CN111051564A - 真空蒸发源 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是提供能够改善加热线的平直度的真空蒸发源。为此，本发明的方面提供了包括坩埚的真空蒸发源，所述真空蒸发源包括用于加热所述坩埚的第一加热线和用于固定所述第一加热线的上部部分的第一上部固定部分。

Description

真空蒸发源
技术领域
本发明涉及用于在晶片或衬底上形成薄膜的真空蒸发源。
背景技术
通常，真空蒸发源加热并且蒸发用于形成薄膜的材料，以在设置在高真空室中的衬底上形成预定的薄膜。它用于在半导体制造工艺中在晶片表面上形成由特定材料制成的薄膜，或者在大型平板显示装置的制造工艺中在玻璃衬底等的表面上形成期望材料的薄膜。
图1是示意性地示出常规真空蒸发源的视图。
如图1所示，常规真空蒸发源包括具有内部空间11的壳体10、设置在内部空间11中并且容纳用于形成薄膜的材料的坩埚20、定位于内部空间11的侧面与坩埚20的外侧之间以加热坩埚20的加热线30、以及支撑加热线30的底部的支撑件40。
然而，常规真空蒸发源的问题在于，由于支撑件40支撑加热线30的底部，加热线30由于重力而弯曲。特别地，当加热线30的热膨胀和热收缩进行很多次时，加热线30的热膨胀在向上的方向上重复，并且加热线30在重力的影响下连续弯曲，从而最终降低加热线30的平直度。
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供能够改善加热线的平直度的真空蒸发源。
问题的解决方案
本发明的方面提供了包括坩埚的真空蒸发源，所述真空蒸发源包括用于加热所述坩埚的第一加热线和用于固定所述第一加热线的上部部分的第一上部固定部分。
第一加热线可以包括以向上凸的形状弯曲的第一向上弯曲部分。第一向上固定部分可以包括用于支撑第一向上弯曲部分的下部部分的弯曲的下部固定构件，以及用于支撑第一向上弯曲部分的上部部分的弯曲的上部固定构件。
第一加热线还可以包括与第一向上弯曲部分间隔的以向上凸的形状弯曲的第二向上弯曲部分，弯曲的下部固定构件可以具有围绕坩埚的环形，以将第一向上弯曲部分和第二向上弯曲部分的每一个下部部分支撑在一起。弯曲的上部固定构件可以具有围绕坩埚的环形，以将第一向上弯曲部分和第二向上弯曲部分的每一个上部部分支撑在一起。
根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源还可以包括具有容纳坩埚的内部空间的壳体，以及设置在内部空间的侧面与第一加热线之间的反射板，其中弯曲的下部固定构件和弯曲的上部固定构件中的每一个均可以被反射板支撑。
第一加热线可以包括分别在第一向上弯曲部分的两个侧面上在向下方向上延伸的第一向下直的部分和第二向下直的部分，其中第一向下直的部分和第二向下直的部分可以穿透弯曲的下部固定构件。
弯曲的下部固定构件和弯曲的上部固定构件中的每一个均可以由绝缘材料制成。
根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源还可以包括用于加热坩埚的第二加热线，以及用于固定第二加热线的上部部分的第二上部固定部分，其中第一加热线可以定位成与坩埚的上半部分相对应，并且第二加热线可以定位成与坩埚的下半部分相对应。
有益效果
如以上描述，根据本发明的实施方案的真空蒸发源可以具有以下效果。
根据本发明的实施方案，其提供了包括第一加热线和第一上部固定部分的技术配置。因此，由于第一加热线通过第一上部固定部分悬挂在向下的方向上，因此可以通过重力的影响来改善第一加热线的平直度。特别地，第一加热线具有悬挂形状，同时被第一上部固定部分阻止向上热膨胀。因此，当第一加热线的热膨胀和热收缩进行很多次时，仅在向下的方向(其为重力的方向)上发生变形，使得可以通过重力的影响进一步改善第一加热线的平直度。
附图简述
图1是示意性地示出常规真空蒸发源的视图。
图2是示意性地示出根据本发明的实施方案的真空蒸发源的视图。
图3是图2的真空蒸发源的第一加热线和第二加热线以及第一上部固定部分和第二上部固定部分的分解图。
图4是示意性地示出其中第一加热线固定至第一上部固定部分的状态的透视图。
图5是示出在图3中的第一加热线和第二加热线的热膨胀之前(a)与之后(b)之间的比较的视图。
发明模式
在下文，将参考附图详细地描述本发明的实施方案，使得本领域技术人员可以容易地实施本发明。然而，本发明可以以许多不同的形式来实施，并且其不限于本文描述的实施方案。
