JP7133035B2 - 静電気放電に対する保護回路 - Google Patents

静電気放電に対する保護回路 Download PDF

Info

Publication number
JP7133035B2
JP7133035B2 JP2020561739A JP2020561739A JP7133035B2 JP 7133035 B2 JP7133035 B2 JP 7133035B2 JP 2020561739 A JP2020561739 A JP 2020561739A JP 2020561739 A JP2020561739 A JP 2020561739A JP 7133035 B2 JP7133035 B2 JP 7133035B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protection circuit
type silicon
silicon controlled
connection pin
protection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020561739A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021522691A (ja
Inventor
グラフ,ミヒャエル
ザイツィンガー,ティモ
ローマイヤー,ヘニング
ラウ,ユリア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Publication of JP2021522691A publication Critical patent/JP2021522691A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7133035B2 publication Critical patent/JP7133035B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0259Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using bipolar transistors as protective elements
    • H01L27/0262Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using bipolar transistors as protective elements including a PNP transistor and a NPN transistor, wherein each of said transistors has its base coupled to the collector of the other transistor, e.g. silicon controlled rectifier [SCR] devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0292Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using a specific configuration of the conducting means connecting the protective devices, e.g. ESD buses
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02HEMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
    • H02H9/00Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection
    • H02H9/04Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection responsive to excess voltage
    • H02H9/044Physical layout, materials not provided for elsewhere
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02HEMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
    • H02H9/00Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection
    • H02H9/04Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection responsive to excess voltage
    • H02H9/045Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection responsive to excess voltage adapted to a particular application and not provided for elsewhere
    • H02H9/046Emergency protective circuit arrangements for limiting excess current or voltage without disconnection responsive to excess voltage adapted to a particular application and not provided for elsewhere responsive to excess voltage appearing at terminals of integrated circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、特定用途向け集積回路の接続ピンのための静電気放電に対する保護回路に関し、この保護回路は、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンを有する。
本発明はさらに、この保護回路を備えた特定用途向け集積回路に関する。
