JP2009238951A - 載置台、ｃｖｄ装置並びにレーザ加工装置 - Google Patents

Abstract

【課題】加熱による変形を抑制できる載置台、載置台を備えるＣＶＤ装置並びにレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 載置台が、基板が載置される第１面と、第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、載置板の第２面側に配置され、載置板を支持する第１及び第２中間部材と、第１及び第２中間部材を挟んで載置板の反対側に配置され、第１及び第２中間部材を支持する支持部と、載置板を加熱する加熱部とを備え、第１中間部材は第２面に沿って配置され、第１中間部材は第１接続点において第２面に接続され、第２中間部材は第２接続点において第２面に接続され、支持部は第３接続点において第１中間部材に接続されており、第２面に略平行な投影面上において、第１接続点は、第３接続点よりも第２接続点から離れている。
【選択図】図２

Description

本発明は、基板を載置する載置台、載置台を備えるＣＶＤ装置並びにレーザ加工装置に関する。

従来、半導体装置の製造工程において、化学的気相成長（ＣＶＤ）法を用いて基板に成膜するＣＶＤ装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。ＣＶＤ装置は、下部電極として機能する平板状の載置台と、載置台に対向する上部電極とを備える。基板は、載置台の第１面上に載置された状態で高温（例えば、約２００℃）に保持される。載置台は、第１面の反対側に設けられる第２面の中央に接続される支持部によって、上下動可能に支持される。支持部は、ＣＶＤ装置の外部に固定される。

ここで、載置台の熱が支持部を介してＣＶＤ装置の外部に伝達されることを抑制するために、通常、載置台と支持部との間には断熱体が介挿される。
特開２００５−２５６１７２号公報

しかしながら、断熱体の内部では、支持部側の温度よりも載置台側の温度の方が高いため、載置台側における線膨張量は、支持部側における線膨張量よりも大きい。そのため、載置台は上部電極に向かって凸状に変形されてしまう。

このように載置台が変形された場合、載置台と上部電極との間に不均一な電界が形成されるため、基板に対して均一に成膜することが困難であるという問題があった。

本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、加熱による変形を抑制できる載置台、ＣＶＤ装置並びにレーザ加工装置を提供することを目的とする。

本発明の一の特徴に係る載置台は、基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、前記載置板の前記第２面側に配置され、前記前記載置板を支持する第１及び第２中間部材と、前記第１及び第２中間部材を挟んで前記載置板の反対側に配置され、前記第１及び第２中間部材を支持する支持部と、前記載置板を加熱する加熱部とを備え、前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、前記支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続されており、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れていることを要旨とする。

本発明の一の特徴に係る載置台によれば、載置板は、第１及び第２中間部材それぞれに局所的に接続される。また、載置板に接続される第１及び第２中間部材は分離されている。そのため、第１及び第２中間部材それぞれが温度変化により変形する場合であっても、第１及び第２中間部材それぞれの変形に応じて載置板２１を変形しようとする応力が発生することを抑制できる。従って、本発明の一の特徴に係る載置台によれば、加熱による載置板の変形を抑制することができる。

本発明の一の特徴において、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点及び前記第２接続点を通る直線と、前記第２接続点及び前記第３接続点を通る直線とは、鋭角又は鈍角を成していてもよい。

本発明の一の特徴において、前記第２中間部材は、前記第２面に沿って配置され、前記支持部は、第４接続点において前記第２中間部材に接続されており、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第２接続点は、前記第４接続点よりも前記第１接続点から離れていてもよい。

本発明の一の特徴において、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１乃至第４接続点は、前記載置板の略中央を通る一直線上に位置していてもよい。

本発明の一の特徴に係るＣＶＤ装置は、ＣＶＤ法を用いて基板に成膜するＣＶＤ装置であって、第１電極部と、前記第１電極部に対向する第２電極部と、前記第１電極部を支持する第１電極支持部と、前記第１電極部を加熱する加熱部とを備え、前記第１電極部は、前記基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、前記載置板の前記第２面と前記第１電極支持部との間に配置され、前記載置板を支持する第１及び第２中間部材とを有し、前記第１電極支持部は、前記第１及び第２中間部材を支持し、前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、前記第１電極支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続され、前記第１電極支持部は、第４接続点において前記第２中間部材に接続されており、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れていることを要旨とする。

本発明の一の特徴に係るレーザ加工装置は、基板にレーザ光を照射するレーザ加工装置であって、前記基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、前記載置板の前記第２面側に配置され、前記載置板を支持する第１及び第２中間部材と、前記第１及び第２中間部材を挟んで前記載置板の反対側に配置され、前記第１及び第２中間部材を支持する支持部と、前記載置板を加熱する加熱部とを備え、前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、前記支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続されており、前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れていることを要旨とする。

本発明によれば、加熱による変形を抑制できる載置台、ＣＶＤ装置並びにレーザ加工装置を提供することができる。

次に、図面を用いて、本発明の実施形態について説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。

［第１実施形態］
〈ＣＶＤ装置の構成〉
以下において、本発明の第１実施形態に係るＣＶＤ装置１００の概略構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係るＣＶＤ装置１００の構成を示す図である。

ＣＶＤ装置１００は、図１に示すように、真空チャンバー１０と、載置台２０と、載置台支持部３０と、電極部４０と、電極支持部５０とを備える。

真空チャンバー１０は、図１に示すように、載置台２０、載置台支持部３０、電極部４０、及び電極支持部５０を収容する。

載置台２０は、図１に示すように、載置板２１と、中間部材２２ａ，２２ｂと、第１接続部材２３と、第２接続部材２４と、加熱部２５とを備える。載置台２０の構成は、本発明の特徴的部分に係るため、後に詳述する。

