JP7135819B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
12 :半導体基板
22 :トレンチ
24 :ゲート絶縁層
26 :ゲート電極
28 :層間絶縁膜
30 :ソース領域
32 :ボディ領域
34 :ドリフト領域
35 :ドレイン領域
36 :底部領域
38 :接続領域
39 :ストッパー領域
70 :上部電極
72 :下部電極
Claims (3)
- 半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の上面に設けられたトレンチと、
前記トレンチの内面を覆っているゲート絶縁層と、
前記トレンチ内に配置されており、前記ゲート絶縁層によって前記半導体基板から絶縁されているゲート電極と、を備えており、
前記ゲート絶縁層は、前記ゲート電極の側面と前記半導体基板の間に設けられている側面絶縁層と、前記ゲート電極の底面と前記半導体基板の間に設けられている底面絶縁層と、を有しており、
前記半導体基板は、
前記トレンチの側面において、前記側面絶縁層に対向している第1導電型の第1半導体領域と、
前記トレンチの側面において、前記第1半導体領域の下側で前記側面絶縁層に対向している第2導電型の第2半導体領域と、
前記トレンチの側面において、前記第2半導体領域の下側で前記側面絶縁層に対向しており、前記第2半導体領域によって前記第1半導体領域から分離されている第1導電型の第3半導体領域と、
前記トレンチの底面において、前記底面絶縁層に対向している第2導電型の底部領域と、
前記トレンチの側面において、前記第2半導体領域と前記底部領域の間を伸びており、前記第2半導体領域と前記底部領域を接続している第2導電型の接続領域と、
前記接続領域よりも前記トレンチの側面側に設けられており、前記トレンチの底面よりも浅い位置に設けられており、前記接続領域よりも不純物濃度が濃い第2導電型のストッパー領域と、を有しており、
前記ストッパー領域は、オフのときに前記第3半導体領域と前記接続領域の接合面から前記接続領域内に伸びる空乏層の広がりを抑制するように構成されている、半導体装置。 - 前記ストッパー領域は、前記トレンチの側面において、前記側面絶縁層と前記底面絶縁層の境界を含むように前記側面絶縁層と前記底面絶縁層の双方に接している、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記接続領域の厚みが、前記底部領域の厚みよりも薄い、請求項1又は2に記載の半導体装置。
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