JP7083699B2 - 評価方法 - Google Patents
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Description
10 測定装置
11 レーザー発生部
12 検出部
13 処理部
20 ウェーハの最外周
21 測定除外領域(評価除外領域)
22 歪み測定領域
Claims (3)
- ポリシリコン膜を形成したウェーハに入射し、透過した赤外レーザーの偏光度の変化に基づいて前記ウェーハの外周歪みを評価する方法において、前記ウェーハの最外周からの評価除外領域の幅を0.6mm以上1.2mm以下とし、前記ポリシリコン膜の研磨を行わずに前記ウェーハの外周歪みを評価することを特徴とする評価方法。
- 前記評価除外領域の幅は0.6mm以上1.0mm以下である請求項1に記載の評価方法。
- 前記評価除外領域の幅は0.8mm以上1.0mm以下である請求項1又は2に記載の評価方法。
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