載置台支持部３０は、真空チャンバー１０内において載置台２０を支持する。載置台支持部３０は、図１に示すように、載置台支持板３１と、載置台支持柱３２とを備える。

載置台支持板３１は、載置台２０に接続され、載置台２０を支持する。

載置台支持柱３２は、載置台支持板３１に接続され、載置台２０を真空チャンバー１０に固定する。載置台支持柱３２は、載置台２０を垂直方向に沿って移動させる。また、載置台支持柱３２は、載置台２０を水平方向から傾斜させる。

電極部４０は、図１に示すように、電極板４１と、第７中間部材４２ａと、第８中間部材４２ｂと、第３接続部材４３と、第４接続部材４４と、電極カバー４５とを備える。

電極板４１は、平板状であり、載置板２１に対向する上部電極として機能する。電極板４１は、図１に示すように、載置板２１の第１面２１１と対向する第３面４１３と、第３面４１３の反対側に設けられる第４面４１４と、第３面４１３から第４面４１４まで貫通する複数のガス放出孔４１５とを有する。即ち、電極板４１は、基板上に形成する薄膜の成分を含む原料ガスを基板に向かって放出するシャワープレートとして用いられる。

第７及び第８中間部材４２ａ，４２ｂ、第３接続部材４３、及び第４接続部材４４の構成については、後述する載置台２０の第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂ、第１接続部材２３及び第２接続部材２４の構成と同様であるため、説明を省略する。

電極カバー４５は、電極板４１と、後述する電極支持板５１とに接続され、後述するガス導入管５３から導入される原料ガスが滞留する空間を形成する。電極カバー４５は、電極板４１に設けられた複数のガス放出孔４１５以外から原料ガスが漏出することを防ぐ。

電極支持部５０は、真空チャンバー１０内において電極部４０を支持する。電極支持部５０は、図１に示すように、電極支持板５１と、電極支持柱５２と、ガス導入管５３とを備える。

電極支持板５１は、電極部４０に接続され、電極部４０を支持する。

電極支持柱５２は、電極支持板５１に接続され、電極部４０を真空チャンバー１０に固定する。

ガス導入管５３は、基板上に形成する薄膜の成分を含む原料ガスを、真空チャンバー１０内に導入する。

〈載置台の構成〉
次に、本発明の第１実施形態に係る載置台２０の構成について、図２及び図３を参照しながら説明する。図２は、載置台２０の側面図である。また、図３は、載置台２０の第２面２１２に略平行な投影図である。

図２に示すように、載置台２０は、載置板２１と、第１中間部材２２ａと、第２中間部材２２ｂと、第１接続部材２３と、第２接続部材２４と、加熱部２５とを備える。

載置板２１は、平板状であり、下部電極として機能する。載置板２１は、図２に示すように、基板が載置される第１面２１１と、第１面２１１の反対側に設けられる第２面２１２とを有する。

第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂは、図２に示すように、載置板２１の第２面２１２側に配置され、載置板２１を支持する。第１中間部材２２ａ及び第２中間部材は、載置板２１の第２面２１２に沿って配置される。

第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂは、第１接続部材２３によって載置板２１の第２面２１２に接続される。以下において、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂが載置板２１の第２面２１２に接続される位置を、それぞれ第１接続点Ａａ，第２接続点Ａｂという。また、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂは、第２接続部材２４によって載置台支持部３０の載置台支持板３１に接続される。以下において、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂが載置台支持板３１に接続される位置を、それぞれ第３接続点Ｂａ，第４接続点Ｂｂという。

図２及び図３に示すように、第１接続点Ａａは、第３接続点Ｂａよりも第２接続点Ａｂから離れている。同様に、第２接続点Ａｂは、第４接続点Ｂｂよりも第１接続点Ａａから離れている。第１接続点Ａａと、第２接続点Ａｂと、第３接続点Ｂａと、第４接続点Ｂｂとは、載置台２０の第２面２１２に略平行な投影面上において、載置板２１の中央点Ｃを通る直線Ｄ−Ｄ上に位置することが好ましい。

加熱部２５は、例えばモリブデン線などにより構成されており、通電によって載置板２１を所定温度に加熱する。

次に、載置板２１、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂを構成する材料について説明する。例えば、載置板２１の温度変化がΔＴ₂₁、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂの温度変化がそれぞれΔＴ_22a，ΔＴ_22bである場合について説明する。尚、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂは、加熱部２５により加熱された載置板２１から第１接続部材２３を介して伝達する熱により温度上昇する。

載置板２１の線膨張係数がα₂₁、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂの線膨張係数がそれぞれα_22a，α_22bである場合、載置板２１の常温時の長さｌ₂₁に対する線膨張量Δｌ₂₁と、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂそれぞれの常温時の長さｌ_22a，ｌ_22bに対する線膨張量Δｌ_22a，Δｌ_22bとは、次の式（１）乃至（３）で表される。尚、載置板２１の常温時の長さｌ₂₁は第１接続点Ａａ−第２接続点Ａｂ間の長さとする。また、第１中間部材２２ａの常温時の長さｌ_22aは第１接続点Ａａ−第３接続点Ｂａ間の長さとし、第２中間部材２２ｂの常温時の長さｌ_22bは第２接続点Ａｂ−第４接続点Ｂｂ間の長さとする。

