物含有層およびこれらの混合層、特に、炭窒化物含有層、酸窒化物含有層および/または炭酸窒化物含有層が含まれている。
実際に、好ましい遷移層としては次の一般式を満たすものが判明した:
(E1,E2,E3....Exy)x(BCNO)y、
ここで、EはMg、B、Al、Si、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、およびWからなる群から選択された元素であり、xは0~2の範囲にあり、yは0.5~2の範囲にあり、xおよびyは、それぞれ独立して0.5から1.1までの範囲が好ましい。
このような遷移層は、はんだ付けプロセスの間にソリッドPCDを熱的および化学的な影響から保護できる。
元素炭化物層の製造または析出のためには、実際に、物理蒸着(PVD)が適することが実証されており、好ましくは、希ガス雰囲気としてアルゴン雰囲気が使用される。
典型的には、前記PVD方法は、本発の枠内において、400℃以上600℃以下の温度範囲、特に、450℃において、0Vないしマイナス1000Vのバイアス電圧にて、100mPa以上10000mPa以下の圧力の下で1分以上20分以下、特に、5分かけて行われる。
好ましくは、コーティングの後に焼戻しステップが200℃以上600℃以下で1分と60分の間の時間行われる。
前記遷移層も、同様にPVDによって400℃以上600℃以下の温度範囲、特に、450℃において、0Vないしマイナス1000Vのバイアス電圧にて、100mPa以上10000mPa以下の圧力の下で0.1時間以上3時間以下かけて前記元素炭化物層の上に付着させることができる。
本発明の方法によってコーティングされたソリッドPCDのはんだ付けのために、前記遷移層は、空気雰囲気下ではんだにて、場合によっては融剤を使いながら、濡らされることができ、このように構成されているソリッドPCDは、問題なく機械部材、特に工具にはんだ付けされることができる。
本発明に基づいて、コーティングされたソリッドPCDが得られる。
それに加えて、より大きいソリッドPCDを得るために、複数のソリッドPCDが一緒にはんだ付けされうる。
それゆえ、本発明の方法によって、コーティングされたソリッドPCDと金属質の支持体とからなる少なくとも1つの機能領域を有する機械部材を製造でき、
前記ソリッドPCDは、はんだとして、例えば、銀またはニッケルを素材とする硬質はんだまたは当業者に公知の他の適した硬質はんだが使用されたはんだ付け結合によって、金属質の支持体の少なくとも1つの表面に固定され、
前記はんだ付け結合は、コーティングされたソリッドPCDと支持体との間で、最大700℃において空気雰囲気下、標準圧力で作られる。
これにより、本発明の枠内において、はんだ付けされたソリッドPCTを有し、裂け目のないはんだ付け結合および長い耐用期間を可能にする、実際に有用な機械部材が初めて使用可能になる。
このような機械部材は、特に切削工具やアスファルトフライスヘッドや岩石フライスヘッドであってもよい。
本発明のさらなる有利な点および特徴は実施例の説明により判明する。
本実施例では、結合層を使って、―シールドガス雰囲気なしで―、したがって空気雰囲気の下で、商業的に入手できるソリッドPCD体のコーティングによって、ソリッドPCD体のはんだ付けを可能にすることが目標とされている。そのために、PCD-結合層の界面が繋ぎ合わせの結合の弱点にならないように、かつ、このように製造された工具が工具に対するすべての負荷と要件とに適合し、長い耐用時間が達成されるように、使われているはんだで好適に濡らせる表面を作らなければならない。
本実施例のために、4つの異なる、商業的に入手可能なPCD種類が使われた。
試験体外形として正方形のプレートが選ばれた。使われたソリッドPCD種類は、さらなる金属の他にコバルトを含んでいる多結晶ダイヤモンド材料である。
前記ソリッドPCD試験体は、炭化物を形成する複数の金属または元素、本実施例の場合ではチタンおよびジルコニウム、と一緒に焼戻しされ、約600℃の温度および約-150Vの電圧バイアスでPCVコーティング装置内で処理された。金属炭化物―本実施例ではTiCおよびZrC―の形成は、X線回折法を使って示された。
炭化物層の厚さは、X線回折法および走査型電子顕微鏡法で測定すると約0.01μmであった。
炭化物層の形成に引き続いて、酸素および窒素の存在下でPVDを使って遊離ホウ素の蒸発によりホウ化物含有遷移層が元素炭化物層の上に析出された。前記遷移層の付着の条件は、10℃/分で進行され600℃に維持されていた、400℃以上600℃以下の温度勾配であった。PVD処理は、約マイナス600Vのバイアス電圧、約2000mPaの圧力で2時間の時間行われた。
次に、このようにコーティングされたソリッドPCDは、―実施例の場合では―Ag-Cu-Zn-Mn-Niからなるはんだ合金を使って、約700℃にて、超硬合金プレートの上にはんだ付けされ、シーリングテストが行われた。シーリングテストに引き続いて、はんだまたは界面において裂け目または折損が生じたか、および/または、ダイヤモンド表面の損害があったかどうかを判断するために、さらなる走査型電子顕微鏡検査が行われた。
これに際して驚くべきことに、通常のシーリングテンションテストの枠内において、はんだ層にもソリッドPCDとの界面にも折損または裂け目が発生しなかったことが判明した。
ダイヤモンド表面自体にも同様に損害がなかった。

