JP7061862B2 - シリコンウェーハ用リンス剤組成物 - Google Patents
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Description
前記水溶性高分子は、
前記水溶性高分子とシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、前記水溶性高分子の濃度が0.1質量%、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液(水分散液S)のゼータ電位Zと、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0のシリカ水分散液(水分散液S0)のゼータ電位Z0との差(Z-Z0)が、25mV以下となる水溶性高分子である、シリコンウェーハ用リンス剤組成物である。
前記水溶性高分子が、ポリグリセリン、ポリグリセリン誘導体、ポリグリシドール、ポリグリシドール誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、及びポリアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、シリコンウェーハ用リンス剤組成物である。
シリカ粒子と水溶性高分子Bと含窒素塩基性化合物と水系媒体とを含む研磨液組成物を用いて被研磨シリコンウェーハを研磨する研磨工程と、
研磨されたシリコンウェーハを本発明のリンス剤組成物を用いてリンスするリンス工程と、
リンスされたシリコンウェーハを洗浄する洗浄工程と、を含む。
尚、前記水溶性高分子Aと前記水溶性高分子Bは、同一であっても異なっていてもよい。
本発明のリンス剤組成物は、水溶性高分子Aと、水系媒体と、本発明の効果が妨げられない範囲で、任意成分とを含む。任意成分の詳細については、後述する。
水溶性高分子Aは、水分散液Sのゼータ電位Zと水分散液S0のゼータ電位Z0との差(Z-Z0)が、25mV以下となる性質を有する水溶性高分子である。ここで、水分散液Sは、水溶性高分子Aとシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、水溶性高分子Aの濃度が0.1質量%、シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液である。水分散液S0は、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0のシリカ水分散液である。ゼータ電位は、実施例に記載の方法により測定できる。水溶性高分子Aが2種以上の水溶性高分子からなる場合、2種以上の水溶性高分子の混合物が、差(Z-Z0)が25mV以下となる性質を有する。水溶性高分子Aが、2種以上の水溶性高分子の混合物である場合、「水溶性高分子Aの濃度が0.1質量%」である、ということは、水分散液Sにおける当該混合物の濃度が0.1質量%であること、換言すると、各水溶性高分子の水分散液Sにおける濃度の合計が0.1質量%であることを意味する。
本願において、ベタイン構造とは、正電荷と負電荷とを同一分子内に持ち、電荷が中和されている構造を示す。前記ベタイン構造は、前記正電荷と負電荷とを、好ましくは隣り合わない位置に持ち、そして、好ましくは1つ以上の原子を介する位置に持つ。
R1~R3:同一又は異なって、水素原子、メチル基、又はエチル基
R4:炭素数1以上4以下のアルキレン基、又は-Y1-OPO3 --Y2-
Y1、Y2:同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基
R5、R6:同一又は異なって、炭素数1以上4以下の炭化水素基
X1:O又はNR7
R7:水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基
X2:炭素数1以上4以下の炭化水素基、-R17SO3 -、又は-R18COO-
R17、R18:同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基、を示す。
ただし、X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、-R17SO3 -、又は-R18COO-であり、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、炭素数1以上4以下の炭化水素基である。
R8~R10:同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基
X3:O又はNR19
R19:水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基
R11:炭素数1以上22以下のアルキレン基(ただし、前記アルキレン基の水素原子は水酸基で置換されていてもよい。)又は-(AO)m-(ただし、AOは炭素数2以上4以下のアルキレンオキシ基、mは平均付加モル数で1以上150以下である。)
X4:水素原子、炭素数1以上4以下の炭化水素基(ただし、前記炭化水素基の水素原子は水酸基で置換されていてもよい。)、水酸基、N+R12R13R14又はNR15R16
R12~R16:同一又は異なって、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基、を示す。
水溶性高分子a2における構成単位Aと構成単位Bのモル比(構成単位A/構成単位B)は、LPDの低減の観点から、好ましくは10/90以上、より好ましくは20/80以上、更に好ましくは30/70以上であり、同様の観点から、好ましくは98/2以下、より好ましくは95/5以下である。
水溶性高分子a2は、本発明の効果を損なわない範囲で、構成単位A及び構成単位B以外の構成単位を含有してもよい。構成単位A及び構成単位B以外の構成単位としては、スチレン等の疎水性不飽和単量体に由来する構成単位が好ましい。
本発明のリンス剤組成物に含まれる水系媒体としては、イオン交換水や超純水等の水、又は水と溶媒の混合媒体等が挙げられる。上記溶媒としては、例えば、炭素数2以上4以下の多価アルコールが挙げられ、グリセリン又はプロピレングリコールが好ましい。水系媒体における水としては、イオン交換水又は超純水が好ましく、超純水がより好ましい。水系媒体が、水と溶媒の混合媒体である場合、混合媒体全体に対する水の割合は、経済性の観点から、90質量%以上が好ましく、92質量%以上がより好ましく、95質量%以上が更に好ましい。
