JP7089024B2 - 真空蒸発源 - Google Patents

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Description

本発明は、ウェハーや基板上に薄膜を形成するために用いられる真空蒸発源に関する。
一般に真空蒸発源は、高真空のチャンバー内に配置された基板上に所定の薄膜を形成するために薄膜形成用物質を加熱して蒸発させるものであり、半導体の製造工程においてウェハー表面に特定物質からなる薄膜を形成したり、大型平板ディスプレイ装置の製造工程においてガラス基板などの表面に所望する物質の薄膜形成に用いられている。
図1は、従来の真空蒸発源を概略的に示す図である。
従来の真空蒸発源は、図1に示すように、内部空間部11を有するケース10と、内部空間部11に備えられて薄膜形成用物質が入れられるるつぼ20と、内部空間部11の側面とるつぼ20の外部側面との間に位置してるつぼ20を加熱する熱線30と、熱線30の下端を支える支え台40とを含む。
しかし、従来の真空蒸発源は、支え台40が熱線30の下端を支える構造であるため、重力によって熱線30が曲がる問題があり、特に熱線30の熱膨張及び熱収縮が多数回行われるとき、熱線30の熱膨張が上方向に繰り返されることによって、重力の影響を受けて熱線30が持続的に曲がるようになり、窮極的には熱線30の真直度が劣る問題がある。
本発明の技術的課題は、熱線の真直度を向上させることができる真空蒸発源を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明の実施形態による真空蒸発源は、るつぼを含む真空蒸発源において、前記るつぼを加熱する第1熱線と、前記第1熱線の上部を固定する第1上部固定部とを含み、前記第1熱線は、上に凸の形に折り曲げられた第1上向折曲部を含み、前記第1上部固定部は、前記第1熱線の前記第1上向折曲部よりも下方に設けられ、前記第1上向折曲部の下の部分を支える折曲下部固定部材と、前記第1熱線の前記第1上向折曲部よりも上方に設けられ、前記第1上向折曲部の上の部分を支える折曲上部固定部材とを含み、前記第1熱線は、前記折曲上部固定部材によって上への熱膨張が遮断され、前記第1熱線は、前記折曲下部固定部材によって下方にぶら下げられており、前記第1熱線の変形は、重力方向である下方向へのみ起きるように構成されている。
前記第1熱線は、前記第1上向折曲部と間隔を置いて上に凸の形に折り曲げられた第2上向折曲部をさらに含み得、前記折曲下部固定部材は、前記るつぼを囲むリング形状を有して前記第1及び第2上向折曲部の各下の部分を共に支え得、前記折曲上部固定部材は、前記るつぼを囲むリング形状を有して前記第1及び第2上向折曲部の各上の部分を共に支え得る。
上述した本発明の実施形態による真空蒸発源は、前記るつぼを収容するための内部空間を有するケースと、前記内部空間の側面と前記第1熱線との間に備えられる反射板をさらに含み得、前記折曲下部固定部材と前記折曲上部固定部材それぞれは、前記反射板に支持され得る。
前記第1熱線は、前記第1上向折曲部の両側にそれぞれ下方向に長く伸びた第1下向直線部と第2下向直線部とを含み得、前記第1及び第2下向直線部は、前記折曲下部固定部材を貫き得る。
前記折曲下部固定部材と前記折曲上部固定部材それぞれは、絶縁材質からなる。
上述した本発明の実施形態による真空蒸発源は、前記るつぼを加熱する第2熱線と、前記第2熱線の上部を固定する第2上部固定部とをさらに含み得、前記第1熱線は、前記るつぼの上半部に対応するように位置され得、前記第2熱線は、前記るつぼの下半部に対応するように位置され得る。
以上のように、本発明の実施形態による真空蒸発源は、次のような効果を有することができる。
本発明の実施形態によれば、第1熱線と第1上部固定部を含む技術構成を提供するので、第1熱線が第1上部固定部によって下方向にぶらさがっている形態になり、重力の影響によって第1熱線の真直度を向上させることができ、特に第1熱線は、第1上部固定部によって、上への熱膨張が遮断されると共にぶら下がった形態を有するようになるので、第1熱線の熱膨張及び熱収縮が多数回行われたとしても、その変形が重力方向である下方向へのみ起き、重力の影響によって第1熱線の真直度をさらに向上させることができる。
従来の真空蒸発源を概略的に示す図である。 本発明の一実施形態による真空蒸発源を概略的に示す図である。 図2の真空蒸発源のうち第1及び第2熱線、並びに第1及び第2上部固定部を展開して示す図である。 第1熱線が第1上部固定部に固定された状態を概略的に示す斜視図である。 図3における第1及び第2熱線の熱膨張前(a)と後(b)を比較して示す図である。
以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は、様々な異なる形態で具現することができ、ここで説明する実施形態に限定されない。