半導体コンポーネントの静電気放電に対する保護(ESD保護(英語:ESD=electrostatic discharge)とも言う)は、一般的に、ダイナミクスおよび性能をESD要求に適合させた、この技術に特化した部品を利用する。ESD保護の種類はここでは重要でない。インターフェイスの接続ピン(インターフェイスピンとも言う)は、例えばコントローラエリアネットワーク(CAN)インターフェイスの場合のように、通常は各接続ピンに対して別々のESD保護構造を使用する。このESD保護構造は、通常はそれぞれ正および負のストレスに対する2つの保護構造から成り、この2つの保護構造が直列接続されている。保護構造が並列に配置されているかまたはもっと複雑である回路コンセプトもあり、ただしこれらの場合には、さらに大きな使用面積により、適用にはかなり不都合である。
このような保護構造は、「Case Study of DPI Robustness of a MOS-SCR Structure for Automotive Applications(自動車用アプリケーションのためのMOS-SCR構造のDPIロバスト性の事例研究)」、Yang Xiuら、Proc.EOS/ESD Symp.、2016、およびBosch-Halbleiterchip(半導体チップ) CY327から知られている。
例えばCANまたは低電圧差動信号(LVDS)のような、接続ピン、とりわけシステム接続ピンへの複雑な要求は、機能が実質的に妨害されない非常に特殊なESD保護構造を必要とする。加えて従来のESD保護回路は、必要面積が比較的大きく、これは単位原価を上昇させ得る。さらに、妨害パルス、とりわけマルチパルス負荷に対するロバスト性は、しばしば比較的大きな費用によってのみ実現可能であり得る。ときには、保護回路がESD影響にだけでなく、そのうえさらに通常の機能パルスに反応することが問題である。
本発明によれば、特定用途向け集積回路の接続ピンのための静電気放電に対する保護回路が提供され、この保護回路は、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンを有し、この第1の接続ピンおよび第2の接続ピンはY構成で相互に接続されている。
[本発明の利点]
本発明による保護回路は、電子保護構造が第1の接続ピンおよび第2の接続ピンにより共同で利用され得るという利点を有する。このようにして面積削減が可能である。こうして、とりわけCANアプリケーションまたはLVDSアプリケーションの場合に、対称的な信号も達成され得る。
本発明の有利な変形形態は、従属請求項に提示されており、かつ明細書中で説明されている。
保護回路は第1および第2の接続ピンを有する。つまり保護回路は複数の、詳しくは少なくとも2つの接続ピンを有する。ただし多くの実施形態では、保護回路が3つ以上の接続ピンを有し、そのうちの2つ以上がY構成で相互に接続されている。保護回路の2つ以上の接続ピンが、保護回路の1つの共通の中間ノードと電気的に結合されることが好ましい。
多くの実施形態は、保護回路が、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンのために、正ストレスに対する共通の電子保護構造を有することを企図する。3つ以上の接続ピンを備えた実施形態では、保護回路が、2つ以上の接続ピン、好ましくはすべての接続ピンのために、正ストレスに対する共通の電子保護構造を有し得る。この構成は、電気部品が節減され得るので面積の利点を意味する。
特別な一実施形態では、保護回路が、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンの逆極性に対する複数の電子保護構造を有することが企図される。こうして、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンがそれぞれ専用の、逆極性に対する電子保護構造により保護され得ることが好ましい。加えてこれは、異なる逆極性要求をもつ異なるピンが、非常に個別的に、かつ機能および面積を最適化されて操作され得るという利点を有する。3つ以上の接続ピンを備えた実施形態では、保護回路が、各接続ピンのためにそれぞれ1つの専用の、逆極性に対する電子保護構造を有し得る。
本発明の好ましい一実施形態によれば、逆極性に対する電子保護構造および正ストレスに対する電子保護構造がY構成で相互に接続されていることが企図される。電子保護構造間のこの接続により、とりわけ正の動作電圧の領域で、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンの対称化がもたらされる。この場合、漏れ電流挙動、容量、およびバイアス電圧が第1の接続ピンと第2の接続ピンで同じである。例えばCANアプリケーションでは第1の接続ピンおよび第2の接続ピンの差動信号が情報として利用されるので、この構成は別々の保護構造より優れている。別々の場合には、時間領域内に両方の信号のズレが発生する可能性があり、したがって差動信号が一義的には認識され得ない。
多くの実施形態では、保護回路が、逆極性に対する電子保護構造として、第1のN型シリコン制御整流子および第2のN型シリコン制御整流子を有し、この場合、第1のN型シリコン制御整流子は第1の接続ピンの前に接続されており、かつ第2のN型シリコン制御整流子は第2の接続ピンの前に接続されている。このようなシリコン制御整流子は、略してNSCRとも呼ばれ、以下ではNSCRと呼ぶ(英語:NMOS-triggering silicon controlled rectifier)。第1のNSCRおよび第2のNSCRは、それぞれカソード、ゲート端子(制御端子とも言う)、およびアノードを有する。NSCRは広く普及しており、好都合に入手可能であり、かつ実証済みである。こうして信頼性の高い保護回路が達成され得る。このアプローチは、SCR保護構造だけに適用されるのではなく、任意のそのほかの保護構造、例えばバイポーラトランジスタ、ダイオード、アクティブクランプ、またはそのほかの素子へも拡張され得る。