Δｌ₂₁＝ｌ₂₁・α₂₁・ΔＴ₂₁ … （１）
Δｌ_22a＝ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a … （２）
Δｌ_22b＝ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b … （３）
ここで、第１中間部材２２ａは、第１接続点Ａａよりも第２接続点Ａｂに近い第３接続点Ｂａにおいて載置台支持部３０に接続される。そのため、第１中間部材２２ａは、第３接続点Ｂａを基点として、第２接続点Ａｂとは反対側に向かって伸びる。同様に、第２中間部材２２ｂは、第４接続点Ｂｂを基点として、第１接続点Ａａとは反対側に向かって伸びる。従って、載置板２１の線膨張量Δｌ₂₁が、第１中間部材２２ａの線膨張量Δｌ_22aと第２中間部材２２ｂの線膨張量Δｌ_22bとの合計値と略等しければ、載置板２１を電極部４０に向かって凸状あるいは凹状に変形する応力が発生せず、載置板２１の第１面２１１を平坦に維持することができる。つまり、載置板２１の第１面２１１が平坦である場合、次の式（４）が成立する。

Δｌ₂₁＝Δｌ_22a＋Δｌ_22b
Δｌ₂₁−Δｌ_22a−Δｌ_22b＝０
ｌ₂₁・α₂₁・ΔＴ₂₁−ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a−ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b＝０ … （４）
従って、載置板２１、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂの常温時の長さがそれぞれｌ₂₁，ｌ_22a，ｌ_22bである場合に、上記の式（４）を満たす線膨張係数αをそれぞれ有する材料によって載置板２１、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂを構成する。

また、図２及び図３に示すように、載置板２１の常温時の長さｌ₂₁は、第１中間部材２２ａの常温時の長さｌ_22aと第２中間部材２２ｂの常温時の長さｌ_22bとの合計値よりも大きい。従って、第１中間部材２２ａと第２中間部材２２ｂとを同じ材料により構成する場合、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂを構成する材料としては、載置板２１を構成する材料の線膨張係数α₂₁よりも大きい線膨張係数α₂₂を有する材料を用いる。

〈作用・効果〉
本発明の第１実施形態に係るＣＶＤ装置１００に備えられる載置台２０は、載置板２１と、載置板２１の第２面２１２側に当該第２面２１２に沿って配置され、載置板２１を支持する第１及び第２中間部材と、載置板２１を加熱する加熱部２５とを有する。第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂは、第１接続点Ａａ、第２接続点Ａｂにおいて載置板２１の第２面２１２にそれぞれ接続され、第３接続点Ｂａ、第４接続点Ｂｂにおいて載置台支持部３０にそれぞれ接続される。載置板２１の第２面２１２に略平行な投影面上において、第１接続点Ａａは、第３接続点Ｂａよりも第２接続点Ａｂから離れており、第２接続点Ａｂは、第４接続点Ｂｂよりも第１接続点Ａａから離れている。

即ち、本発明の第１実施形態に係る載置台２０では、載置板２１は、第１接続点Ａａ及び第２接続点Ａｂにおいて局所的に第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂに接続される。また、載置板２１に接続される第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂは分離されている。そのため、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂが変形する場合であっても、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂの表面略全域が載置板２１に接続される場合と比較して、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂの変形に応じて載置板２１を変形させようとする応力が発生することを抑制できる。従って、本発明の第１実施形態に係る載置台２０によれば、加熱による載置板２１の変形を抑制することができる。

同様にして、上述した載置台２０と同様の構成を有する電極部４０によれば、加熱による電極板４１の変形を抑制することができる。そのため、下部電極として機能する載置板２１と、上部電極として機能する電極板４１との間の距離を略均一に保つことができ、均一な電界を形成することができる。従って、本発明の第１実施形態に係るＣＶＤ装置１００によれば、載置板２１上に載置される基板に対して、均一に成膜することができる。

また、載置板２１、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂを構成する材料を、載置板２１の線膨張量Δｌ₂₁と、第１中間部材２２ａの線膨張量Δｌ_22a及び第２中間部材２２ｂの線膨張量Δｌ_22bの合計値とが略等しくなるよう選択することにより、載置板２１を変形しようとする応力が発生することを効果的に抑制することができる。

また、第１接続点Ａａと、第２接続点Ａｂと、第３接続点Ｂａと、第４接続点Ｂｂとを、載置台２０の平面視において載置板２１の中央点Ｃを通る直線Ｄ−Ｄ上に配置することにより、載置板２１、第１中間部材２２ａ及び第２中間部材２２ｂを構成する材料を選択するために必要となる計算を容易にすることができる。

〈第１実施形態の変形例１〉
以下において、本発明の第１実施形態の変形例１に係るＣＶＤ装置１００について説明する。上記した本発明の第１実施形態では、ＣＶＤ装置１００に備えられる載置台２０が、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂを有する場合について説明したが、本発明はこれには限定されない。例えば、載置台２０は、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂに加え、第３及び第４中間部材２２ｃ，２２ｄを有していてもよい。

図４は、本変形例１に係る載置台２０の第２面２１２に略平行な投影図である。第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂと、第３及び第４中間部材２２ｃ，２２ｄとは、載置板２１の第２面２１２側に配置され、載置板２１を支持する。第１中間部材２２ａ、第２中間部材２２ｂ、第３中間部材２２ｃ及び第４中間部材は、載置板２１の第２面２１２に沿って配置される。

