JP7087295B2 - 重合体及びその製造方法並びにそれを用いた光学フィルム - Google Patents

重合体及びその製造方法並びにそれを用いた光学フィルム Download PDF

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Description

本発明は、新規な重合体及びそれの製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する光学フィルム、特に液晶表示素子用及び有機EL用の光学補償フィルムに適した新規な重合体及びその製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものである。
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。
液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。
延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。
そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。
つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。
多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。
負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN-LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA-LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS-LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1~3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。
それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。
しかし、特許文献1~4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。
特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。また、ディスプレイの用途拡大に伴い、より耐熱性の高い位相差フィルムが求められている。
また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献6~12参照)。
特許文献6~12で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。
さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型位相差フィルム材料が提案されており(例えば、特許文献13及び14参照)、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。
特許2818983号公報 特開平05-297223号公報 特開平05-323120号公報 特開平06-88909号公報 特開2005-156862号公報 特開2008-112141号公報 特開2012-032784号公報 WO2012/005120号公報 特開2008-129465号公報 特開2006-193616号公報 WO2014/013982号公報 WO2014/084178号公報 WO2014/196552号公報 WO2016/060115号公報
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、特定の構造の単量体単位とすることで、負の複屈折性を発現させる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性及び異種ポリマーとの相溶性に優れた複合化が容易な重合体及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、一般式(1)で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする重合体及びその製造法並びにそれを用いた光学フィルムに関するものである。
Figure 0007087295000001
(ここで、R、Rはそれぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く)、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OXまたは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX)またはアミド基(-C(=O)N(X)(X)または-NXC(=O)X)(ここで、X~Xは、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X~Xは、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、該直鎖状もしくは該分岐状アルキル基中または該環状基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。)を示し、Rは水素またはハロゲンを示し、R~Rはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基(-C(=O)OXまたは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX10)、アミド基(-C(=O)N(X11)(X12)または-NX13C(=O)X14)、アシル基(-C(=O)X15)、アミノ基(-N(X16)(X17))またはスルホニル基(-SOOX18)(ここで、X~X10は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X11~X18は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される1以上を示す。また、R~Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
以下、本発明の光学補償フィルムに適した重合体について詳細に説明する。
本発明の重合体は、一般式(1)で表される単量体残基単位を含む重合体である。そして、本発明の重合体は、一般式(1)で表される単量体残基単位を含んでなることにより、負の複屈折性及び異種ポリマーとの相溶性を発現させるものである。
本発明の一般式(1)におけるR、Rは、それぞれ独立して水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く)、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OXまたは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX)またはアミド基(-C(=O)N(X)(X)または-NXC(=O)X)(ここで、X~Xは、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X~Xは、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、該直鎖状もしくは該分岐状アルキル基中または該環状基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。)を示す。
、Rにおけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2-メトキシエチル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、2-メトキシプロピル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられる。
ここで、良好な光学特性を発現するため、R及びRのうち、少なくとも1以上がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基から選択される1以上であることが好ましく、R、Rがそれぞれ独立してシアノ基、エステル基、アミド基のいずれかであることがさらに好ましい。
~Xにおける炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明の一般式(1)におけるRは、水素またはハロゲンを示す。ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
本発明の一般式(1)におけるR~Rはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基(-C(=O)OXまたは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX10)、アミド基(-C(=O)N(X11)(X12)または-NX13C(=O)X14)、アシル基(-C(=O)X15)、アミノ基(-N(X16)(X17))またはスルホニル基(-SOOX18)(ここで、X~X10は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X11~X18は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される1以上を示し、異種ポリマーとの相溶性が良好となるため、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基であることが好ましい。また、R~Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
~Rにおけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられ、具体的なスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基等が挙げられ、縮合環構造としては、例えば、シクロヘキサン環構造、ベンゼン環構造、フラン環構造等の縮合環構造が挙げられ、縮合環上に任意の置換基を有していてもよい。
~X18における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
そして、具体的な一般式(1)で表される単量体残基単位としては、例えば、
2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位、2-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、3-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2-カルボキシシンナモニトリル残基単位、3-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、4-ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、2-カルボキシシンナモニトリル残基単位、3-カルボキシシンナモニトリル残基単位、4-カルボキシシンナモニトリル残基単位、4-スルホキシシンナモニトリル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、2-カルボキシケイ皮酸残基単位、3-カルボキシケイ皮酸残基単位、4-カルボキシケイ皮酸残基単位、4-スルホキシケイ皮酸残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、3-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、4-スルホキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル残基単位、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル残基単位、2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、2-カルボキシシンナムアミド残基単位、3-カルボキシシンナムアミド残基単位、4-カルボキシシンナムアミド残基単位、4-スルホキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-2-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-3-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジメチル-4-スルホキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル2-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル3-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-ヒドロキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル2-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル3-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-カルボキシシンナムアミド残基単位、N,N-ジエチル4-スルホキシシンナムアミド残基単位、2-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、3-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-ヒドロキシ-β-メチルスチレン残基単位、2-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、3-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-カルボキシ-β-メチルスチレン残基単位、4-スルホキシ-β-メチルスチレン残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデ
ンマロン酸ジブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位等が挙げられる。
一般式(1)で表される残基単位のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジスルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸te
rt-ブチル残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位が好ましく、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル残基単位、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位がさらに好ましい。これらの残基単位は1種でもよいし2種以上含んでいてもよい。
本発明の一般式(1)で表される単量体残基単位を含む重合体は、良好な光学特性を発現するため、さらに一般式(2)~一般式(4)で表される少なくとも1以上の単量体残基単位を含むことが好ましい。
Figure 0007087295000002
(ここで、R~R11はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OX19または-CO(=O)-X20)、アミド基(-C(=O)N(X21)(X22)または-NX23C(=O)X24)またはアシル基(-C(=O)X25)(ここで、X19~X20は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X21~X25は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示し、R12~R16はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX26)、エステル基(-C(=O)OX27または-CO(=O)-X28)、アミド基(-C(=O)N(X29)(X30)または-NX31C(=O)X32)、アシル基(-C(=O)X33)またはアミノ基(-N(X34)(X35))(ここで、X26~X28は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X29~X35は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R12~R16は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
Figure 0007087295000003
(ここで、R17~R19はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OX36または-CO(=O)-X37)、アミド基(-C(=O)N(X38)(X39)または-NX40C(=O)X41)またはアシル基(-C(=O)X42)(ここで、X36~X37は炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X38~X42は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示し、R20~R27はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX43)、エステル基(-C(=O)OX44または-CO(=O)-X45)、アミド基(-C(=O)N(X46)(X47)または-NX48C(=O)X49)、アシル基(-C(=O)X50)またはアミノ基(-N(X51)(X52))(ここで、X43~X45は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X46~X52は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R20~R27は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R20とR26およびR21とR27は同一原子で環構造を形成していてもよい。)
Figure 0007087295000004