多くの実施形態では、保護回路が、正ストレスに対する共通の電子保護構造として、P型シリコン制御整流子を有し、このP型シリコン制御整流子は、第1の接続ピンの前にも第2の接続ピンの前にも接続されている。このようなシリコン制御整流子は、略してPSCRとも呼ばれ、以下ではPSCRと呼ぶ(英語:PMOS-triggering silicon controlled rectifier)。PSCRは、カソード、ゲート端子(制御端子とも言う)、およびアノードを有する。PSCRは広く普及しており、好都合に入手可能であり、かつ実証済みである。こうして信頼性の高い保護回路が達成され得る。このアプローチは、SCR保護構造だけに適用されるのではなく、任意のそのほかの保護構造、例えばバイポーラトランジスタ、ダイオード、アクティブクランプ、またはそのほかの素子へも拡張され得る。3つ以上の接続ピンを備えた保護回路内では、このP型シリコン制御整流子がすべての接続ピンの前に接続されることが好ましい。
P型シリコン制御整流子が、第1のN型シリコン制御整流子および第2のN型シリコン制御整流子の前に接続されることが好ましい。こうして、効果的な保護回路を電気部品の数を減らして達成することができ、この保護回路では、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンがY構成で相互に接続されている。3つ以上の接続ピンを備えた保護回路では、P型シリコン制御整流子が、すべての接続ピンのそれぞれのN型シリコン制御整流子の前に接続されることが好ましい。
保護回路の幾つかの実施形態はリークモジュールを有する。リークモジュールは、回路内の高抵抗ノードの即座の放電のために配置され得る。こうして、あり得る後続パルスの前に、集積回路内の完全な等電位化をもたらし得ることが有利である。保護構造間の中間ノードが放電することが好ましい。マルチパルスに対する放電のためのリークモジュールが設けられている場合、利用回路の使用部品への電圧要求の軽減が可能にされる。これも面積削減の可能性を意味する。
多くの実施形態では、リークモジュールが、P型シリコン制御整流子に並列接続されている。したがってリークモジュールが、リークモジュールの第1の端子でPSCRのカソードと、およびリークモジュールの第2の端子でPSCRのアノードと電気的に結合されることが好ましい。好ましいリークモジュールは抵抗を有する。特に好ましいリークモジュールは、動作中の可変抵抗を備えた回路を内包する。並列接続は、簡単かつ信頼性の高いリークを実現することを可能にする。
実施形態では、保護回路がスイッチオフモジュールを有する。多くの実施形態では、保護回路は、速いパルス勾配を介してESD保護を動的にスイッチオンするために適応されている。その場合、動作中にESD保護が完全にスイッチオフされる場合か、またはESD保護が「通常の」機能パルスには反応しないように、したがって接続ピンまたは特定用途向け集積回路(ASICとも言う)の通常の機能を妨害しないように改変される場合が有利である。つまり、通常の動作中も、ESDパルスと似た急傾斜、とりわけ0.1~10V/nsの間の急傾斜を示す勾配をもつパルスが生じる可能性が極めて大きい。多くの実施形態は、スイッチオフモジュールが、可変のスイッチオフのために適応されていることを企図する。可変のスイッチオフはESD保護を弱めるが、しかし動作中も静電気放電が可能なので、ESD保護を完全にはスイッチオフしない。したがって特定用途向け集積回路の動作中も、保護回路は弱められた形態でアクティブのままである。スイッチオフモジュールは、ESDのための動的な保護構造(SCR)の使用を、極めて高速の信号を処理する回路の場合にも可能にする。
多くの実施形態では、スイッチオフモジュールは、保護回路の1つまたは複数の負保護素子、好ましくは負保護素子であるN型シリコン整流器のために用いられるように配置される。ここでは、すべての負保護素子に対して共通のスイッチオフモジュールが設けられ得る。その代わりに、各々の負保護素子がそれぞれ1つの専用のスイッチオフモジュールによってスイッチオフされ得る。この場合、各々の負保護素子に対して1つの専用のスイッチオフモジュールが設けられる。幾つかの実施形態は、それぞれ1つのスイッチオフモジュールが、1つの相応の負保護素子、とりわけN型シリコン整流器のゲート端子と電気的に結合されていることを企図する。
スイッチオフモジュールが、P型シリコン制御整流子のゲート端子と電気的に結合されることが好ましい。スイッチオフモジュールが、スイッチオフモジュールの結合端子を介してP型シリコン制御整流子のゲート端子と電気的に結合され、かつスイッチオフモジュールが、スイッチオフモジュールのさらなる結合端子を介してP型シリコン制御整流子のアノードと電気的に結合されることが好ましい。好ましい1つのスイッチオフモジュールは、動作中にPSCRをグラウンドまたは「grounded」するMOSスイッチである。したがって、スイッチオフモジュールがさらなる結合端子を介してグラウンド端子とも電気的に結合されることが好ましい。そのほかの実施形態では、MOSスイッチの代わりにそのほかのタイプのスイッチが設けられる。スイッチは、ゲート端子を介して確実にPSCRをスイッチオフし得る。多くの実施形態は、各接続ピンの各々の負保護素子のためのスイッチオフモジュールおよびそれに加えてP型シリコン制御整流子のための1つのスイッチオフモジュールを有する。
幾つかの実施形態では、P型シリコン制御整流子(PSCR)の前にグラウンド端子が接続されている。PSCRのアノードがグラウンド端子と電気的に結合されることが好ましい。
本発明によればさらに、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンがY構成で相互に接続されている上述の保護回路を備えた特定用途向け集積回路が提供される。
保護回路の上述の利点および可能な形態は、特定用途向け集積回路(ASIC)にも関係する。
特定用途向け集積回路が、CANインターフェイスまたはLVDSインターフェイスを有することが好ましい。第1の接続ピンは、実施形態ではCANH接続ピンである。第2の接続ピンは、実施形態ではCANL接続ピンである。別の実施形態では、第1の接続ピンおよび第2の接続ピンが、別の低電圧差動信号(LVDS)インターフェイスである。第1の接続ピンおよび第2の接続ピンは、実施形態では、原則的にあらゆる種類のASICシステム接続ピンまたはインターフェイス接続ピン、とりわけ差動ASICインターフェイスの接続ピンであり得る。HV-ASIC接続ピンのための一般的な適用も可能である。
本発明の1つの例示的実施形態を添付の図面および以下の説明に基づいてより詳しく解説する。
特定用途向け集積回路に内包されている本発明による保護回路の1つの例示的実施形態を示す図である。
図1では、特定用途向け集積回路に内包されている本発明による保護回路1を示している。