中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄは、第１接続部材２３により載置板２１の第２面２１２に接続される。また、中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄは、第２接続部材２４により載置台支持部３０の載置台支持板３１に接続される。図４に示すように、中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄが載置板２１に接続される位置を、それぞれ第１接続点Ａａ、第２接続点Ａｂ、第５接続点Ａｃ、第６接続点Ａｄとする。また、中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄが載置台支持板３１に接続される位置を、それぞれ第３接続点Ｂａ、第４接続点Ｂｂ、第７接続点Ｂｃ、第８接続点Ｂｄとする。第１接続点Ａａは、第３接続点Ｂａよりも、第２接続点Ａｂ、第５接続点Ａｃ及び第６接続点Ａｄから離れている。同様に、第２接続点Ａｂは、第４接続点Ｂｂよりも、第１接続点Ａａ、第５接続点Ａｃ及び第６接続点Ａｄから離れている。同様に、第５接続点Ａｃは、第７接続点Ｂｃよりも、第１接続点Ａａ、第２接続点Ａｂ及び第６接続点Ａｄから離れている。同様に、第６接続点Ａｄは、第８接続点Ｂｄよりも、第１接続点Ａａ、第２接続点Ａｂ及び第５接続点Ａｃから離れている。

第１接続点Ａａと、第３接続点Ｂａと、第６接続点Ａｄと、第８接続点Ｂｄとは、第２面２１２に略平行な投影面上において、載置台２１の対角線Ｅ−Ｅ上に位置することが好ましい。即ち、第１中間部材２２ａと第４中間部材２２ｄとは、載置台２１の対角線Ｅ−Ｅに沿って配置されることが好ましい。また、第２接続点Ａｂと、第４接続点Ｂｂと、第５接続点Ａｃと、第７接続点Ｂｃとは、第２面２１２に略平行な投影面上において、載置台２１の対角線Ｅ−Ｅ上に位置することが好ましい。即ち、第２中間部材２２ｂと第３中間部材２２ｃとは、載置台２１の対角線Ｅ−Ｅに沿って配置されることが好ましい。

載置板２１の温度変化がΔＴ₂₁、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの温度変化がそれぞれΔＴ_22a，ΔＴ_22b，ΔＴ_22c，ΔＴ_22d，であり、載置板２１の線膨張係数がα₂₁、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの線膨張係数がそれぞれα_22a，α_22b，α_22c，α_22dである場合について説明する。

載置板２１のｘ方向における常温時の長さｌ_21xに対する線膨張量Δｌ_21x、及び載置板２１のｙ方向における常温時の長さｌ_21yに対する線膨張量Δｌ_21yは、次の式（５）及び（６）で表される。尚、図４に示すように、載置板２１のｘ方向における常温時の長さｌ_21xは第１接続点Ａａ−第２接続点Ａｂ間の長さとし、載置板２１のｙ方向における常温時の長さｌ_21yは第１接続点Ａａ−第５接続点Ａｃ間の長さとする。第１接続点Ａａ−第２接続点Ａｂ間の長さと、第５接続点Ａｃ−第６接続点Ａｄ間の長さとは、略同等とする。また、第１接続点Ａａ−第５接続点Ａｃ間の長さと、第２接続点接続点Ａｂ−第６接続点Ａｄ間の長さとは、略同等とする。また、ｘ方向とｙ方向とは直交するものとする。

Δｌ_21x＝ｌ_21x・α₂₁・ΔＴ₂₁ … （５）
Δｌ_21y＝ｌ_21y・α₂₁・ΔＴ₂₁ … （６）
また、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄそれぞれの常温時の長さｌ_22a，ｌ_22b，ｌ_22c，ｌ_22dに対する、ｘ方向の線膨張量Δｌ_22ax，Δｌ_22bx，Δｌ_22cx，Δｌ_22dxと、ｙ方向の線膨張量Δｌ_22ay，Δｌ_22by，Δｌ_22cy，Δｌ_22dyとは、次の式（７）乃至（１４）で表される。尚、図４に示すように、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの常温時の長さｌ_22a，ｌ_22b，ｌ_22c，ｌ_22dは、それぞれ、第１接続点Ａａ−第３接続点Ｂａ間の長さ、第２接続点Ａｂ−第４接続点Ｂｂ間の長さ、第５接続点Ａｃ−第７接続点Ｂｃ間の長さ、第６接続点Ａｄ−第８接続点Ｂｄ間の長さとする。また、図４に示すように、載置台２１の対角線Ｅ−Ｅと、ｘ方向に延びる直線との間の角度をθとする。

Δｌ_22ax＝Δｌ_22a・ｃｏｓθ＝ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a・ｃｏｓθ … （７）
Δｌ_22bx＝Δｌ_22b・ｃｏｓθ＝ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b・ｃｏｓθ … （８）
Δｌ_22cx＝Δｌ_22c・ｃｏｓθ＝ｌ_22c・α_22c・ΔＴ_22c・ｃｏｓθ … （９）
Δｌ_22dx＝Δｌ_22d・ｃｏｓθ＝ｌ_22d・α_22d・ΔＴ_22d・ｃｏｓθ … （１０）
Δｌ_22ay＝Δｌ_22a・ｓｉｎθ＝ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a・ｓｉｎθ … （１１）
Δｌ_22by＝Δｌ_22b・ｓｉｎθ＝ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b・ｓｉｎθ … （１２）
Δｌ_22cy＝Δｌ_22c・ｓｉｎθ＝ｌ_22c・α_22c・ΔＴ_22c・ｓｉｎθ … （１３）
Δｌ_22dy＝Δｌ_22d・ｓｉｎθ＝ｌ_22d・α_22d・ΔＴ_22d・ｓｉｎθ … （１４）
ここで、載置板２１のｘ方向における線膨張量Δｌ_21xが、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄのｘ方向における線膨張量Δｌ_22ax，Δｌ_22bx，Δｌ_22cx，Δｌ_22dxの合計値と略等しく、載置板２１のｙ方向における線膨張量Δｌ_21yが、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄのｙ方向における線膨張量Δｌ_22ay，Δｌ_22by，Δｌ_22cy，Δｌ_22dyの合計値と略等しければ、載置板２１を電極部４０に向かって凸状あるいは凹状に変形する応力が発生せず、載置板２１の第１面２１１を平坦に維持することができる。つまり、載置板２１の第１面２１１が平坦である場合、次の式（１５）が成立する。