(ここで、R28~R30はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状炭化水素基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、エーテル基(-OX53)、エステル基(-C(=O)OX54または-CO(=O)-X55)、アミド基(-C(=O)N(X56)(X57)または-NX58C(=O)X59)、アシル基(-C(=O)X60)またはアミノ基(-N(X61)(X62))、または少なくとも炭素原子と窒素原子を含む5~7員環の環状基を示す(ここで、X53~X55は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X56~X62は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)。R31~R34はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX63)、エステル基(-C(=O)OX64または-CO(=O)-X65)、アミド基(-C(=O)N(X66)(X67)または-NX68C(=O)X69)、アシル基(-C(=O)X70)またはアミノ基(-N(X71)(X72))(ここで、X63~X65は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X66~X72は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R31~R34は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R31とR32およびR33とR34は同一原子で環構造を形成していてもよい。)
本発明の一般式(2)におけるR~R11はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OX19または-CO(=O)-X20)、アミド基(-C(=O)N(X21)(X22)または-NX23C(=O)X24)またはアシル基(-C(=O)X25)(ここで、X19~X20は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X21~X25は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。
~R11におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
本発明の一般式(2)におけるR12~R16はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX26)、エステル基(-C(=O)OX27または-CO(=O)-X28)、アミド基(-C(=O)N(X29)(X30)または-NX31C(=O)X32)、アシル基(-C(=O)X33)またはアミノ基(-N(X34)(X35))(ここで、X26~X28は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X29~X35は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R12~R16は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
12~R16におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
19~X33における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
そして、具体的な一般式(2)で表される単量体残基単位としては、例えば、2-メチルスチレン残基単位、3-メチルスチレン残基単位、4-メチルスチレン残基単位、2-ヒドロキシスチレン残基単位、4-tert-ブトキシスチレン残基単位、3-ヒドロキシスチレン残基単位、4-ヒドロキシスチレン残基単位、4-シアノスチレン残基単位、4-ニトロスチレン残基単位、2-ビニル安息香酸残基単位、4-ビニル安息香酸残基単位、4-メトキシスチレン残基単位、4-アセトキシスチレン残基単位、4-ビニル安息香酸メチル残基単位、4-ヨードスチレン残基単位、4-ブロモスチレン、4-クロロスチレン等、4-ビニルビフェニル等のスチレン類残基単位、α,β,β-トリフルオロスチレン残基単位等のα,β,β-ハロゲン化スチレン類残基単位、1-ビニルナフタレン残基単位、2-ビニルナフタレン残基単位等のビニルナフタレン類残基単位、α-メチルスチレン類残基単位、trans-スチルベン類残基単位、アネトール類残基単位、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、4-メトキシケイ皮酸エチル等のケイ皮酸エステル類残基単位、ケイ皮酸、4-メトキシケイ皮酸等のケイ皮酸類残基単位等を挙げることができる。このなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、スチレン類残基単位及びビニルナフタレン類残基単位が好ましく、スチレン残基単位、2-メチルスチレン残基単位、3-メチルスチレン残基単位、4-メチルスチレン残基単位、4-フェニルスチレン残基単位、2-メトキシスチレン残基単位、3-メトキシスチレン残基単位、4-メトキシスチレン残基単位、4-tert-ブトキシスチレン残基単位、1-ビニルナフタレン残基単位、2-ビニルナフタレン残基単位がさらに好ましい。
本発明の一般式(3)におけるR17~R19は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OX36または-CO(=O)-X37)、アミド基(-C(=O)N(X38)(X39)または-NX40C(=O)X41)またはアシル基(-C(=O)X42)(ここで、X36~X37は炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X38~X42は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。
17~R19におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
また、本発明における一般式(3)におけるR20~R27はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX43)、エステル基(-C(=O)OX44または-CO(=O)-X45)、アミド基(-C(=O)N(X46)(X47)または-NX48C(=O)X49)、アシル基(-C(=O)X50)またはアミノ基(-N(X51)(X52))(ここで、X43~X45は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X46~X52は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R20~R27は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R20とR26およびR21とR27は同一原子で環構造を形成していてもよい。
20~R27におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
36~X52における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
そして、具体的な一般式(3)で表される単量体残基単位としては、例えば、N-ビニルインドール残基単位、N-メチル-3-ビニルインドール残基単位等のインドール類残基単位、N-ビニルカルバゾール残基単位、3-メチル-N-ビニルカルバゾール、3-クロロ-N-ビニルカルバゾール等のN-ビニルカルバゾール類残基単位等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、N-ビニルカルバゾール類残基単位が好ましく、N-ビニルカルバゾールがさらに好ましい。
本発明における一般式(4)におけるR28~R30は、水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状炭化水素基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、エーテル基(-OX53)、エステル基(-C(=O)OX54または-CO(=O)-X55)、アミド基(-C(=O)N(X56)(X57)または-NX58C(=O)X59)、アシル基(-C(=O)X60)、アミノ基(-N(X61)(X62))または少なくとも炭素原子と窒素原子を含む5~7員環の環状基を示す。(ここで、X53~X55は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X56~X62は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)
28~R30におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なエーテル基としては、メチルエーテル基、エチルエーテル基、プロピルエーテル基、イソプロピルエーテル基、ブチルエーテル、イソブチルエーテル基、sec-ブチルエーテル基、tert-ブチルエーテル基、シクロヘキシルエーテル基、フェニルエーテル基、ベンジルエーテル基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