この例示的な保護回路1は、第1の接続ピン2および第2の接続ピン3を有している。したがって保護回路1は、特定用途向け集積回路の接続ピン2、3のための静電気放電に対する保護回路1である。この保護回路1は、例示的にCANアプリケーション用であり、つまり基本例である。しかし本発明は、CANアプリケーションでの適用には制限されていない。示した例示的実施形態では第1の接続ピン2はCANH接続ピンである。示した例示的実施形態では第2の接続ピン3はCANL接続ピンである。しかし、とりわけCANアプリケーションとは違う、2つより多い接続ピン2、3を有するそのほかのアプリケーション用の実施形態(簡略化のため示していない)が存在する。
以下に説明するように、第1の接続ピン2および第2の接続ピン3は、示した例示的実施形態ではY構成で相互に接続されている。
保護回路1は、第1の接続ピン2および第2の接続ピン3のために、正ストレスに対する共通の電子保護構造を有している。より正確に言えば、保護回路1は、正ストレスに対する共通の電子保護構造として、第1の接続ピン2の前にも第2の接続ピン3の前にも接続されているP型シリコン制御整流子、PSCR4を有している。
保護回路1は、第1の接続ピン2および第2の接続ピン3の逆極性に対する複数の電子保護構造をさらに有している。より正確に言えば、保護回路1は、逆極性に対する電子保護構造として、第1のN型シリコン制御整流子、第1のNSCR5、および第2のN型シリコン制御整流子、第2のNSCR6を有している。第1のNSCR5は第1の接続ピン2の前に接続されており、かつ第2のNSCR6は第2の接続ピン3の前に接続されている。第1の接続ピン2は、直接的に、つまりさらなる部品の介在なしで、第1のNSCR5のアノード7と電気的に結合されている。第2の接続ピン3は、直接的に第2のNSCR6のアノード8と電気的に結合されている。
第1のNSCR5のカソード9は、直接的に第2のNSCR6のカソード10と電気的に結合されている。PSCR4のカソード11は、直接的に第1のNSCR5のカソード9とも、直接的に第2のNSCR6のカソード10とも電気的に結合されている。つまりPSCR4は、第1のNSCR5および第2のNSCR6の前に接続されている。言い換えれば、第1のNSCR5は第1の接続ピン2とPSCR4の間に接続されており、かつ第2のNSCR6は第2の接続ピン3とPSCR4の間に接続されている。このようにして、逆極性に対する両方の電子保護構造および正ストレスに対する共通の電子保護構造が、Y構成で相互に接続されている。第1の接続ピン2および第2の接続ピン3は、Y構成の2つの終端を形成しており、その一方でY構成の第3の終端はPSCR4によって形成されている。
Y構成の利点は、CANアプリケーションの場合、またはそのほかの例示的実施形態、そのほかのLVDSインターフェイスにおいて、第1の接続ピン2および第2の接続ピン3のための対称的な信号が達成可能なことである。示した例示的実施形態では、正保護が1個しか使用されないので、面積削減も達成可能である。
保護回路1は、リークモジュール12、この場合には抵抗をさらに有している。リークモジュール12は、リークモジュールの第1の端子で、第1の導体13を介して直接的に第1のNSCR5のカソード9、第2のNSCR6のカソード10、およびPSCR4のカソード11と、中間ノード14内で電気的に結合されている。リークモジュール12は、リークモジュール12の第2の端子で、第2の導体16を介して直接的にPSCR4のアノード15と結合されている。つまり、リークモジュール12はPSCR4に並列接続されている。リークモジュール12は加えて、第2の導体16を介して直接的にグラウンド端子17(GNDまたは接地とも呼ばれる)と電気的に結合されている。これは、グラウンド端子17がPSCR4の前にも接続されていることを意味し、より正確に言えば、PSCR4のアノード15が直接的にグラウンド端子17と電気的に結合されている。
保護回路1は、スイッチオフモジュール18をさらに有している。スイッチオフモジュール18は、動作中にPSCR4を「grounded」する、つまりアノード15とグラウンド端子17の間の電気結合をアクティブにするMOSスイッチである。スイッチオフモジュール18は、第1の結合部19を介して直接的にPSCR4のゲート端子20と電気的に結合されている。スイッチオフモジュール18は、第2の結合部21を介して直接的にPSCR4のアノード15と電気的に結合されている。スイッチオフモジュール18は加えて、第2の結合部21を介して直接的にグラウンド端子17ともリークモジュール12の第2の側16とも電気的に結合されている。
スイッチオフモジュール18およびリークモジュール12は、CANH接続ピンおよびCANL接続ピンだけでなく、すべてのそのほかのシステム接続ピンにも適用可能である。その際、Y構成のコンセプトは、使用されるESD保護構造の種類には依存しない。
図1で示した例示的実施形態では、確かに保護回路1の2つの部品間の直接的な結合がしばしば述べられている。しかしながら、示していない実施形態ではこのような直接的な結合の代わりに、2つの相互に電気的に結合している部品間に、保護回路1内のさらなる部品が、保護回路1の機能方式を変化させることなく設けられ得る。
示していない実施形態では、保護回路1が3つ以上の接続ピン2、3を有している。つまり保護回路1は、原則的に第1の接続ピン2および第2の接続ピン3に制限されていない。この場合、図1でもそうであるように、各接続ピン2、3の前に1つの専用の負保護素子、好ましくはNSCR5、6が接続されることが好ましい。各NSCR5、6、各接続ピン2、3の前に、図1でもそうであるように、共通のPSCR4が接続されることが好ましい。接続ピン2、3の数に依存せず、図1でも示しているように、各接続ピン2、3の各NSCR5、6が、NSCR5、6のそれぞれのカソード9、10により中間ノード14と直接的に結合されることが好ましい。示していない実施形態ではこれに加えて、1つまたは複数の負保護素子のゲート端子とさらなるスイッチオフモジュール18が電気的に結合されている。各接続ピン2、3の各々の負保護素子に対して1つのさらなるスイッチオフモジュール18が設けられることが好ましい。
システム全体の利点として、明らかに減少した面積による統合的解決(これは費用節減をもたらす)およびあらゆる種類の妨害パルスに対するロバスト性(これはさらなるアプリケーション可能性を許容する)が達成可能である。