ｌ_21x・α₂₁・ΔＴ₂₁−ｃｏｓθ（ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a＋ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b＋ｌ_22c・α_22c・ΔＴ_22c＋ｌ_22d・α_22d・ΔＴ_22d）＝０、かつ
ｌ_21y・α₂₁・ΔＴ₂₁−ｓｉｎθ（ｌ_22a・α_22a・ΔＴ_22a＋ｌ_22b・α_22b・ΔＴ_22b＋ｌ_22c・α_22c・ΔＴ_22c＋ｌ_22d・α_22d・ΔＴ_22d）＝０ … （１５）
従って、載置板２１のｘ方向及びｙ方向における常温時の長さがｌ_21x，ｌ_21yであり、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの常温時の長さがそれぞれｌ_22a，ｌ_22b，ｌ_22c，ｌ_22dである場合に、上記の式（１５）を満たす線膨張係数αをそれぞれ有する材料によって載置板２１、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄを構成することにより、ｘ方向と、ｙ方向との双方において、載置板２１が変形されることを抑制することができる。従って、載置板２１の表面略全域における平坦性を維持することができる。

〈第１実施形態の変形例２〉
以下において、本発明の第１実施形態の変形例２に係るＣＶＤ装置１００について説明する。上記した本発明の第１実施形態では、載置板２１と載置台支持板３１との間には一対の中間部材、即ち第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂが配置される場合について説明したが、本発明はこれには限定されない。例えば、載置板２１と載置台支持板３１との間において、複数対の中間部材２２が、載置板２１の表面に略垂直な方向に沿って積み重ねられていてもよい。

図５は、本変形例２に係る載置台２０の側面図である。図５に示すように、載置台２０は、載置板２１と載置台支持板３１との間において、載置板２１の表面に略垂直な方向に沿って積み重ねられた三対の中間部材２２、即ち、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂ、第３及び第４中間部材２２ｃ，２２ｄ、第５及び第６中間部材２２ｅ，２２ｆを有する。また、載置台２０は、第１接続部材２３と、第２接続部材２４と、第５接続部材２６と、第６接続部材２７と、加熱部２５とを有する。

第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂは、第１接続部材２３により、載置板２１の第２面２１２にそれぞれ接続される。第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂが載置板２１に接続される位置を、それぞれ第１接続点Ａａ，第２接続点Ａｂという。また、第１及び第２中間部材２２ａ，２２ｂは、第２接続部材２４により、第３及び第４中間部材２２ｃ，２２ｄにそれぞれ接続される。本変形例においては、第１中間部材２２ａと第３中間部材２２ｃとが接続される位置、及び第２中間部材２２ｂと第４中間部材２２ｄとが接続される位置を、それぞれ第３接続点Ｂａ，第４接続点Ｂｂという。

第３及び第４中間部材２２ｃ，２２ｄと、第５及び第６中間部材２２ｅ，２２ｆとは、第５接続部材２６によりそれぞれ接続される。本変形例においては、第３中間部材２２ｃと第５中間部材２２ｅとが接続される位置、及び第４中間部材２２ｄと第６中間部材２２ｆとが接続される位置を、それぞれ第５接続点Ｃａ，第６接続点Ｃｂという。

第５及び第６中間部材２２ｅ，２２ｆは、第６接続部材２７により、載置台支持板３１にそれぞれ接続される。本変形例においては、第５及び第６中間部材２２ｅ，２２ｆが載置台支持板３１に接続される位置を、それぞれ第７接続点Ｄａ，第８接続点Ｄｂという。

図５に示すように、第１接続点Ａａは、第３接続点Ｂａよりも、第２接続点Ａｂから離れている。同様に、第５接続点Ｃａは、第７接続点Ｄａよりも、第２接続点Ａｂから離れている。同様に、第２接続点Ａｂは、第４接続点Ｂｂよりも、第１接続点Ａａから離れている。同様に、第６接続点Ｃｂは、第８接続点Ｄｂよりも、第１接続点Ａａから離れている。第２接続点Ｂａ，Ｂｂ及び第４接続点Ｄａ，Ｄｂは、第１接続点Ａａ，Ａｂ及び第３接続点Ｃａ，Ｃｂよりも、載置板２１の中央点Ｃ側に位置することが好ましい。

各中間部材２２は、加熱部２５により加熱された載置板２１から第１接続部材２３を介して伝達する熱により温度上昇する。図６は、各中間部材２２が温度上昇により伸びる様子を示す図である。

第５中間部材２２ｅは、第５接続点Ｃａよりも第２接続点Ａｂに近い第７接続点Ｄａにおいて載置台支持部３０に接続される。そのため、第５中間部材２２ｅは、第４接続点Ｄａを基点として、第２接続点Ａｂとは反対側に向かって伸びる。同様に、第６中間部材２２ｆは、第８接続点Ｄｂを基点として、第１接続点Ａａとは反対側に向かって伸びる。

第３中間部材２２ｃは、第５接続点Ｃａを基点として、第２接続点Ａｂ側に向かって伸びる。同様に、第４中間部材２２ｄは、第６接続点Ｃｂを基点として、第１接続点Ａａ側に向かって伸びる。

