JP7066829B2 - 基板処理装置、ガスノズルおよび半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
第1の部材で構成され、基板を収容する反応管と、
前記反応管内に設けられ、前記第1の部材より反射率が高く、内部に含まれる気泡により前記第1の部材より粗い表面を有する第2の部材で少なくとも一部が構成され、前記反応管内に原料ガスを供給する原料ガスノズルと、
を有する技術が提供される。
図1を参照すれば、好ましい実施の形態の基板処理装置10は、処理炉202を備えている。処理炉202は加熱系(温度調整部)としてのヒータ207を有している。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、赤外線を用いて、後述する処理室201内を所定温度で加熱する。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)される(ステップS101)。シャッタ開閉機構(図示せず)によりシャッタ酸化が移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200が収容されたボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートロード)される(ステップS102)。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201内の圧力は、圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づき、APCバルブ243がフィードバック制御される(圧力調整)。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電量がフィードバック制御される(温度調整)。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。続いて、回転機構267によりボート217及びウエハ200の回転を開始する。回転機構267によるボート217及びウエハ200の回転は、少なくとも、ウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
その後、原料ガス供給ステップ(ステップS111)、残留ガス除去ステップ(ステップS112)、反応ガス供給ステップ(ステップS113)、残留ガス除去ステップ(ステップS114)をこの順で所定回数行う。
バルブ314を開き、ガス供給管310へTMAガス(原料ガス)を流す。TMAガスは、MFC312により流量調整され、ノズル410に開口する供給孔410aからウエハ200に対して供給される。すなわちウエハ200はTMAガスに暴露される。供給孔410aから供給されたTMAガスは、排気管231から排気される。このとき同時に、バルブ514を開き、ガス供給管510内にキャリアガスとしてN2ガスを流す。N2ガスは、MFC512により流量調整され、TMAガスと一緒にノズル410の供給孔410aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
Al含有層が形成された後、バルブ314を閉じ、TMAガスの供給を停止する。このとき、APCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応又はAl含有層形成に寄与した後のTMAガスを処理室201内から排除する。バルブ514,524は開いた状態でN2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201内に残留する未反応又はAl含有層形成に寄与した後のTMAガスを処理室201内から排除する効果を高めることができる。なお、バルブ514,524からのN2ガスは残留ガス除去ステップの間、常に流し続けてもよいし、断続的(パルス的)に供給してもよい。
処理室201内の残留ガスを除去した後、バルブ324を開き、ガス供給管320内に反応ガスであるO3ガス(反応ガス)を流す。O3ガスは、MFC322により流量調整され、ノズル420の供給孔420aから処理室201内のウエハ200に対して供給され、排気管231から排気される。すなわちウエハ200はO3ガスに暴露される。このとき、バルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガスを流す。N2ガスは、MFC522により流量調整され、O3ガスと共に処理室201内に供給されて、排気管231から排気される。このとき、ノズル410内へのO3ガスの侵入を防止(逆流を防止)するために、バルブ514を開き、ガス供給管510内へN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管510、ノズル410を介して処理室201内に供給され(パージ)、排気管231から排気される。
AlO層が形成された後、バルブ324を閉じて、O3ガスの供給を停止する。このとき、APCバルブ243は開いたままとし、バルブ514,524は開いた状態でN2ガスの処理室201内への供給を維持して(パージ)、原料ガス供給ステップ後の残留ガス除去ステップと同様の処理手順により、処理室201内に残留する未反応もしくはAlO層の形成に寄与した後のO3ガスや反応副生成物を処理室201内から排除する。
上述の原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、反応ガス供給ステップ、残留ガス供給ステップを順に行うサイクルを1回以上(所定回数)行うことにより、ウエハ200上にAlO膜が形成される。このサイクルの回数は、最終的に形成するAlO膜において必要とされる膜厚に応じて適宜選択されるが、このサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。AlO膜の厚さ(膜厚)は、例えば、0.1~150nm、好ましくは0.1~10nmとする。150nm以下とすることで表面粗さを小さくすることができ、0.1nm以上とすることで下地膜との応力差に起因する膜剥がれの発生を抑制することができる。
成膜ステップが終了したら、バルブ514,524を開き、ガス供給管310,320のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)(ステップS121)。その後、処理室201内の雰囲気がN2ガスに置換され(N2ガス置換)、処理室201内の圧力は常圧に復帰される(大気圧復帰)(ステップS122)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される(ステップS123)。ボートアンロードの後は、シャッタ(図示せず)が移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング(図示せず)を介してシャッタ(図示せず)によりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)(ステップS124)。