Claims (11)

  1. 特定用途向け集積回路の接続ピン(2、3)のための静電気放電に対する保護回路(1)であって、前記保護回路(1)が、
    - 第1の接続ピン(2)および
    - 第2の接続ピン(3)を有する保護回路(1)において、
    前記第1の接続ピン(2)および前記第2の接続ピン(3)がY構成で相互に接続されており、
    前記保護回路(1)が、逆極性に対する電子保護構造として、第1のN型シリコン制御整流子(5)および第2のN型シリコン制御整流子(6)を有しており、前記第1のN型シリコン制御整流子(5)が前記第1の接続ピン(2)の前に接続されており、かつ前記第2のN型シリコン制御整流子(6)が前記第2の接続ピン(3)の前に接続されており、
    前記保護回路(1)が、正ストレスに対する共通の電子保護構造として、P型シリコン制御整流子(4)を有しており、
    前記P型シリコン制御整流子(4)は、前記第1のN型シリコン制御整流子(5)および前記第2のN型シリコン制御整流子(6)の前に接続されており、
    前記第1のN型シリコン制御整流子(5)と前記第2のN型シリコン制御整流子(6)と、前記P型シリコン制御整流子(4)とが、中間ノード(14)を介してY構成で相互に接続され、
    前記保護回路(1)がリークモジュール(12)を有しており、前記リークモジュール(12)は前記中間ノード(14)が放電するように前記保護回路(1)に設けられている保護回路(1)。
  2. 前記リークモジュール(12)が、前記P型シリコン制御整流子(4)に並列接続されている、請求項に記載の保護回路(1)。
  3. 前記保護回路(1)がスイッチオフモジュール(18)を有している、請求項1または2に記載の保護回路(1)。
  4. 前記スイッチオフモジュール(18)が、前記P型シリコン制御整流子(4)のゲート端子(20)と電気的に結合されている、請求項に記載の保護回路(1)。
  5. 前記スイッチオフモジュール(18)が、前記第1のN型シリコン制御整流子(5)と前記第2のN型シリコン制御整流子(6)とに共通に設けられている、請求項3に記載の保護回路(1)。
  6. 2つの前記スイッチオフモジュール(18)が、それぞれ、前記第1のN型シリコン制御整流子(5)および前記第2のN型シリコン制御整流子(6)に設けられている、請求項3に記載の保護回路(1)。
  7. 前記2つのスイッチオフモジュール(18)が、それぞれ、前記第1のN型シリコン制御整流子(5)のゲート端子および前記第2のN型シリコン制御整流子(6)のゲート端子と電気的に結合されている、請求項6に記載の保護回路(1)。
  8. 前記スイッチオフモジュール(18)は、グラウンド端子と電気的に結合され、動作中に前記P型シリコン制御整流子(4)をグラウンドするように構成されている、請求項3から7のいずれか一項に記載の保護回路(1)。
  9. グラウンド端子(17)が、前記P型シリコン制御整流子(4)の前に接続されている、請求項からのいずれか一項に記載の保護回路(1)。
  10. 請求項1から9のいずれか一項に記載の保護回路(1)を備えた特定用途向け集積回路。
  11. 前記特定用途向け集積回路が、CANインターフェイスまたはLVDSインターフェイスを有している、請求項10に記載の特定用途向け集積回路。
JP2020561739A 2018-05-04 2019-05-02 静電気放電に対する保護回路 Active JP7133035B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018206896.8A DE102018206896A1 (de) 2018-05-04 2018-05-04 Schutzschaltung gegen elektrostatische Entladungen
DE102018206896.8 2018-05-04
PCT/EP2019/061208 WO2019211361A1 (de) 2018-05-04 2019-05-02 Schutzschaltung gegen elektrostatische entladungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021522691A JP2021522691A (ja) 2021-08-30
JP7133035B2 true JP7133035B2 (ja) 2022-09-07

