JP7073213B2 - 熱安定性の高い石英ガラス部品、そのための半製品、及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)結晶化層は、非晶質形態のSiO2粒子を含有する。これらのガラス状粒子は加熱中に結晶化することができる(ガラスの結晶化は、「失透」又は「失透すること」とも呼ばれる)。したがって結晶形成層は、結晶化の誘因だけではなく対象でもあり、安定化層の少なくとも一部を形成する。これは図8中に概略的に示されている。クリストバライト形成81は、非晶質SiO2粒子80の表面上で開始し、これが結晶化層82を形成する。結晶化する結晶形成層によって、既に基体83が安定化される。必ずしも基体83の石英ガラスが失透する必要はない。非晶質形態の結晶形成層中に存在するSiO2粒子80は、それらの失透後でさえも基体83のガラス状SiO2と高い化学的類似性を示し、したがって、基体83への結晶層の接着に寄与する。比較において、図7中に概略的に示されるように、基体83の表面上にこのようなSiO2粒子含有結晶形成層82を有さずに結晶形成を開始する。結晶化促進剤を塗布することによってこの結晶化を促進することができたとしても、結晶形成は比較的高い温度において、及び/又はより長い加熱時間の後に起こり、表面から開始する失透が生じ、そのため、結晶性表面層84によってその熱的支持効果が生じる前に、例えば表面付近の亀裂85の形成によって、基体83がさらに機械的に脆弱化し得る。
(a)SiO2粒子を液体中に含有する分散体をスラリー層としてコーティング表面に塗布することと、
(b)スラリー層を乾燥させてグリーン層を形成することと、
を含む。
上記説明の個別の方法工程及び用語、ならびに測定方法は、以下のようにさらに定義される。これらの定義は本発明の説明の一部である。以下の定義のいずれかと残りの説明との間で内容に矛盾が生じる場合、説明における記載が優先されるものとする。
結晶化促進剤は、非晶質SiO2の結晶化を促進する物質である。多数のそのような物質が文献に記載されている。本発明によると、ルビジウム及び/又はセシウムが結晶化促進剤として使用され、これは追加の別の結晶化促進剤物質の使用を排除するものではない。
「スラリー」という用語は、液体とSiO2固体粒子との分散体に使用される。不純物の含有量を最小限にするために、蒸留又は脱イオンによって精製された水を液体として使用することができる。
微粉化した非晶質SiO2粒子の粒度及び粒度分布は、D50値によって特徴付けられる。これらの値は、粒度の関数としてのSiO2粒子の累積体積を示す粒度分布曲線から得られる。D50値は、SiO2粒子の累積体積の50%が到達しない粒度を示す。粒度分布は、ISO 13320に準拠した散乱光及びレーザー回折分光法によって求められる。
部分的に緻密化した多孔質SiO2成形体の粉末化によって、破面と、通常は、少なくとも2のアスペクト比(「構造比」とも呼ばれる)を有する裂片状であり非球状の形態とを示す元の成形体の破片が得られる。「アスペクト比」は、破砕された粒子の最大構造幅とその厚さとの比である。それによると、少なくとも2のアスペクト比は、最大構造幅が、その厚さの少なくとも2倍の大きさであることを意味する。
多孔質材料の比細孔容積は、空隙によって占められる材料内の自由体積を意味する。細孔容積及び多孔度は、ISO15901-1(2005)に準拠して水銀ポロシメトリーによって測定される。反対に作用する表面張力に対抗する外部圧力の影響下で、多孔質材料の細孔中に水銀が押し込まれる。これに必要な力は細孔径に反比例し、したがって、累積全細孔容積に加えて、試料の細孔径分布も求めることができる。
粒度及び粒度分布は、ISO 13320に準拠して分散させた試料に対するレーザー回折によって求められる。使用される測定装置はマルバーン社のMastersizer 3000であり、これは周囲温度(23℃)で測定するためのHe-Neレーザー、青色LED、及び湿式分散ユニットを備えている。湿式分散ユニットは80%の超音波出力に調整され、分散剤として水が使用される。粒度分布のD50値は、21 CFRデバイスソフトウェアを用いて形状因子1で求められる。D50値は、累積粒子体積の50%が到達しない粒度(粒度のメジアン値)を示している。
誘導結合プラズマ質量分析(ICP-MS)によって、指定の温度処理の終了後に、コーティングした測定試料の研磨した断面上で濃度プロファイルを求めた。Institute of Geosciences,JGU Mainzにおいて実施;波長193nmのESI NWR 193nmエキシマレーザーをAgilent 7500ce四重極ICP-MSに連結させた。
Linseis GmbHより市販されるL75VS1600垂直膨張計を用いて、測定試料の熱機械分析を行う。
方法1:試験リング上のたわみ試験
外径320mm、肉厚5mm及び高さ30mmの石英ガラスでできた試験リングを作製し、種々の結晶化促進剤コーティングを形成した。たわみ試験を行うために、数個の試験リングを次々にそれらの外面上で支えられるように炉内に入れ、指定の温度処理を行った。冷却後、試験リングの変形を視覚的及び定性的に評価した。
50×300×3mmの寸法の電気溶融石英ガラスの板を作製し、種々の結晶化促進剤コーティングを形成した。ゆがみ試験を行うために、試験板を240mmの自由距離でセラミック支持体上に配置し、炉内で指定の温度処理を行った。冷却後、板の最大ゆがみを測定した。
クリストバライト相の存在は、ラマン分光法によって同定した。使用した装置の名称は「LabRam HR 800」(Horiba Group)である。これは、Olympus BX41光学顕微鏡及びSi CCD(電荷結合素子)検出器に連結される。