次に、本開示の好ましい第1の実施の形態の変形例について説明する。第1の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではO3を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第1の実施の形態と同様である。本変形例では、TMAとNH3とを処理室201内に交互供給してアルミニウム窒化膜(AlN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第2の実施の形態について説明する。この第2の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では、ハフニウム元素を含む有機化合物の一例として、TEMAHを使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態と同じO3を使用する。TEMAHとO3を処理室201内に交互供給してHfO膜をウエハ200上に形成する。HfO膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第2の実施の形態の変形例について説明する。第2の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではO3を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第3の実施の形態と同様である。本変形例では、TEMAHとNH3とを処理室201内に交互供給してハフニウム窒化膜(HfN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第3の実施形態について説明する。この第3の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では、ジルコニウム元素を含む有機化合物の一例として、TEMAZを使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態と同じO3を使用する。TEMAZとO3を処理室201内に交互供給してZrO膜をウエハ200上に形成する。ZrO膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第3の実施の形態の変形例について説明する。第3の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではO3を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第3の実施の形態と同様である。本変形例では、TEMAZとNH3とを処理室201内に交互供給してジルコニウム窒化膜(ZrN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第4の実施形態について説明する。この第4の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では、チタン元素を含む有機化合物の一例として、TDMAT(テトラキスジメチルアミノチタン、Ti[N(CH3)2]4)を使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態と同じO3を使用する。TDMATとO3を処理室201内に交互供給してチタン酸化膜(TiO膜)をウエハ200上に形成する。TiO膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第4の実施の形態の変形例について説明する。第4の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第4の実施の形態ではO3を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第4の実施の形態と同様である。本変形例では、TDMATとNH3とを処理室201内に交互供給してチタン窒化膜(TiN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第5の実施形態について説明する。この第5の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では、シリコン元素を含む有機化合物の一例として、3DMAS(トリスジメチルアミノシラン、SiH(N(CH3)2)3)を使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態と同じO3を使用する。3DMASとO3を処理室201内に交互供給してSiO膜をウエハ200上に形成する。SiO膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第5の実施の形態の変形例について説明する。第5の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第5の実施の形態ではO3を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第5の実施の形態と同様である。本変形例では、3DMASとNH3とを処理室201内に交互供給してシリコン窒化膜(SiN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第6の実施形態について説明する。この第6の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では、シリコン元素を含む化合物の一例として、HCDS(ヘキサクロロジシラン、Si2Cl6)を使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではO3を使用したが、本実施の形態では、酸化ガス(酸化剤)として、酸素(O2)と水素(H2)を使用する。HCDSと、O2およびH2と、を処理室201内に交互供給してSiO膜をウエハ200上に形成する。SiO膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第6の実施の形態の変形例について説明する。第6の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第6の実施の形態ではO2とH2を使用したが、本変形例では窒素含有ガス(窒化ガス、窒化剤)としてNH3を使用する点である。その他は実質的に第6の実施の形態と同様である。本変形例では、HCDSとNH3とを処理室201内に交互供給してシリコン窒化膜(SiN膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第7の実施形態について説明する。この第7の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10は、上述の第1の実施の形態で好適に使用される基板処理装置10と同様の構成である。ガス供給管310からノズル410を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではTMAを使用したが、本実施の形態では六フッ化タングステン(WF6)ガスを使用する。ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第1の実施の形態ではO3を使用したが、本実施の形態ではジボラン(B2H6)ガスを使用する。B2H6は還元剤として用いられる。WF6とB2H6を処理室201内に交互供給してタングステン膜(W膜)をウエハ200上に形成する。W膜形成のシーケンスも第1の実施の形態と同様である。
次に、本開示の好ましい第7の実施の形態の変形例1について説明する。第7の実施の形態と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第7の実施の形態ではB2H6ガスを使用したが、本変形例1ではB2H6ガスに加えて、O3ガスを使用する点である。その他は実質的に第7の実施の形態と同様である。ただし、O3ガスは、新たに別のガス供給管およびノズルを設けて流してもよい。本変形例1では、WF6、B2H6、O3ガスを処理室201内に互いに混合しないよう繰り返し供給してタングステン酸化膜(WO膜)をウエハ200上に形成する。