また、本発明における一般式(4)におけるR31~R34はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基(-OX63)、エステル基(-C(=O)OX64または-CO(=O)-X65)、アミド基(-C(=O)N(X66)(X67)または-NX68C(=O)X69)、アシル基(-C(=O)X70)またはアミノ基(-N(X71)(X72))(ここで、X63~X65は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X66~X72は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示す。また、R31~R34は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、R31とR32およびR33とR34は同一原子で環構造を形成していてもよい。
31~R34におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等の炭素数1~12の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数3~14の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
53~X72における炭素数1~12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1~12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数3~14の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
そして、具体的な一般式(4)で表される単量体残基単位としては、例えば、N-ビニルスクシンイミド残基単位等のN-ビニルスクシンイミド類残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、4-メチルフタルイミド残基単位、4-クロロメチルフタルイミド残基単位、4-ニトロフタルイミド残基単位等のN-ビニルフタルイミド類残基単位、N-ビニル2,3-ナフタレンジカルボキシイミド残基単位、N-ビニル1,8-ナフタレンジカルボキシイミド残基単位等のN-ビニルナフタレンジカルボキシイミド類等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、N-ビニルフタルイミド類残基単位が好ましく、N-ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。
本発明の重合体の製造方法について特に制限はないが、例えば、一般式(5)で表される単量体を重合する製造方法が挙げられる。
Figure 0007087295000005
(ここで、R~Rは水素(ただし、R、Rが共に水素である場合を除く)、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基(-C(=O)OXもしくは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX)またはアミド基(-C(=O)N(X)(X)または-NXC(=O)X)(ここで、X~Xは、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X~Xは、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示し、Rは水素またはハロゲンを示し、R~Rは水素、ハロゲン、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、炭素数3~14の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基(-C(=O)OXまたは-CO(=O)-X)、アルコキシ基(-OX10)、アミド基(-C(=O)N(X11)(X12)または-NX13C(=O)X14)、アシル基(-C(=O)X15)、アミノ基(-N(X16)(X17))またはスルホニル基(-SOOX18)(ここで、X~X10は、それぞれ独立して炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示し、X11~X18は、それぞれ独立して水素、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数1~12の分岐状アルキル基、または炭素数3~14の環状基を示す。)を示し、R~Rの少なくとも1以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される1以上を示す。また、R~Rは隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。)
本発明の一般式(5)における具体的な単量体としては、例えば、2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロスチレン、2-ヒドロキシシンナモニトリル、3-ヒドロキシシンナモニトリル、4-ヒドロキシシンナモニトリル、2-カルボキシシンナモニトリル、3-ヒドロキシシンナモニトリル、4-ヒドロキシシンナモニトリル、2-カルボキシシンナモニトリル、3-カルボキシシンナモニトリル、4-カルボキシシンナモニトリル、4-スルホキシシンナモニトリル、2-ヒドロキシケイ皮酸、3-ヒドロキシケイ皮酸、4-ヒドロキシケイ皮酸、2-カルボキシケイ皮酸、3-カルボキシケイ皮酸、4-カルボキシケイ皮酸、2-スルホキシケイ皮酸、3-スルホキシケイ皮酸、4-スルホキシケイ皮酸、2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、2-カルボキシケイ皮酸メチル、3-カルボキシケイ皮酸メチル、4-カルボキシケイ皮酸メチル、4-スルホキシケイ皮酸メチル、2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、2-カルボキシケイ皮酸エチル、3-カルボキシケイ皮酸エチル、4-カルボキシケイ皮酸エチル、4-スルホキシケイ皮酸エチル、2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、2-カルボキシケイ皮酸プロピル、3-カルボキシケイ皮酸プロピル、4-カルボキシケイ皮酸プロピル、4-スルホキシケイ皮酸プロピル、2-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-カルボキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、4-スルホキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2,3-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、3,4-ジヒドロキシ-α,β,β-トリフルオロ-1-ビニルナフタレン、2-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-ヒドロキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、2-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、3-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-カルボキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、4-スルホキシ-β-シアノ-1-ビニルナフタレン、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(3-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸メチル、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸エチル、β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(3-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-ヒドロキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(2-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(3-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-カルボキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、β-(4-スルホキシ-1-ナフチル)アクリル酸プロピル、2-ヒドロキシシンナムアミド、3-ヒドロキシシンナムアミド、4-ヒドロキシシンナムアミド、2-カルボキシシンナムアミド、3-カルボキシシンナムアミド、4-カルボキシシンナムアミド、2-スルホキシシンナムアミド、3-スルホキシシンナムアミド、4-スルホキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-2-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-3-