Claims (19)

  1. ーティングされたソリッドPCDと金属質の支持体とからなる少なくとも1つの機能領域を有する機械部材の製造方法であって、
    コーティングされたソリッドPCDを室内空気中で金属質の表面にはんだ付けするかまたは貼り付けるために、ソリッドPCDは希ガス雰囲気下で蒸着によって少なくとも部分的にコーティングされ、該コーティングは、B、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、およびWからなる群より選ばれる、炭化物を産み出す少なくとも1つの化学元素を用いて行われ、
    前記ソリッドPCDの表面に含まれているダイヤモンドのダイヤモンド炭素の部分量は元素炭化物に変換され、この元素炭化物は元素炭化物層を形成し、
    元素炭化物層の表面の上に元素層が析出されるかまたは元素炭化物/元素-混合層が形成されるように、前記化学元素は形成される元素炭化物に対してモル比率での化学量論上の過剰量で存在し、
    生成した元素層または元素炭化物/元素-混合層の上に遷移層が析出されることと、
    前記遷移層は、ホウ化物含有層、窒化物含有層、酸化物含有層およびこれらの混合層、炭窒化物含有層、酸窒化物含有層および/または炭酸窒化物含有層からなる群から選択された少なくとも1つの層を含み、
    前記ソリッドPCDの遷移層が、はんだとして硬質はんだが使用されたはんだ付け結合によって金属質の支持体の少なくとも1つの表面に固定されるために、はんだにて濡らされることと、
    前記はんだ付け結合は、コーティングされたソリッドPCDと支持体との間で、最大700℃において空気雰囲気下、標準圧力で作られることと
    を特徴とする製造方法。
  2. 前記ソリッドPCDは、Al、Mg、Fe、Co、Niおよびこれらの混合物からなる群から選択された焼結補助物質を含むことを特徴とする請求項に記載の製造方法。
  3. 超硬合金からなる基盤を含むソリッドPCDが使用されていることを特徴とする請求項またはに記載の製造方法。
  4. 前記焼結補助物質および/または前記超硬合金基盤はソリッドPCDから除去されることを特徴とする請求項に記載の製造方法。
  5. 前記ソリッドPCDの焼結されたダイヤモンド粒子の粒子大きさが0.5μm以上100μm以下であることを特徴とする請求項からまでのいずれか1項に記載の製造方法。
  6. 次の一般式を満たす層が遷移層として使用されていることを特徴とする請求項1からまでのいずれか1項に記載の製造方法:
    (E1,E2,E3....Exy)x(BCNO)y、
    ここで、EはMg、B、Al、Si、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、およびWからなる群から選択された元素であり、xは0~2の範囲にあり、yは0.5~2の範囲にあり、Bはホウ素、Cは炭素、Nは窒素、Oは酸素を意味する。
  7. xおよびyは0.5から1.1までの範囲にあることを特徴とする請求項に記載の製造方法。
  8. 前記蒸着として、物理蒸着(PVD)が使用されることを特徴とする請求項1からまでのいずれか1項に記載の製造方法。
  9. 希ガス雰囲気としてアルゴン雰囲気が使用されることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
  10. 前記PVD方法は400℃以上600℃以下の温度範囲において、0Vないしマイナス1000Vのバイアス電圧にて、100mPa以上10000mPa以下の圧力の下で1分以上20分以下行われることを特徴とする請求項8または9に記載の製造方法。
  11. 前記PVD方法は450℃で行われることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
  12. 前記PVD方法は5分間行われることを特徴とする請求項10または11に記載の製造方法。
  13. コーティングの後に焼戻しステップが200℃以上600℃以下で1分と60分の間の時間行われることを特徴とする請求項1から12までのいずれか1項に記載の製造方法。