本発明のリンス剤組成物には、本発明の効果が妨げられない範囲で、更に、pH調整剤、防腐剤、アルコール類、キレート剤、アニオン性界面活性剤、及びノニオン性界面活性剤から選ばれる少なくとも1種の任意成分が含まれてもよい。
pH調整剤としては、塩基性化合物、酸性化合物、及びこれらの塩等が挙げられる。前記酸性化合物の塩としては、好ましくは、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、及びアミン塩から選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくは、アンモニウム塩である。塩基性化合物が塩の形態を取る場合の対イオンとしては、好ましくは水酸化物イオン、塩化物イオン及びヨウ化物イオンから選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくは水酸化物イオン及び塩化物イオンから選ばれる少なくとも1種である。
塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N一メチルエタノールアミン、N-メチル-N,N一ジエタノ-ルアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、N,N-ジエチルエタノールアミン、N,N-ジブチルエタノールアミン、N-(β-アミノエチル)エタノ-ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、1-(2-アミノエチル)ピペラジン、N-メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウムが挙げられる。これらの塩基性化合物は2種以上を用いてもよい。塩基性化合物としては、シリコンウェーハのHazeの低減とLPDの低減の両立の観点、リンス剤組成物の保存安定性の向上の観点からアンモニアがより好ましい。
酸性化合物としては、硫酸、塩酸、硝酸又はリン酸等の無機酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸、グリコール酸、リンゴ酸、クエン酸又は安息香酸等の有機酸等が挙げられる。
防腐剤としては、フェノキシエタノール、ベンザルコニウムクロライド、ベンゼトニウムクロライド、1,2-ベンズイソチアゾリン-3-オン、(5-クロロ-)2-メチル-4-イソチアゾリン-3-オン、過酸化水素、又は次亜塩素酸塩等が挙げられる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、2-メチル-2-プロパノオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。本発明のリンス剤組成物におけるアルコール類の含有量は、0.01質量%~10質量%が好ましい。
キレート剤としては、1-ヒドロキシエタン1,1-ジホスホン酸、エチレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三酢酸ナトリウム、ニトリロ三酢酸アンモニウム、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム、トリエチレンテトラミン六酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸ナトリウム等が挙げられる。本発明のリンス剤組成物におけるキレート剤の含有量は、0.001~10質量%が好ましい。
アニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸石鹸、アルキルエーテルカルボン酸塩等のカルボン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩等のスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩等の硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル等のリン酸エステル塩などが挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレン(硬化)ヒマシ油等のポリエチレングリコール型と、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグリコシド等の多価アルコール型及び脂肪酸アルカノールアミド等が挙げられる。
本発明のリンス剤組成物は、例えば、水溶性高分子Aと、水系媒体と、必要に応じて任意成分とを公知の方法で配合する工程を含む製造方法によって製造できる。本願において「配合する」とは、水溶性高分子Aと必要に応じて任意成分を、同時に又は順次、水系媒体と混合することを含む。各成分の混合順序は、制限はない。
本発明のリンス剤組成物は、砥粒と水溶性高分子Bとを含む研磨液組成物を用いて研磨された後のシリコンウェーハの表面に残った残渣を除去するために用いられる。本発明の半導体基板の製造方法の一例は、砥粒を含む研磨液組成物を用いて、被研磨シリコンウェーハ(「被研磨基板」とも言う。)を研磨する研磨工程と、研磨後シリコンウェーハを、本発明のリンス剤組成物を用いてリンス処理するリンス工程と、前記リンス工程でリンスされたシリコンウェーハ(「リンス後シリコンウェーハ」とも言う。)を洗浄する洗浄工程と、を含む。半導体基板の一例は、例えば、シリコンウェーハであり、本発明の半導体基板の製造方法の一例は、シリコンウェーハの製造方法である。本発明の半導体基板の製造方法の他の一例は、本発明のシリコンウェーハの製造方法でシリコンウェーハを製造する工程を含む半導体基板の製造方法であり、当該工程は、研磨液組成物を用いて被研磨シリコンウェーハを研磨する研磨工程と、研磨されたシリコンウェーハを本発明のリンス剤組成物を用いてリンスするリンス工程と、リンスされたシリコンウェーハを洗浄する洗浄工程とを含む。
(1)水溶性高分子B