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-2-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-3-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジメチル-4-スルホキシシンナムアミド、N,N-ジエチル2-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル3-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-ヒドロキシシンナムアミド、N,N-ジエチル2-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル3-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-カルボキシシンナムアミド、N,N-ジエチル4-スルホキシシンナムアミド、2-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、3-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、4-ヒドロキシ-β-メチルスチレン、2-カルボキシ-β-メチルスチレン、3-カルボキシ-β-メチルスチレン、4-カルボキシ-β-メチルスチレン、2-スルホキシ-β-メチルスチレン、3-スルホキシ-β-メチルスチレン、4-スルホキシ-β-メチルスチレン、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4
-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)等が挙げられる。
一般式(5)で表される単量体のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、3-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-カルボキシベンジリデンマロノニトリル、4-スルホキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-カルボキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-スルホキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)が好ましく、2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、2-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジsec-ブチル、2-ヒドロキシベ
ンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、4-ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジtert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)がさらに好ましい。これらの単量体を重合することにより、脱保護等の後反応を行うことなく重合体を得ることができる。
該重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α-メチルスチレン残基単位等のα-置換スチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn-ブチル残基単位、フマル酸ビス(2-エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種又は2種以上を挙げることができる。
本発明の重合体の組成は、光学補償フィルムとしたときの位相差特性がより優れたものとなることから、一般式(1)で表される単量体残基単位5~55モル%及び一般式(2)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位45~95モル%が好ましく、一般式(1)で表される単量体残基単位20~50モル%及び一般式(2)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位50~80モル%がさらに好ましく、一般式(1)で表される単量体残基単位30~45モル%及び一般式(2)~(4)のいずれかで表される単量体残基単位55~70モル%が特に好ましい。
本発明の重合体は、フィルムとした際の耐熱性がより優れたものとなることから、ガラス転移点が100℃以上であることが好ましく、120℃以上であることがさらに好ましく、150℃以上であることが特に好ましい。
本発明の重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が5000~500000であることが好ましく、8000~400000であることがさらに好ましく、10000~300000であることが特に好ましい。
本発明の重合体の具体的な製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、一般式(5)で表される単量体のラジカル重合を行うことにより製造することができる。
前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシアセテート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物;2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(2-ブチロニトリル)、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル-2,2’-アゾビスイソブチレート、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)等のアゾ系開始剤などが挙げられる。
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には30~150℃の範囲で行うことが好ましい。
本発明の重合体は、光学フィルムとして用いることができる。
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、ヘーズが2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、全光線透過率が85%以上であることが好ましい。
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、光学補償フィルム(位相差フィルム)とすることが好ましい。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≒ny<nzである光学補償フィルムとして用いられる。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムとしては、該重合体のみを用いることもできるだけでなく、他の重合体と混合した組成物とすることに好適である。このとき、混合する他の重合体としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良い。
本発明の重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能となるため、下記式(A)で示される面外位相差(Rth)と膜厚との比(Rth/膜厚)が絶対値で6以上(nm/μm)であることが好ましく、8以上であることがさらに好ましく、9以上であることが特に好ましい。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (A)
(式中、nxはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、nyはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、nzはフィルム面外の屈折率を示し、dはフィルム厚みを示す。)
本発明において、重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、三次元屈折率を独立に制御できることから、nx<nzまたはny<nzの少なくともいずれかとなることが好ましい。
本発明の共重合体を用いた光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。
溶液キャスト法は、該重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10~20000cPsが好ましく、100~10000cPsであることがさらに好ましい。
この際の該重合体を用いたフィルムの塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後1~200μmが好ましく、さらに好ましくは5~100μmであり、特に好ましくは10~50μmである。
また、溶融キャスト法は、該重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、延伸して使用することもできる。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該光学補償フィルム同士又は他の光学補償フィルムと積層することもできる。