  14. 前記遷移層はPVDによって400℃以上600℃以下の温度範囲において、0Vないしマイナス1000Vのバイアス電圧にて、100mPa以上10000mPa以下の圧力の下で0.1時間以上3時間以下かけて前記元素炭化物層の上に付着されることを特徴とする請求項1から13までのいずれか1項に記載の製造方法。
  15. 前記PVD方法は450℃で行われることを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
  16. 前記遷移層を、はんだで濡らすとき、融剤が使用されることを特徴とする請求項1から15までのいずれか1項に記載の製造方法。
  17. 前記機械部材が、具であることを特徴とする請求項1から16までのいずれか1項に記載の製造方法
  18. 前記工具が、バイトであることを特徴とする請求項17に記載の製造方法。
  19. 前記工具が、切削工具か、アスファルトフライスヘッドか、岩石フライスヘッドか、ドリルヘッドかであることを特徴とする請求項17に記載の製造方法。
JP2019541247A 2017-01-31 2018-01-30 ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法 Active JP7143307B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017201487.3 2017-01-31
DE102017201487.3A DE102017201487A1 (de) 2017-01-31 2017-01-31 Verfahren zum Beschichten von soliden Diamantwerkstoffen
PCT/EP2018/052283 WO2018141748A1 (de) 2017-01-31 2018-01-30 Verfahren zum beschichten von soliden diamantwerkstoffen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020507012A JP2020507012A (ja) 2020-03-05
JP7143307B2 true JP7143307B2 (ja) 2022-09-28

Family

ID=61148224

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019541247A Active JP7143307B2 (ja) 2017-01-31 2018-01-30 ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20200023442A1 (ja)
EP (1) EP3577249A1 (ja)
JP (1) JP7143307B2 (ja)
KR (1) KR102532558B1 (ja)
CN (1) CN110249070A (ja)
DE (1) DE102017201487A1 (ja)
WO (1) WO2018141748A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115728261A (zh) * 2021-08-27 2023-03-03 厦门大学 光学微纳天线探针、探针组件、纳米红外光谱仪及散射型扫描近场光学显微镜
CN115142040B (zh) * 2022-06-24 2023-09-26 武汉工程大学 一种焊接强度高的金刚石膜及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070157525A1 (en) 2004-01-15 2007-07-12 Egan David P Method for coating abrasives
DE102010006267A1 (de) 2010-01-30 2011-08-04 GFE - Gesellschaft für Fertigungstechnik und Entwicklung Schmalkalden e.V., 98574 Verfahren und Schichtsystem für PKD-Werkzeuge