第１中間部材２２ａは、第３接続点Ｂａを基点として、第２接続点Ａｂとは反対側に向かって伸びる。同様に、第２中間部材２２ｂは、第４接続点Ｂｂを基点として、第１接続点Ａａとは反対側に向かって伸びる。

ここで、各中間部材２２の上昇温度は、載置板２１からの距離が大きくなるほど小さくなる。そのため、第１中間部材２２ａ、第３中間部材２２ｃ、第５中間部材２２ｅの順に線膨張量が小さくなる。同様に、第２中間部材２２ｂ、第４中間部材２２ｄ、第６中間部材２２ｆの順に線膨張量が小さくなる。従って、載置板２１から各中間部材２２に熱が伝達することにより各中間部材２２が伸びると、図６に示すように、第１接続点Ａａ及び第２接続点Ａｂが、載置板２１の中央点Ｃとは反対側に向かって移動する。

第１接続点Ａａ及び第２接続点Ａｂの移動量は、載置板２１の中央点Ｃとは反対側に向かって伸びる中間部材２２（第１中間部材２２ａ、第２中間部材２２ｂ、第５中間部材２２ｅ及び第６中間部材２２ｆ）の線膨張量と、載置板２１の中央点Ｃ側に向かって伸びる中間部材２２（第３中間部材２２ｃ及び第４中間部材２２ｄ）の線膨張量との差に略等しい。従って、載置板２１の中央点Ｃ側に向かって伸びる中間部材２２として、載置板２１の中央点Ｃとは反対側に向かって伸びる中間部材２２の線膨張係数よりも小さい線膨張係数を有する材料を用いることによって、載置板２１の線膨張量が大きい場合であっても載置板２１の平坦性を維持することができる。

［第２実施形態］
以下において、本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００について説明する。尚、以下においては、上述した第１実施形態と第２実施形態との差異について主として説明する。具体的には、上述した第１実施形態では、載置台２０を備えるＣＶＤ装置１００について説明したが、本第２実施形態では、載置台２０を備えるレーザ加工装置２００について説明する。

〈レーザ加工装置の構成〉
以下において、本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００の概略構成について、図７及び図８を参照しながら説明する。図７は、本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００の構成を示す図である。また、図８は、レーザ加工装置２００に備えられる載置台２０の第２面２１２に略平行な投影図である。

レーザ加工装置２００は、図７に示すように、収容部６０と、載置台２０と、載置台支持板３１とを備える。

収容部６０は、図７に示すように、載置台２０及び載置台支持板３１を収容する。収容部６０には、ガラスウールなどの断熱材が充填されていてもよい。

載置台２０は、図７及び図８に示すように、載置板２１と、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄと、第１接続部材２３と、第２接続部材２４と、加熱部２５とを備える。

載置板２１は、図７に示すように、平板状であり、基板が載置される第１面２１１と、第１面２１１の反対側に設けられる第２面２１２とを有する。第１面２１１上に載置される基板には、レーザヘッド（不図示）からのレーザ光が照射される。

第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄは、平板状に形成される点以外については、上述した第１実施形態の変形例１と同様であるため説明を省略する。また、第１接続部材２３、第２接続部材２４、及び加熱部２５の構成についても、上述した第１実施形態の変形例１と同様であるため説明を省略する。

載置台支持板３１は、図７に示すように、載置台２０に接続され、載置台２０を支持する。

〈作用・効果〉
本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００備えられる載置台２０は、上述した第１実施形態の変形例１と同様にして、載置板２１と、載置板２１の第２面２１２側に当該第２面２１２に沿って配置され、載置板２１を支持する第１乃至第４中間部材と、載置板２１を加熱する加熱部２５とを有する。載置板２１のｘ方向及びｙ方向における常温時の長さがｌ_21x，ｌ_21yであり、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄの常温時の長さがそれぞれｌ_22a，ｌ_22b，ｌ_22c，ｌ_22dである場合に、載置板２１、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄは、上記の式（１５）を満たす線膨張係数αをそれぞれ有する材料によって構成される。

このような載置台２０によれば、加熱部２５による加熱により載置板２１が伸びた場合であっても、ｘ方向と、ｙ方向との双方において、載置板２１が変形されることを抑制することができる。従って、載置板２１の表面略全域における平坦性を維持することができる。そのため、本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００によれば、載置板２１上に載置される基板に対して、精密なレーザ加工を行うことができる。

〈その他の実施形態〉
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。

例えば、上述した第１実施形態では、載置板２１の第２面２１２側に配置される第１中間部材２２ａと第２中間部材２２ｂとの両方が、載置板２１の第２面２１２に沿って配置される場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１中間部材２２ａだけが載置板２１の第２面２１２に沿って配置されていてもよい。このような構成であっても、第１中間部材２２ａの線膨張量Δｌ_22aを、載置台２１Δｌ₂₂の線膨張量と略等しくすることにより、載置台２１の変形を抑制することができる。このとき、第１中間部材２２ａが載置板２１に接続される位置を第１接続点Ａａ、第２中間部材２２ｂが第１中間部材２２ａが載置板２１に接続される位置を第２接続点Ａｂ、第１中間部材２２ａが載置台支持部３０に接続される位置を第３接続点Ｂａとすると、第１接続点Ａａ及び第２接続点Ａｂを通る直線Ｆ−Ｆと、第２接続点Ａｂ及び第３接続点Ｂａを通る直線Ｇ−Ｇとは、鋭角又は鈍角を成すことが好ましい。これらの二直線が鋭角又は鈍角を成すことにより、載置板２１が伸縮する方向に関わらず、載置板２１の表面略全域において平坦性を維持することができる。尚、載置台２０が図９に示す構成を有する場合、第２中間部材２２ｂは、載置台支持部３０と一体であってもよく、載置板２１と一体であってもよい。