水溶性高分子Bは、水分散液sのゼータ電位zと水分散液s0のゼータ電位z0との差(z-z0)が15mV以上となる水溶性高分子である。ここで、水分散液sは、水溶性高分子Bとシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、水溶性高分子Bの濃度が0.01質量%、シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが10.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液である。水分散液s0は、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアとからなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが10.0のシリカ水分散液である。ゼータ電位z、z0は、実施例に記載の方法により測定できる。水溶性高分子Bが2種以上の水溶性高分子からなる場合、2種以上の水溶性高分子Bの混合物が、ゼータ電位差(z-z0)が15mV以上となる性質を有する。
研磨液組成物に含まれるシリカ粒子は、シリコンウェーハの表面平滑性を向上させる観点から、コロイダルシリカがより好ましく、アルカリ金属やアルカリ土類金属等によるシリコンウェーハの汚染を防止する観点から、アルコキシシランの加水分解物から得たものであることが好ましい。研磨液組成物に含まれるシリカ粒子の平均一次粒子径は、高研磨速度の確保の観点から、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上であり、そして、LPD低減の観点から、好ましくは50nm以下、より好ましくは45nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径は、BET(窒素吸着)法によって算出される比表面積S(m2/g)を用いて算出できる。
会合度=平均二次粒子径/平均一次粒子径
研磨液組成物に含まれる含窒素塩基性化合物は、高研磨速度の確保、及び表面粗さ(ヘイズ)及び表面欠陥(LPD)の低減の観点から、アミン化合物及びアンモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種類以上の含窒素塩基性化合物であり、例えば、アンモニア、水酸化アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N一メチルエタノールアミン、N-メチル-N,N一ジエタノ-ルアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン、N,N-ジエチルエタノールアミン、N,N-ジブチルエタノールアミン、N-(β-アミノエチル)エタノ-ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン・六水和物、無水ピペラジン、1-(2-アミノエチル)ピペラジン、N-メチルピペラジン、ジエチレントリアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、及びヒドロキシアミン等が挙げられる。中でも、アンモニア、アンモニアとヒドロキシアミンの混合物が好ましく、アンモニアがより好ましい。
研磨液組成物に含まれる水系媒体は、本発明のリンス剤組成物に含まれる水系媒体と同じでよい。研磨液組成物における水系媒体の含有量は、例えば、シリカ粒子、水溶性高分子B、含窒素塩基性化合物、及び後述の任意成分を除いた残余であってよい。
本発明のシリコンウェーハのリンス方法(以下、「本発明のリンス方法」ともいう。)は、本発明のリンス剤組成物を用いて、研磨後シリコンウェーハに対しリンス処理をするリンス工程を含む。本発明のリンス方法におけるリンス工程は、上記本発明のシリコンウェーハの製造方法、及び本発明の半導体基板の製造方法における、リンス工程と同様にして行える。本発明のリンス方法では、リンス工程において、本発明のリンス剤組成物を用いるので、研磨後シリコンウェーハ上の砥粒の残留量を顕著に低減することができ、加えて、砥粒の凝集も抑制できるので、リンスの後に行われるシリコンウェーハの洗浄の時間の短縮化とLPDの低減が行える。
前記水溶性高分子は、
前記水溶性高分子とシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記水溶性高分子の濃度が0.1質量%、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液(水分散液S)のゼータ電位Zと、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0のシリカ水分散液(水分散液S0)のゼータ電位Z0との差(Z-Z0)が、25mV以下となる水溶性高分子である、シリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[2] 水溶性高分子及び水系媒体を含むシリコンウェーハ用リンス剤組成物であって、
前記水溶性高分子が、ポリグリセリン、ポリグリセリン誘導体、ポリグリシドール、ポリグリシドール誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、及びポリアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種のを含む、シリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[3] 前記差(Z-Z0)は、好ましくは15mV以下、より好ましくは9mV以下、更に好ましくは7mV以下である、前記[1]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[4] 前記水溶性高分子が、