次に、本開示の好ましい第7の実施の形態の変形例2について説明する。第7の実施の形態の変形例1と異なる点は、ガス供給管320からノズル420を介して処理室201内に供給するガスとして、第7の実施の形態の変形例1ではB2H6ガスおよびO3ガスを使用したが、本変形例2では、B2H6ガスおよびNH3ガスを使用する点である。その他は実質的に第7の実施の形態の変形例1と同様である。本変形例2では、WF6、B2H6、NH3ガスガスを処理室201内に互いに混合しないよう繰り返し供給してタングステン窒化膜(WN膜)をウエハ200上に形成する。
200 ウエハ
203 反応管
410 ノズル
420 ノズル
Claims (13)
- 第1の部材で構成され、基板を収容する反応管と、
複数枚の前記基板を、水平姿勢で垂直方向に多段に積載可能な基板支持具と、
前記反応管内に設けられ、前記第1の部材より赤外線に対する反射率が高く、内部に含まれる気泡により前記第1の部材より粗い表面を有する第2の部材で少なくとも一部が構成され、前記反応管内に原料ガスを供給する原料ガスノズルと、を有し、
前記原料ガスノズルは、少なくとも前記基板が搭載される領域の一端側から他端側まで延在して設けられ、前記基板が搭載される領域の途中から下流側の領域は前記第2の部材で構成され、前記基板が搭載されている途中から上流側の領域は前記第1の部材で構成され、前記原料ガスノズルを構成する前記第1の部材及び前記第2の部材には、前記反応管の上部から下部にわたって前記反応管内に前記原料ガスを供給する複数の供給孔が設けられる
基板処理装置。 - 前記第2の部材の前記反射率は75%以上である請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記赤外線を用いて前記反応管内を加熱するヒータをさらに備える請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ヒータは、少なくとも前記基板が搭載される領域の一端側から他端側まで加熱するように設けられる請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記原料ガスノズルを備え、前記原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
前記原料ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、を有し、
前記原料ガス供給系は、前記原料ガスを貯留するタンクを備え、前記タンクに接続されたガス供給管にバルブが設けられ、前記制御部は、前記タンク内で圧縮された前記原料ガスを前記原料ガスノズルに流すように前記バルブを制御することが可能なよう構成される請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記原料ガスノズルを備え、前記原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
前記原料ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、を有し、
前記原料ガス供給系は、不活性ガスを供給する不活性ガス供給系を備え、
前記制御部は、前記原料ガスノズルから前記原料ガスを供給する処理以外の処理において、前記不活性ガスを前記原料ガスノズルに供給するように、前記不活性ガス供給系を制御することが可能なよう構成される請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記原料ガスノズルを備え、前記原料ガスを供給する原料ガス供給系と、
前記反応管内に前記原料ガスとは分子構造が異なる反応ガスを供給する反応ガスノズルを備える反応ガス供給系と、
前記原料ガス供給系と前記反応ガス供給系とを制御するよう構成される制御部と、を有し、
前記制御部は、前記基板が収容された前記反応管内に前記原料ガスノズルから前記原料ガスを供給する処理と、前記反応管内に前記反応ガスノズルから前記反応ガスを供給する処理と、を行い、前記基板上に膜を形成するよう前記原料ガス供給系と前記反応ガス供給系とを制御することが可能なよう構成されている請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記反応ガスノズルは、前記第1の部材より反射率が低く、かつ前記第1の部材より表面が滑らかな第3の部材で構成されている請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記反応ガスノズルは、前記第2の部材より前記反射率が低く、かつ前記第1の部材より表面が滑らかな第3の部材で構成されている請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記反応ガスノズルは、前記第1の部材で構成されている請求項7に記載の基板処理装置。
- 複数枚の基板が水平姿勢で垂直方向に多段に積載されるように収容される反応管内に設けられ、前記反応管を構成する第1の部材より赤外線に対する反射率が高く、内部に含まれる気泡により前記第1の部材より粗い表面を有する第2の部材で少なくとも一部が構成され、前記反応管内に原料ガスを供給する原料ガスノズルであって、
前記原料ガスノズルは、少なくとも前記基板が搭載される領域の一端側から他端側まで延在して設けられ、前記基板が搭載される領域の途中から下流側の領域は前記第2の部材で構成され、前記基板が搭載されている途中から上流側の領域は前記第1の部材で構成され、前記原料ガスノズルを構成する前記第1の部材及び前記第2の部材には、前記反応管の上部から下部にわたって前記反応管内に前記原料ガスを供給する複数の供給孔が設けられる、
原料ガスノズル。 - 第1の部材で構成され、基板を収容する反応管と、複数枚の前記基板を、水平姿勢で垂直方向に多段に積載可能な基板支持具と、前記反応管内に設けられ、前記第1の部材より赤外線の反射率が高く、内部に含まれる気泡により前記第1の部材より粗い表面を有する第2の部材で少なくとも一部が構成され、前記反応管内に原料ガスを供給する原料ガスノズルと、を有し、前記原料ガスノズルは、少なくとも前記基板が搭載される領域の一端側から他端側まで延在して設けられ、前記基板が搭載される領域の途中から下流側の領域は前記第2の部材で構成され、前記基板が搭載されている途中から上流側の領域は前記第1の部材で構成され、前記原料ガスノズルを構成する前記第1の部材及び前記第2の部材には、前記反応管の上部から下部にわたって前記反応管内に前記原料ガスを供給する複数の供給孔が設けられる基板処理装置の前記反応管内に前記基板を収容する工程と、
前記基板に対して、前記原料ガスノズルから前記原料ガスを供給する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 第1の部材で構成され、基板を収容する反応管と、複数枚の前記基板を、水平姿勢で垂直方向に多段に積載可能な基板支持具と、 前記反応管内に設けられ、前記第1の部材より赤外線の反射率が高く、内部に含まれる気泡により前記第1の部材より粗い表面を有する第2の部材で少なくとも一部が構成され、前記反応管内に原料ガスを供給する原料ガスノズルと、を有し、前記原料ガスノズルは、少なくとも前記基板が搭載される領域の一端側から他端側まで延在して設けられ、前記基板が搭載される領域の途中から下流側の領域は前記第2の部材で構成され、前記基板が搭載されている途中から上流側の領域は前記第1の部材で構成され、前記原料ガスノズルを構成する前記第1の部材及び前記第2の部材には、前記反応管の上部から下部にわたって前記反応管内に前記原料ガスを供給する複数の供給孔が設けられる基板処理装置の前記反応管内に前記基板を収容する手順と、
前記基板に対して、前記原料ガスノズルから前記原料ガスを供給する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
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