図2は、本発明の一実施形態による真空蒸発源を概略的に示す図であり、図3は、図2の真空蒸発源のうち第1及び第2熱線、並びに第1及び第2上部固定部を展開して示す図であり、図4は、第1熱線が第1上部固定部に固定された状態を概略的に示す斜視図であり、図5は、図3における第1及び第2熱線の熱膨張前(a)と後(b)を比較して示す図である。
本発明の一実施形態による真空蒸発源100は、図2ないし図5に示すように、るつぼ20を含む真空蒸発源において、第1熱線110と第1上部固定部120を含む。以下、図2ないし図5を引き続き参照して各構成要素について詳細に説明する。
第1熱線110は、るつぼ20を加熱する構成要素であり、図2に示すように、るつぼ20の上半部に位置され、るつぼ20の上半部を加熱することができる。
具体的には、第1熱線110は、図3及び図4に示すように、上に凸の形に折り曲げられた第1上向折曲部111を含み得る。これと共に、第1熱線110は、図3及び図4に示すように、第1上向折曲部111と間隔を置いて上に凸の形に折り曲げられた第2上向折曲部112をさらに含み得る。もちろん、るつぼ20の大きさに応じて、図3に示すように第1熱線110が複数回折り曲げられた形態を有し得、折り曲げられた数だけ上向折曲部の数も定められ得る。
第1上部固定部120は、図2ないし図4に示すように、第1熱線110の上部を固定する構成要素である。したがって、第1熱線110が第1上部固定部120によって下方向にぶら下がっている形態になり、重力の影響によって第1熱線110の真直度を向上させることができる。
例えば、第1上部固定部120は、図2ないし図4に示すように、折曲下部固定部材121と折曲上部固定部材122を含み得る。折曲下部固定部材121は、第1熱線110の第1上向折曲部111の下の部分を支える役割をし、折曲上部固定部材122は、第1熱線110の第1上向折曲部111の上の部分を支える役割をする。したがって、第1熱線110は、折曲上部固定部材122によって上への熱膨張が遮断されると共に折曲下部固定部材121にぶら下がった形態を有するようになるので、第1熱線110の熱膨張及び熱収縮が多数回行われたとしても、その変形が重力方向である下方向へのみ起きるようになり、重力の影響によって第1熱線110の真直度をさらに向上させることができる。
さらに、図4に示すように、折曲下部固定部材121は、るつぼ20を囲むリング形状(ring shape)を有して第1及び第2上向折曲部111,112の各下の部分を共に支えることができ、折曲上部固定部材122も、るつぼ20を囲むリング形状を有して第1及び第2上向折曲部111,112の各上の部分を共に支えることができる。したがって、一つの折曲下部固定部材121で複数の上向折曲部(111,112を参照)の各下の部分を同時に支えることができ、一つの折曲上部固定部材122で複数の上向折曲部(111,112を参照)の各上の部分を同時に支えることができるため、その構成を単純化することができ、部品によるコストを減らすことができる。
また、第1熱線110の短絡を未然に防ぐために、折曲下部固定部材121と折曲上部固定部材122それぞれはセラミックのような絶縁材質からなる。
さらに、図4に示すように、第1熱線110は、第1上向折曲部111の両側にそれぞれ下方向に長く伸びた第1下向直線部111aと第2下向直線部111bを含み得、第1及び第2下向直線部111a,111bは、折曲下部固定部材121を上下移動可能に貫くことができる。したがって、第1及び第2下向直線部111a,111bが熱膨張及び熱収縮してもその長さの増減が妨げられない。
これと共に、上述した本発明の一実施形態による真空蒸発源100は、図2に示すように、ケース130と反射板140をさらに含み得る。ケース130は、るつぼ20を収容するための内部空間131を有し、そして反射板140は、内部空間131の側面と第1熱線110との間に備えられて、第1熱線110の熱をるつぼ20に反射させる役割をする。
このように、ケース130と反射板140をさらに含む場合、図2に示すように、上述した折曲下部固定部材121と上述した折曲上部固定部材122それぞれは反射板140に支持され得る。
さらに、第1熱線110の上下方向の動きを自由に案内して左右方向の動きを限定する案内部材170がさらに備えられ得る。
これと共に、上述した本発明の一実施形態による真空蒸発源100は、図2及び図3に示すように、第2熱線150と第2上部固定部160をさらに含み得る。
第2熱線150は、るつぼ20を加熱する構成要素であり、図2に示すように、るつぼ20の下半部に位置されてるつぼ20の下半部を加熱し得る。さらに、第2熱線150は上述した第1熱線110とその備え位置のみが異なるだけであり、全体的に同じ構成を有するので、これに対する具体的な構成及び作用/効果は上述したとおりである。