Family

ID=66397239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020561739A Active JP7133035B2 (ja) 2018-05-04 2019-05-02 静電気放電に対する保護回路

Country Status (6)

Country Link
US (1) US12009358B2 (ja)
EP (1) EP3788654B1 (ja)
JP (1) JP7133035B2 (ja)
CN (1) CN112074955B (ja)
DE (1) DE102018206896A1 (ja)
WO (1) WO2019211361A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3146759A1 (fr) * 2023-03-17 2024-09-20 Stmicroelectronics International N.V. Dispositif de protection contre des décharges électrostatiques

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006507678A (ja) 2002-11-25 2006-03-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 接続端子のesd保護のための方法及び回路構成体
JP2007173793A (ja) 2005-11-28 2007-07-05 Toshiba Corp 半導体装置
JP2008288236A (ja) 2007-05-15 2008-11-27 New Japan Radio Co Ltd 半導体集積回路
US20090262474A1 (en) 2008-04-22 2009-10-22 Exar Corporation Low-voltage cmos space-efficient 15 kv esd protection for common-mode high-voltage receivers
US20150249078A1 (en) 2014-02-28 2015-09-03 Infineon Technologies Ag Integrated circuit having an esd protection structure and photon source
US20160126233A1 (en) 2014-11-05 2016-05-05 Texas Instruments Incorporated Method and circuitry for on-chip electro-static discharge protection scheme for low cost gate driver integrated circuit