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100~500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成する重合体100重量部に対して、0.01~10重量部が好ましく、0.5~1重量部がさらに好ましい。
また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。
本発明の重合体を用いた光学フィルムは、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。
本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルムに適した重合体を提供することができる。
本発明の重合体は、位相差特性及び相溶性に優れる光学補償フィルムに適した重合体であり、特に液晶表示素子用及び有機EL用の光学補償フィルム用として適したものである。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
<重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM-ECZ400S)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H-NMR)スペクトル分析より求めた。また、H-NMRスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、CHN元素分析より求めた。
<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名HLC-8320GPC(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランまたはN,N-ジメチルホルムアミドを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレンまたはプルラン換算値として求めた。
<フィルムの三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA-WPR)を用いて測定した。
実施例1
容量50mlのガラスアンプルにα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル5.0g、N-ビニルカルバゾール4.4g、重合溶媒としてテトラヒドロフラン8.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.17gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、500ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体7.7gを得た。(収率82%)
得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は22000であり、共重合体組成はα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位/N-ビニルカルバゾール残基単位=42/58(モル%)であることを確認した。
得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体をテトラヒドロフランに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.4%、全光線透過率87%の良好なフィルム(膜厚15.2μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.681、ny=1.681、nz=1.704であり、Rth/膜厚=-23.0(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。
得られたα-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体0.5gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.5gをテトラヒドロフラン10gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.7%の良好なフィルムとなることから、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル-N-ビニルカルバゾール共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
実施例2
容量50mlのガラスアンプルに4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル5.0g、2-ビニルナフタレン4.5g、重合溶媒としてテトラヒドロフラン10gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.21gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、500ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体6.2gを得た。(収率65%)
得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は12000であり、共重合体組成は4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位/2-ビニルナフタレン残基単位=43/57(モル%)であることを確認した。
得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体0.5gおよびポリエチレングリコール(東京化成製、数平均分子量3000)0.5gをテトラヒドロフラン4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.4%、全光線透過率86%の良好なフィルム(膜厚12.4μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.634、ny=1.633、nz=1.668であり、Rth/膜厚=-34.3(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。
得られた4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体0.8gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.2gをシクロヘキサノン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、100℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.8%の良好なフィルムとなることから、4-ヒドロキシベンザルマロノニトリル-2-ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
実施例3
容量50mlのガラスアンプルに4-カルボキシベンザルマロノニトリル5.3g、N-ビニルフタルイミド4.7g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド12.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.19gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体4.5gを得た。(収率45%)
得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は13000であり、共重合体組成は4-カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位/N-ビニルフタルイミド共重合体残基単位=35/65(モル%)であることを確認した。
得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体をN,N-ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で180分真空乾燥することによりヘーズ0.5%、全光線透過率87%の良好なフィルム(膜厚13.0μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.626、ny=1.626、nz=1.647であり、Rth/膜厚=-21.1(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。
得られた4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体0.7gとポリ酢酸ビニル(Aldrich製、数平均分子量53000)0.3gをN,N-ジメチルホルムアミド4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.8%の良好なフィルムとなることから、4-カルボキシベンザルマロノニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
実施例4