また、上述した第１実施形態では載置板２１の第２面２１２側に設けられる中間部材２２の数が２つである場合について説明し、第１実施形態の変形例１では中間部材２２の数が４つ設けられる場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、中間部材２２の数は３つであってもよい。このとき、３つの中間部材２２は、載置板２１の略中央の位置を示す中央点Ｃを中心として対象に配置されることにより、載置板２１及び中間部材２２を構成する材料を選択するために必要となる計算を容易にすることができるとともに、載置板２１が伸縮する方向に関わらず載置板２１の表面略全域において平坦性を維持することができる。

また、上述した第１実施形態及び第２実施形態では、載置台２０を備えるＣＶＤ装置１００及びレーザ加工装置２００について説明したが、これに限るものではない。本発明に係る載置台２０は、ＣＶＤ装置あるいはレーザ加工装置以外にも、基板を加熱するとともに当該基板を平坦に保持する必要がある場合に、用途に関わらず適用することができる。

また、上述した第１実施形態の変形例２では、載置板２１と載置台支持板３１との間に三対の中間部材２２が設けられる場合について説明したが、これに限るものではなく、載置板２１と載置台支持板３１との間には四対以上の中間部材２２が設けられていてもよい。

また、上述した第１実施形態及び第２実施形態では、載置板２１から各接続部材を介して伝達する熱によって各中間部材２２の温度が上昇する場合について説明したが、各中間部材２２の温度制御を載置板２１とは独立して行ってもよい。例えば、各中間部材２２それぞれに温度センサや加熱部を設けてもよい。これによれば、載置板２１の変形を簡易に抑制することができる。

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。

以下において、本発明に係るレーザ加工装置について、実施例を挙げて具体的に説明する。但し、本発明は、下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施することができるものである。

［平坦性評価］
以下のようにして実施例に係るレーザ加工装置を作成し、載置台の平坦性についての評価を行った。

〈実施例〉
以下のようにして、図７に示すレーザ加工装置２００を作製した。具体的には、載置板２１として榎本鋳鋼所製低熱膨張鋳鉄ノビナイトＣＮ−５を使用し、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄとしてステンレス鋼ＳＵＳ３１６を使用した。

図１０は、本実施例に係るレーザ加工装置２００に備えられる載置台２０の第２面２１２に略平行な投影図であり、各箇所の寸法を示す。尚、上述したように、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄが載置板２１に接続される位置を、それぞれ第１接続点Ａａ、第２接続点Ａｂ、第５接続点Ａｃ、第６接続点Ａｄとする。また、第１乃至第４中間部材２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄが載置台支持板３１に接続される位置を、それぞれ第３接続点Ｂａ、第４接続点Ｂｂ、第７接続点Ｂｃ、第８接続点Ｂｄとする。

具体的には、載置板２１のｘ方向及びｙ方向における常温時の長さｌ_21x，ｌ_21yは、それぞれ３５０ｍｍ，２５０ｍｍとした。尚、ｘ方向における常温時の長さｌ_21xは、第１接続点Ａａ−第２接続点Ａｂ間の長さ（第５接続点Ａｃ−第６接続点Ａｄ間の長さ）とした。また、ｙ方向における常温時の長さｌ_21yは、第１接続点Ａａ−第５接続点Ａｃ間の長さ（第２接続点Ａｂ−第６接続点Ａｄ間の長さ）とした。また、載置板２１のｘ方向の外寸は４００ｍｍ、ｙ方向の外寸は５００ｍｍとした。尚、常温とは、２５℃を示す。

また、第３接続点Ｂａ−第４接続点Ｂｂ間の長さ（第７接続点Ｂｃ−第８接続点Ｂｄ間の長さ）と、第３接続点Ｂａ−第７接続点Ｂｃ間の長さ（第４接続点Ｂｂ−第８接続点Ｂｄ間の長さ）とは、それぞれ１９６ｍｍ，１４０ｍｍとした。これにより、第１接続点Ａａ，第２接続点Ａｂ，第５接続点Ａｃ，第６接続点Ａｄを頂点とする長方形の対角線上に、第３接続点Ｂａ，第４接続点Ｂｂ，第７接続点Ｂｃ，第８接続点Ｂｄが配置された。

〈線膨張量測定〉
次に、載置台２０を加熱した場合における、載置板２１の線膨張量及び中間部材２２の線膨張量について検討した。例えば、載置板２１のｙ方向の線膨張量Δｌ_21yと、第１中間部材２２ａのｙ方向の線膨張量Δｌ_22ay及び第３中間部材２２ｃのｙ方向の線膨張量Δｌ_22cyの合計値（Δｌ_22ay＋Δｌ_22cy）とを比較し、これらの寸法差（Δｌ_21y−（Δｌ_22ay＋Δｌ_22cy））を算出した。結果を表１に示す。尚、表１において、載置板２１の設定温度とは、加熱部２５により加熱された載置板２１の温度を示し、第１及び第３中間部材２２ａ，２２ｃの想定温度とは、載置板２１から伝達する熱により加熱された第１及び第３中間部材２２ａ，２２ｃの予測される温度を示す。

表１に示すように、載置板２１を３５０℃に加熱した場合であっても、載置板２１のｙ方向の線膨張量Δｌ_21yと、第１及び第３中間部材２２ａ，２２ｃのｙ方向の線膨張量Δｌ_22ay，Δｌ_22cyの合計値（Δｌ_22ay＋Δｌ_22cy）との差は、５８．５μｍ程度であることが確認された。