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0494161A (ja) 1990-08-09 1992-03-26 Nissan Motor Co Ltd 集積回路用入出力保護装置
FR2670339B1 (fr) 1990-12-07 1993-03-12 Sgs Thomson Microelectronics Circuit de protection limitant les surtensions entre deux limites choisies et son integration monolithique.
US6512662B1 (en) * 1999-11-30 2003-01-28 Illinois Institute Of Technology Single structure all-direction ESD protection for integrated circuits
CN101667727B (zh) * 2008-09-05 2012-11-21 群康科技(深圳)有限公司 接口静电保护电路
EP2246885A1 (fr) * 2009-04-27 2010-11-03 STmicroelectronics SA Structure de protection d'un circuit intégré contre des décharges électrostatiques
US8466489B2 (en) * 2011-02-04 2013-06-18 Analog Devices, Inc. Apparatus and method for transient electrical overstress protection
US9373612B1 (en) * 2013-05-31 2016-06-21 Altera Corporation Electrostatic discharge protection circuits and methods
US9831666B2 (en) * 2015-05-15 2017-11-28 Analog Devices, Inc. Apparatus and methods for electrostatic discharge protection of radio frequency interfaces
US11201466B2 (en) * 2018-07-12 2021-12-14 Globalfoundries U.S. Inc. Electrostatic discharge clamp structures
US11398468B2 (en) * 2019-12-12 2022-07-26 Micron Technology, Inc. Apparatus with voltage protection mechanism
US11418027B1 (en) * 2021-04-07 2022-08-16 Winbond Electronics Corp. Electrostatic discharge protection circuit

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006507678A (ja) 2002-11-25 2006-03-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 接続端子のesd保護のための方法及び回路構成体
JP2007173793A (ja) 2005-11-28 2007-07-05 Toshiba Corp 半導体装置
JP2008288236A (ja) 2007-05-15 2008-11-27 New Japan Radio Co Ltd 半導体集積回路
US20090262474A1 (en) 2008-04-22 2009-10-22 Exar Corporation Low-voltage cmos space-efficient 15 kv esd protection for common-mode high-voltage receivers
US20150249078A1 (en) 2014-02-28 2015-09-03 Infineon Technologies Ag Integrated circuit having an esd protection structure and photon source
US20160126233A1 (en) 2014-11-05 2016-05-05 Texas Instruments Incorporated Method and circuitry for on-chip electro-static discharge protection scheme for low cost gate driver integrated circuit

Also Published As

Publication number Publication date
EP3788654B1 (de) 2023-12-06
JP2021522691A (ja) 2021-08-30
DE102018206896A1 (de) 2019-11-07
WO2019211361A1 (de) 2019-11-07
CN112074955B (zh) 2024-10-18
US20210242195A1 (en) 2021-08-05
EP3788654A1 (de) 2021-03-10
US12009358B2 (en) 2024-06-11
CN112074955A (zh) 2020-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7719806B1 (en) Systems and methods for ESD protection
CN105281313A (zh) 瞬态电压保护电路和器件
US7643258B2 (en) Methods and apparatus for electrostatic discharge protection in a semiconductor circuit
JPH10163423A (ja) 静電気保護回路
WO2008027663A2 (en) Distributed electrostatic discharge protection circuit with varying clamp size
US6924963B2 (en) ESD protection network utilizing precharge bus lines
JP4869343B2 (ja) 分配した低電圧クランプ装置を用いて高電圧esd保護を分担する経路
US7112853B2 (en) System for ESD protection with extra headroom in relatively low supply voltage integrated circuits
JP2003517215A (ja) 改良型esdダイオード構造
KR100399266B1 (ko) 반도체집적회로
US6104588A (en) Low noise electrostatic discharge protection circuit for mixed signal CMOS integrated circuits
EP2551907A1 (en) Semiconductor device
US11824349B2 (en) Electrostatic discharge protection circuit
JP7133035B2 (ja) 静電気放電に対する保護回路
EP2223422B1 (en) Integrated circuit with a dc-dc converter
JP2870514B2 (ja) 半導体装置
JP2008147376A (ja) 半導体装置
JP2014135320A (ja) 半導体装置
KR100885375B1 (ko) 정전기 방지 회로를 포함하는 반도체 소자
KR100631956B1 (ko) 정전기 방전 보호 회로
CN107769757B (zh) 一种比较器抗静电电路及其工作方法
JPH0494161A (ja) 集積回路用入出力保護装置
US6785109B1 (en) Technique for protecting integrated circuit devices against electrostatic discharge damage
JP5143096B2 (ja) 保護回路
CN112397499B (zh) 静电放电防护装置与方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201104

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201218

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20211209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220104

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20220404

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220704

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220824

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220826

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7133035

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150