これより、実施形態及び図面を参照しながらより詳細に本発明を説明する。
250μm~650μmの範囲内のグレインサイズを有する天然原材料の非晶質石英ガラス顆粒を分散液体(水)中で混合する。石英ガラス顆粒は最初に高温塩素化法で清浄にした;クリストバライト含有量が確実に1重量%未満となるように注意する。
ゆがみ試験によって熱安定性を調べるために、50×300×3mmの寸法の電気溶融石英ガラスの試験板に、浸漬によって、すべての側面上に平均厚さ1mmのこれらのSiO2含有分散体を含有する層(スラリー層)を形成し、次にスラリー層を乾燥させた。
図3の写真は、表1の上記試料2、3、7、及び8による結晶化促進剤をコーティングした4つの石英ガラス試験リングに対する代表的な変形測定(たわみ試験)の結果を示している。この試験の場合、炉を1365℃の温度に加熱し、この温度を18時間維持する。
図1及び2の図は、膨張計測定の結果を示している。温度T(単位℃)の関数として、測定試料の長さの変化デルタL(単位μm)を縦座標にプロットしている。
拡散試料を空気中の炉内で200℃の温度に加熱し、この温度を1時間維持した。その後、3時間以内に、温度を、例えば1300/1500/1600℃の異なる測定温度まで上昇させ、次にこれらの温度を6時間維持した。次に炉を開放し、自由冷却した。
数個の試料を900℃~1600℃の温度間隔の温度で6時間処理し、次に結晶化をラマン分光法で分析した。最も重要な測定結果を図9~12にまとめている。
Claims (15)
- 結晶化促進剤を含有する結晶形成層が、石英ガラスの基体のコーティング表面上に形成される、石英ガラス部品の製造方法において、非晶質SiO2粒子を含有する多孔質結晶形成層が0.1~5mmの範囲内の平均厚さで形成され、且つセシウム及び/又はルビジウムを含有する物質が前記結晶化促進剤として使用されることを特徴とする方法。
- 前記結晶化促進剤物質が、1150℃未満、好ましくは1100℃未満の溶融温度を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記多孔質結晶形成層中の前記結晶化促進剤物質の量が少なくとも0.025モル%且つ0.5モル%以下であり、前記多孔質結晶形成層が好ましくは0.5~3mmの範囲内の平均厚さで形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 石英ガラスの粉末化によって形成される非晶質SiO2粒子が、前記結晶形成層の最大体積分率を構成することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記結晶形成層の前記形成が、
(a)前記非晶質SiO2粒子を液体中に含有する分散体を、スラリー層として前記コーティング表面に塗布することと、
(b)グリーン層を形成する間、前記スラリー層を乾燥させることと、
を含むことを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記結晶化促進剤又はその前駆体物質が、溶解した形態で前記分散体中に含まれることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記グリーン層が少なくとも1.7g/cm3のグリーン密度を有することを特徴とする請求項5又は6に記載の方法。
- 前記グリーン層が、670℃~1000℃の範囲内の温度で熱的に緻密化されることを特徴とする請求項5~7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記多孔質結晶形成層が、1250℃未満、好ましくは1150℃未満の温度に加熱され、且つクリストバライトの形成が前記層の加熱中に開始することを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 石英ガラスの基体のコーティング表面上に、結晶化促進剤を含有する結晶形成層を含む、熱安定性の高い石英ガラス部品の製造のための半製品において、前記結晶形成層が、非晶質SiO2粒子を含有し、多孔質であり、0.1~5mmの範囲内の平均厚さを有し、且つ前記結晶化促進剤がセシウム及び/又はルビジウムを含有する物質であることを特徴とする半製品。
- 前記結晶化促進剤物質が、1150℃未満、好ましくは1100℃未満の溶融温度を有することを特徴とする請求項10に記載の半製品。
- 前記多孔質結晶形成層中の前記結晶化促進剤物質の量が少なくとも0.025モル%且つ0.5モル%以下であり、前記多孔質結晶形成層が好ましくは0.5~3mmの範囲内の平均厚さを有することを特徴とする請求項10又は11に記載の半製品。
- 石英ガラスの粉末化によって形成される非晶質SiO2粒子が、前記結晶形成層の最大体積分率を構成することを特徴とする請求項10~12のいずれか一項に記載の半製品。
- 前記多孔質結晶形成層が少なくとも1.7g/cm3の密度を有することを特徴とする請求項10~13のいずれか一項に記載の半製品。
- 石英ガラスの基体のコーティング表面上に、SiO2と、セシウム及びルビジウムの群から選択されるドーパントとを含有する結晶安定化層を含み、前記安定化層中の前記ドーパントの分率が0.025~0.5モル%の範囲内である、熱安定性の高い石英ガラス部品。
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DE102004051846B4 (de) * | 2004-08-23 | 2009-11-05 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung |
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