图2是示意性地示出根据本发明的实施方案的真空蒸发源的视图。图3是图2的真空蒸发源的第一加热线和第二加热线以及第一上部固定部分和第二上部固定部分的分解图。图4是示意性地示出其中第一加热线固定至第一上部固定部分的状态的透视图。图5是示出在图3中的第一加热线和第二加热线的热膨胀之前(a)与之后(b)之间的比较的视图。
如图2至图5所示，根据本发明的实施方案的包括坩埚20的真空蒸发源100包括第一加热线110和第一上部固定部分120。在下文，将继续参考图2至图5详细地描述每个组件。
第一加热线110是用于加热坩埚20的组件，并且如图2所示，第一加热线110可以定位于坩埚20的上半部分，以加热坩埚20的上半部分。
具体地，第一加热线110可以包括以向上凸的形状弯曲的第一向上弯曲部分111，如图3和图4所示。此外，如图3和图4所示，第一加热线110还可以包括与第一向上弯曲部分111间隔的以向上凸的形状弯曲的第二向上弯曲部分112。自然地，根据坩埚20的尺寸，如图3所示，第一加热线110可以弯曲几次，并且可以由弯曲的数量确定向上弯曲部分的数量。
如图2至图4所示，第一上部固定部分120为用于固定第一加热线110的上部部分的组件。因此，由于第一加热线110通过第一上部固定部分120悬挂在向下的方向上，因此可以通过重力的影响来改善第一加热线110的平直度。
例如，第一上部固定部分120可以包括弯曲的下部固定构件121和弯曲的上部固定构件122，如图2至图4所示。弯曲的下部固定构件121用于支撑第一加热线110的第一向上弯曲部分111的下部部分，并且弯曲的上部固定构件122用于支撑第一加热线110的第一向上弯曲部分111的上部部分。因此，第一加热线110被弯曲的上部固定构件122阻止向上热膨胀，并且具有从弯曲的下部固定构件121悬挂的形状。因此，当第一加热线110的热膨胀和热收缩进行很多次时，仅在向下的方向(其为重力的方向)上发生变形，使得可以通过重力的影响进一步改善第一加热线110的平直度。
此外，如图4所示，弯曲的下部固定构件121具有围绕坩埚20的环形，以将第一向上弯曲部分111和第二向上弯曲部分121的每一个下部部分支撑在一起。弯曲的上部固定构件122还可以具有围绕坩埚20的环形，以将第一向上弯曲部分111和第二向上弯曲部分112的每一个上部部分支撑在一起。因此，多个向上弯曲部分(参见111和112)的每一个下部部分可以同时被一个弯曲的下部固定构件121支撑，并且多个向上弯曲部分(参见111和112)的每一个上部部分可以同时被一个弯曲的上部固定构件122支撑。因此，可以简化配置，并且可以降低部件的成本。
此外，为了提前防止第一加热线110的短路，弯曲的下部固定构件121和弯曲的上部固定构件122中的每一个均可以由诸如陶瓷的绝缘材料制成。
此外，如图4所示，第一加热线110可以包括分别在第一向上弯曲部分111的两个侧面上向下延伸的第一向下直的部分111a和第二向下直的部分111b，其中第一向下直的部分111a和第二向下直的部分111b可以穿透弯曲的下部固定构件121以向上和向下移动。因此，即使第一向下直的部分111a和第二向下直的部分111b热膨胀和热收缩，也不能防止第一向下直的部分111a和第二向下直的部分111b的长度延伸或收缩。
此外，根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源100还可以包括壳体130和反射板140，如图2所示。壳体130具有用于容纳坩埚20的内部空间131，并且反射板140设置在内部空间131的侧面与第一加热线110之间，以将第一加热线110的热量反射至坩埚20。
如此，当进一步包括壳体130和反射板140时，如以上描述的弯曲的下部固定构件121和弯曲的上部固定构件122中的每一个可以被反射板140支撑，如图2所示。
此外，还可以提供引导构件170以自由地引导第一加热线110的垂直运动并且限制水平运动。
此外，根据以上描述的本发明的实施方案的真空蒸发源100还可以包括第二加热线150和第二上部固定部分160，如图2和图3所示。
第二加热线150是用于加热坩埚20的组件，并且如图2所示，第二加热线150可以定位于坩埚20的下半部分，以加热坩埚20的下半部分。此外，由于第二加热线150具有与以上描述的第一加热线110相同的配置，而不是其提供的位置，所以其特定的配置和动作/效果如以上描述。