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR890004859B1 (ko) * 1986-04-24 1989-11-30 김연수 유동 가공성이 양호한 내마모성 동합금
US5082359A (en) 1989-11-28 1992-01-21 Epion Corporation Diamond films and method of growing diamond films on nondiamond substrates
DE4111238A1 (de) * 1991-04-08 1992-10-15 Hilti Ag Werkzeug zur zerspanung von werkstoffen
US5626909A (en) 1994-12-07 1997-05-06 General Electric Company Fabrication of brazable in air tool inserts
CN100543102C (zh) 2004-01-15 2009-09-23 六号元素有限公司 涂覆的磨料
DE202005021817U1 (de) 2005-10-04 2010-11-04 Gühring Ohg Spanabtragendes Werkzeug
WO2010050877A1 (en) * 2008-10-30 2010-05-06 Sandvik Intellectual Property Ab A coated tool and a method of making thereof
US20160237548A1 (en) * 2015-02-12 2016-08-18 Kennametal Inc. Pvd coated polycrystalline diamond and applications thereof
DE102015208742A1 (de) 2015-05-12 2016-11-17 Gühring KG Spanabhebendes Werkzeug
US11014167B2 (en) * 2016-08-01 2021-05-25 Mitsubishi Materials Corporation Multilayer hard film-coated cutting tool

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070157525A1 (en) 2004-01-15 2007-07-12 Egan David P Method for coating abrasives
DE102010006267A1 (de) 2010-01-30 2011-08-04 GFE - Gesellschaft für Fertigungstechnik und Entwicklung Schmalkalden e.V., 98574 Verfahren und Schichtsystem für PKD-Werkzeuge

Also Published As

Publication number Publication date
KR102532558B1 (ko) 2023-05-12
JP2020507012A (ja) 2020-03-05
US20200023442A1 (en) 2020-01-23
KR20190113818A (ko) 2019-10-08
WO2018141748A1 (de) 2018-08-09
CN110249070A (zh) 2019-09-17
EP3577249A1 (de) 2019-12-11
DE102017201487A1 (de) 2018-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5037704A (en) Hard sintered compact for a tool
US5641921A (en) Low temperature, low pressure, ductile, bonded cermet for enhanced abrasion and erosion performance
JP5663481B2 (ja) 硬質表面を有する摩耗部品
JP4790630B2 (ja) 被覆された研磨材
JP5420533B2 (ja) コーティングされたcbn
JP5111379B2 (ja) 切削工具及びその製造方法並びに切削方法
JP2000508377A (ja) ホウ素及び窒素を含む超硬質コーティングを有する基体及びその製造方法
JPH01153228A (ja) 気相合成ダイヤモンド工具の製造法
JPH06509789A (ja) 立方晶窒化ホウ素又は多結晶質立方晶窒化ホウ素からなる耐摩耗性の刃を有する工具、その製法並びにその使用
JP4861831B2 (ja) 被覆研磨剤
CN101960051A (zh) 用于切削刀具刀片的热稳定(Ti,Si)N层
Rabinkin et al. Brazing of diamonds and cubic boron nitride
JP7143307B2 (ja) ソリッドダイヤモンド材料のコーティング方法
JP3379150B2 (ja) ダイヤモンド被覆材料およびその製造方法
US20090031637A1 (en) Coated abrasives
US20140237904A1 (en) Cvi bonded and coated pcbn to wc tool body
JP4845490B2 (ja) 表面被覆切削工具
JPH0665745A (ja) ダイヤモンド被覆硬質材料およびその製造法
JP3134378B2 (ja) ダイヤモンド被覆硬質材料
JPH09241826A (ja) 超硬合金構造体、その製造方法及びそれを用いた切削工具
JPH08225376A (ja) ろう付け可能なコバルト含有cbn成形体
JPS6247480A (ja) 高密着性ダイヤモンド被覆焼結合金及びその製造方法
JP3422029B2 (ja) 窒化ホウ素被覆硬質材料およびその製造法
JP2006297584A (ja) 表面被覆工具および切削工具
Rabinkin et al. Advances in brazing: 6. Brazing of diamonds and cubic boron nitride

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210114

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220215

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220512

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220823

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220914

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7143307

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150