〈平坦度測定〉
次に、載置板２１を３５０℃に加熱し、載置板２１の第１面２１１の平坦度を測定した。具体的には、載置板２１の中心点Ｃと、中心点Ｃ以外の各点との高低差を測定した。中心点Ｃ以外の９点について、中心点Ｃとの高低差を測定した結果、中心点Ｃからの高低差は、−２６μｍ乃至＋３２μｍの範囲内となった。尚、負の値は中心点Ｃよりも低い場合の高低差、正の値は中心点Ｃよりも高い場合の高低差を示す。

以上より、図７に示すレーザ加工装置２００を、図１０に示す寸法で作製した場合、載置板２１は、温度が３５０℃まで達しても平坦度を維持できることが確認された。

本発明の第１実施形態に係るＣＶＤ装置１００の構成を示す図である。 本発明の第１実施形態に係る載置台２０の側面図である。 本発明の第１実施形態に係る載置台２０の投影図である。 本発明の第１実施形態の変形例１に係る載置台２０の第２面２１２に略平行な投影図である。 本発明の第１実施形態の変形例２に係る載置台２０の側面図である。 本発明の第１実施形態の変形例２に係る載置台２０の各中間部材２２が伸びる様子を示す図である。 本発明の第２実施形態に係るレーザ加工装置２００の構成を示す図である。 本発明の第２実施形態に係る載置台２０の投影図である。 その他の実施形態に係る載置台２０の構成を示す図である。 実施例に係るレーザ加工装置２００に備えられる載置台２０の投影図である。

符号の説明

１００…ＣＶＤ装置、１０…真空チャンバー、２０…載置台、２１…載置板、２１１…第１面、２１２…第２面、２２ａ…第１中間部材、２２ｂ…第２中間部材、２２ｃ…第３中間部材、２２ｄ…第４中間部材、２２ｅ…第５中間部材、２２ｆ…第６中間部材、２３…第１接続部材、２４…第２接続部材、２５…加熱部、２６…第５接続部材、２７…第６接続部材、３０…載置台支持部、３１…載置台支持板、３２…載置台支持柱、４０…電極部、４１…電極板、４１３…第３面、４１４…第４面、４１５…ガス放出孔、４２ａ…第７中間部材、４２ｂ…第８中間部材、４３…第３接続部材、４４…第４接続部材、４５…電極カバー、５０…電極支持部、５１…電極支持板、５２…電極支持柱、５３…ガス導入管、２００…レーザ加工装置、６０…収容部、Ａａ…第１接続点、Ａｂ…第２接続点、Ａｃ…第５接続点、Ａｄ…第６接続点、Ｂａ…第３接続点、Ｂｂ…第４接続点、Ｂｃ…第７接続点、Ｂｄ…第８接続点、Ｃａ…第５接続点、Ｃｂ…第６接続点、Ｄａ…第７接続点、Ｄｂ…第８接続点、Ｃ…中央点．

Claims (6)

1. 基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、
   前記載置板の前記第２面側に配置され、前記載置板を支持する第１及び第２中間部材と、
   前記第１及び第２中間部材を挟んで前記載置板の反対側に配置され、前記第１及び第２中間部材を支持する支持部と、
   前記載置板を加熱する加熱部とを備え、
   前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、
   前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、
   前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、
   前記支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続されており、
   前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れている
   ことを特徴とする載置台。
2. 前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点及び前記第２接続点を通る直線と、前記第２接続点及び前記第３接続点を通る直線とは、鋭角又は鈍角を成すことを特徴とする請求項１に記載の載置台。
3. 前記第２中間部材は、前記第２面に沿って配置され、
   前記支持部は、第４接続点において前記第２中間部材に接続されており、
   前記第２面に略平行な投影面上において、前記第２接続点は、前記第４接続点よりも前記第１接続点から離れている
   ことを特徴とする請求項１に記載の載置台。
4. 前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１乃至第４接続点は、前記載置板の略中央を通る一直線上に位置することを特徴とする請求項３に記載の載置台。
5. ＣＶＤ法を用いて基板に成膜するＣＶＤ装置であって、
   第１電極部と、
   前記第１電極部に対向する第２電極部と、
   前記第１電極部を支持する第１電極支持部と、
   前記第１電極部を加熱する加熱部とを備え、
   前記第１電極部は、
   前記基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、
   前記第２面と前記第１電極支持部との間に配置され、前記載置板を支持する第１及び第２中間部材とを有し、
   前記第１電極支持部は、前記第１及び第２中間部材を支持し、
   前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、
   前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、
   前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、
   前記第１電極支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続され、
   前記第１電極支持部は、第４接続点において前記第２中間部材に接続されており、
   前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れている
   ことを特徴とするＣＶＤ装置。
6. 基板にレーザ光を照射するレーザ加工装置であって、
   前記基板が載置される第１面と、前記第１面の反対側に設けられる第２面とを有する載置板と、
   前記載置板の前記第２面側に配置され、前記載置板を支持する第１及び第２中間部材と、
   前記第１及び第２中間部材を挟んで前記載置板の反対側に配置され、前記第１及び第２中間部材を支持する支持部と、
   前記載置板を加熱する加熱部とを備え、
   前記第１中間部材は、前記第２面に沿って配置され、
   前記第１中間部材は、第１接続点において前記第２面に接続され、
   前記第２中間部材は、第２接続点において前記第２面に接続され、
   前記支持部は、第３接続点において前記第１中間部材に接続されており、
   前記第２面に略平行な投影面上において、前記第１接続点は、前記第３接続点よりも前記第２接続点から離れている
   ことを特徴とするレーザ加工装置。

Images