如图2和图3所示，第二上部固定部分160为用于固定第二加热线150的上部部分的组件。因此，由于第二加热线150通过第二上部固定部分160悬挂在向下的方向上，可以通过重力的影响来改善第二加热线150的平直度。此外，由于第二上部固定部分160具有与以上描述的第一上部固定部分120相同的配置，而不是其提供的位置，所以其特定的配置和动作/效果如以上描述。
在下文，参考图5，描述了加热第一加热线110和第二加热线150之前(a)和之后(b)的状态。
当第一加热线110和第二加热线150被加热和冷却时，第一加热线110和第二加热线150延伸并且收缩“d”，如图5所示。特别地，第一加热线110延伸处的参考固定点是第一上部固定部分120，并且第二加热线150延伸处的参考固定点是第二上部固定部分160，使得所述位置总是保持恒定。
特别地，当第一加热线110通过高温加热和冷却而热膨胀和收缩时，其中第一加热线110应保持相同形状的形式的稳定性是重要的。为此，提供了能够固定第一加热线110的上部部分的技术配置，使得在第一加热线110的热膨胀和热收缩的情况下，第一加热线110可以悬挂在第一上部固定部分120的下方，并且可以通过重力在向下的方向上以相同的形状重复地延伸和收缩。作为实验的结果，通过设置其中第一加热线110的上部部分固定至第一上部固定部分120并且在膨胀和收缩至顶部期间总是参考位置，根据使用的次数和时间，在第一加热线110的热力学形状变化中已经实现了更稳定的结构。此外，由于第一加热线110在向下的方向(其为重力的方向)上悬挂，因此随着热膨胀和热收缩进行很多次，改善了第一加热线110的平直度。因此，可能显著降低第一加热线110彼此碰撞的可能性。自然地，对于第二加热线150也获得相同的实验结果。尽管以上已经详细地描述了本发明的优选实施方案，但本发明的范围不限于此。使用如以下权利要求限定的本发明的基本构思的本领域技术人员的各种修改和改进也在本发明的范围内。
工业实用性
由于本发明涉及真空蒸发源，其可以应用于制造半导体等，并且因此具有工业实用性。

Claims (7)

1.包括坩埚的真空蒸发源，包括：
第一加热线，其用于加热所述坩埚；以及
第一上部固定部分，其用于固定所述第一加热线的上部部分。
2.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线包括以向上凸的形状弯曲的第一向上弯曲部分，以及
其中所述第一上部固定部分包括：
弯曲的下部固定构件，其用于支撑所述第一向上弯曲部分的下部部分；以及
弯曲的上部固定构件，其用于支撑所述第一向上弯曲部分的上部部分。
3.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线还包括与所述第一向上弯曲部分间隔的以向上凸的形状弯曲的第二向上弯曲部分，
其中所述弯曲的下部固定构件具有围绕所述坩埚的环形，以将所述第一向上弯曲部分和所述第二向上弯曲部分的每一个下部部分支撑在一起，以及
其中所述弯曲的上部固定构件具有围绕所述坩埚的环形，以将所述第一向上弯曲部分和所述第二向上弯曲部分的每一个上部部分支撑在一起。
4.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述真空蒸发源还包括：
壳体，其具有容纳所述坩埚的内部空间，以及
反射板，其设置在所述内部空间的侧面与所述第一加热线之间，以及
其中所述弯曲的下部固定构件和所述弯曲的上部固定构件中的每一个被所述反射板支撑。
5.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述第一加热线包括分别在所述第一向上弯曲部分的两个侧面上在向下方向上延伸的第一向下直的部分和第二向下直的部分，以及
其中所述第一向下直的部分和所述第二向下直的部分穿透所述弯曲的下部固定构件。
6.如权利要求2所述的真空蒸发源，其中所述弯曲的下部固定构件和所述弯曲的上部固定构件中的每一个均由绝缘材料制成。
7.如权利要求1所述的真空蒸发源，其中所述真空蒸发源还包括：
第二加热线，其用于加热所述坩埚，以及
第二上部固定部分，其用于固定所述第二加热线的上部部分，以及
其中所述第一加热线定位成与所述坩埚的上半部分相对应，以及
其中所述第二加热线定位成与所述坩埚的下半部分相对应。
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