容量50mlのガラスアンプルにN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド6.1g、2-ビニルナフタレン8.9g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド10.0gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.28gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、N,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体3.3gを得た。(収率33%)
得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は10000であり、共重合体組成はN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド残基単位/2-ビニルナフタレン共重合体残基単位=29/71(モル%)であることを確認した。
得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体をN,N-ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.5%、全光線透過率86%の良好なフィルム(膜厚9.7μm)が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、nx=1.633、ny=1.634、nz=1.652であり、Rth/膜厚=-18.5(nm/μm)と高い負の位相差を発現した。
得られたN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体0.8gとエチルセルロース(ダウ・ケミカル製エトセルスタンダード100、数平均分子量55000)0.3gをテトラヒドロフラン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ0.9%の良好なフィルムとなることから、N,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド-2-ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
比較例1
ポリ(N-ビニルカルバゾール)(Aldrich製、数平均分子量35000)0.5gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.5gをテトラヒドロフラン10gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ86.6%の不良なフィルムとなることから、ポリ(N-ビニルカルバゾール)は相溶性に劣るポリマーであった。
比較例2
ポリ(2-ビニルナフタレン)(Aldrich製、数平均分子量50000)0.8gとポリメタクリル酸メチル(東京化成製、数平均分子量270000)0.2gをシクロヘキサノン9gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、100℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ90.3%の不良なフィルムとなることから、ポリ(2-ビニルナフタレン)は相溶性に劣るポリマーであった。
比較例3
容量50mlのガラスアンプルにメタクリロニトリル2.8g、N-ビニルフタルイミド7.2g、重合溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミド12.5gおよび重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.30gを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを62℃の恒温槽に入れ、18時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、200ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、メタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体7.8gを得た。(収率78%)
得られたメタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は21000であることを確認した。
得られたメタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体0.7gとポリ酢酸ビニル(Aldrich製、数平均分子量53000)0.3gをN,N-ジメチルホルムアミド4gに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、60℃で10時間真空乾燥することによりヘーズ92.1%の不良なフィルムとなることから、メタクリロニトリル-N-ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に劣るポリマーであった。
本発明は、新規な重合体を提供するものであり、該重合体はフィルム、特に光学補償フィルム等としての利用が期待されるものである。

Claims (4)

  1. ビスメチド酸基またはビスメチド酸塩を含む有機を含まず、
    2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-3-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-4-スルホキシケイ皮酸残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)残基単位及びN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミド残基からなる群から選ばれる1種以上の残基単位(以下、「(1)残基単位」という)及び
    スチレン残基単位、2-メチルスチレン残基単位、3-メチルスチレン残基単位、4-メチルスチレン残基単位、4-フェニルスチレン残基単位、2-メトキシスチレン残基単位、3-メトキシスチレン残基単位、4-メトキシスチレン残基単位、4-tert-ブトキシスチレン残基単位、1-ビニルナフタレン残基単位及び2-ビニルナフタレン残基単位からなる群から選ばれる1種以上の残基単位(以下、「(2)残基単位」という)のみからなることを特徴とする重合体。
  2. (1)残基単位5~55モル%、および(2)残基単位95~45モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載の重合体。
  3. 2-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、4-ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,3-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、2,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、3,4-ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸sec-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸tert-ブチル、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸(2-メトキシエチル)及びはN,N-ジメチル-4-スルホキシ-α-シアノケイ皮アミドからなる群から選ばれる1種以上の単量体を重合してなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の重合体の製造方法
  4. 請求項1または請求項2に記載の重合体を含んでなることを特徴とする光学フィルム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113429695B (zh) * 2021-06-09 2022-10-25 华南理工大学 一种偏光膜保护膜及其制备方法和应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012092089A (ja) 2010-09-28 2012-05-17 Central Glass Co Ltd 抗菌剤およびそれを用いた基材の表面処理方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5320334A (en) * 1976-08-10 1978-02-24 Mitsubishi Chem Ind Photosensitive material for electrophotography
JPS592038A (ja) * 1982-06-29 1984-01-07 Fujitsu Ltd ネガ型レジスト組成物
JP2774114B2 (ja) * 1988-11-09 1998-07-09 保治 大塚 非複屈折性材料

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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