第2上部固定部160は、図2及び図3に示すように、第2熱線150の上部を固定する構成要素である。したがって、第2熱線150が第2上部固定部160によって下方向にぶら下がっている状態になり、重力の影響によって第2熱線150の真直度を向上させることができる。さらに、第2上部固定部160は上述した第1上部固定部120とその備え位置のみが異なるだけであり、全体的に同じ構成を有するので、これに対する具体的な構成及び作用/効果は上述したとおりである。
以下、図5を参照して、第1及び第2熱線110,150の加熱前(a)と加熱後(b)の状態を説明する。
加熱及び冷却をすると、図5に示すように第1及び第2熱線110,150が「d」だけの増減を繰り返す。特に、第1熱線110が増える基準固定点は第1上部固定部120であり、第2熱線150が増える基準固定点は第2上部固定部160であるため、その位置は常に一定に維持される。
特に、第1熱線110が高温加熱及び冷却による熱膨張及び熱収縮するとき、第1熱線110が同じ形態を維持しなければならない形態安定度が重要である。このために、第1熱線110の上部を固定できる技術構成を提供し、第1熱線110の熱膨張及び熱収縮の際に第1上部固定部120の下にぶら下がって重力によって下方向に同じ形態で増減する過程を繰り返すことができるようにした。実験によって確認した結果、第1熱線110の上部が第1上部固定部120に固定されて熱的に膨張及び収縮する際、常に基準位置になる位置を最上部に設定することによって、使用回数及び時間に応じた第1熱線110の熱力学的変形において、より安定した構造が実現された。また、第1熱線110が重力方向である下方向にぶら下がっている構造であるため、熱膨張及び熱収縮が多数回行われたとしても、第1熱線110の真直度を向上させる長所があり、第1熱線110が互いにぶつかり得る可能性を顕著に減らすことができた。もちろん、第2熱線150に対しても同じ実験結果を得ることができた。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、次の特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属する。
本発明は真空蒸発源に関するものであるため、半導体などの製造に適用されることができ、産業上の利用可能性がある。

Claims (6)

  1. るつぼを含む真空蒸発源において、
    前記るつぼを加熱する第1熱線と、
    前記第1熱線の上部を固定する第1上部固定部と、
    を含み、
    前記第1熱線は、上に凸の形に折り曲げられた第1上向折曲部を含み、
    前記第1上部固定部は、
    前記第1熱線の前記第1上向折曲部よりも下方に設けられ、前記第1上向折曲部の下の部分を支える折曲下部固定部材と、
    前記第1熱線の前記第1上向折曲部よりも上方に設けられ、前記第1上向折曲部の上の部分を支える折曲上部固定部材と、
    を含み、
    前記第1熱線は、前記折曲上部固定部材によって上への熱膨張が遮断され、
    前記第1熱線は、前記折曲下部固定部材によって下方にぶら下げられており、
    前記第1熱線の変形は、重力方向である下方向へのみ起きるように構成されている、真空蒸発源。
  2. 前記第1熱線は、前記第1上向折曲部と間隔を置いて上に凸の形に折り曲げられた第2上向折曲部をさらに含み、
    前記折曲下部固定部材は、前記るつぼを囲むリング形状を有して前記第1及び第2上向折曲部の各下の部分を共に支え、
    前記折曲上部固定部材は、前記るつぼを囲むリング形状を有して前記第1及び第2上向折曲部の各上の部分を共に支える、請求項1に記載の真空蒸発源。
  3. 前記真空蒸発源は、
    前記るつぼを収容するための内部空間を有するケースと、
    前記内部空間の側面と前記第1熱線との間に備えられる反射板と、
    をさらに含み、
    前記折曲下部固定部材と前記折曲上部固定部材それぞれは、前記反射板に支持される、請求項1に記載の真空蒸発源。
  4. 前記第1熱線は、前記第1上向折曲部の両側にそれぞれ下方向に長く伸びた第1下向直線部と第2下向直線部とを含み、
    前記第1及び第2下向直線部は、前記折曲下部固定部材を貫く、請求項1に記載の真空蒸発源。
  5. 前記折曲下部固定部材と前記折曲上部固定部材それぞれは、絶縁材質からなる、請求項1に記載の真空蒸発源。
  6. 前記真空蒸発源は、
    前記るつぼを加熱する第2熱線と、
    前記第2熱線の上部を固定する第2上部固定部と、
    をさらに含み、
    前記第1熱線は、前記るつぼの上半部に対応するように位置され、
    前記第2熱線は、前記るつぼの下半部に対応するように位置される、請求項1に記載の真空蒸発源。
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