前記水分散液S中のシリカ粒子の二次粒径dと、前記水分散液S0中のシリカ粒子の二次粒径d0との比(d/d0)が、好ましくは1.35以下、より好ましくは1.17以下、更に好ましくは1.10以下、更により好ましくは1.08以下であり、そして、好ましくは1.00以上、より好ましくは1.02以上、更に好ましくは1.04以上、更により好ましくは1.05以上、となる水溶性高分子である、前記[1]又は[3]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[5] 前記水溶性高分子が、好ましくは、ポリグリセリン、ポリグリセリン誘導体、ポリグリシドール、ポリグリシドール誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、及びポリアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種である、前記[1]、[3]、及び[4]のうちのいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[6] 前記ポリグリセリン誘導体は、好ましくはポリグリセリンに官能基がエーテル結合又はエステル結合で付加したもの、より好ましくはポリグリセリンに官能基がエーテル結合で付加したものである、前記[2]又は[5]に記載の、シリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[7] ポリグリセリン誘導体が、好ましくはポリグリセリンのアルキルエーテルである、前記[5]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[8] 前記水溶性高分子は、好ましくは、ポリグリセリン、ポリグリセリンアルキルエーテル、ポリグリセリンジアルキルエーテル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレンオキサイド変性ポリビニルアルコール、スルホン酸変性ポリビニルアルコール、及びポリアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくは、ポリグリセリンアルキルエーテルである、前記[1]から[4]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[9] 水溶性高分子は、好ましくは、ポリグリセリンとポリグリセリンアルキルエーテルの両方を含んでいる、前記[1]から[4]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[10] ポリグリセリン誘導体の疎水基の炭素数は、好ましくは6以上、より好ましくは8以上であり、そして、好ましくは22以下、より好ましくは18以下である、前記[2]、[5]から[7]のうちのいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[11] 質量比(ポリグリセリン/ポリグリセリンアルキルエーテル)は、好ましくは0.5以上、より好ましくは1.0以上、更に好ましくは2.0以上であり、そして、好ましくは10以下、より好ましくは6.0以下、更に好ましくは5.0以下である、前記[9]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[12] 前記水溶性高分子の重量平均分子量は、好ましくは500以上、より好ましくは700以上、更に好ましくは900以上であり、そして、好ましくは1,500,000以下、より好ましくは500,000以下、更に好ましくは100,000以下、更により好ましくは25,000以下、更により好ましくは10,000以下である、前記[2]、[5]から[11]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[13] 前記水溶性高分子は、好ましくは5量体以上、より好ましくは10量体以上、更に好ましくは15量体以上であり、そして、好ましくは5,000量体以下、より好ましくは500量体以下、更に好ましくは200量体以下、更により好ましくは150量体以下、更により好ましくは100量体以下である、前記[2]、[5]から[12]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[14] リンス剤組成物における前記水溶性高分子の含有量は、好ましくは0.001質量%以上、より好ましくは0.015質量%以上、更に好ましくは0.020質量%以上、更により好ましくは0.025質量%以上、更により好ましくは0.03質量%以上であり、そして、好ましくは1.0質量%以下、より好ましくは0.7質量%以下、更に好ましくは0.4質量%以下、更により好ましくは0.1質量%以下、更により好ましくは0.08質量%以下である、前記[1]から[13]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[15] 前記水溶性高分子が、ポリグリセリン、ポリグリセリン誘導体、ポリグリシドール、ポリグリシドール誘導体、ポリビニルアルコール誘導体、及びポリアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種の水溶性高分子a1と、ベタイン構造を含む水溶性高分子a2との混合物である、前記[1]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[16] 前記水溶性高分子が、ポリグリセリンアルキルエーテルと、ベタイン構造を含む水溶性高分子a2との混合物である、前記[15]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[17] 前記差(Z-Z0)は、好ましくは15mV以下、より好ましくは12mV以下、更に好ましくは9mV以下である、前記[15]又は[16]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[18] 前記水溶性高分子が、
前記水分散液S中のシリカ粒子の二次粒径dと、前記水分散液S0中のシリカ粒子の二次粒径d0との比(d/d0)が、好ましくは1.35以下、より好ましくは1.34以下、更に好ましくは1.33以下、更により好ましくは1.32以下であり、そして、好ましくは1.00以上、より好ましくは1.25以上、更に好ましくは1.30以上、更により好ましくは1.31以上、となる水溶性高分子である、前記[15]から[17]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[19] 前記リンス剤組成物における前記水溶性高分子a2の含有量は、好ましくは0.00001質量%以上、より好ましくは0.00005質量%以上、更に好ましくは0.0001質量%以上であり、そして、好ましくは10質量%以下、より好ましくは5質量%以下、更に好ましくは1質量%以下である、前記[15]から[18]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[20] 前記水溶性高分子a1と前記水溶性高分子a2の質量比(水溶性高分子a1/水溶性高分子a2)が、好ましくは0.5以上、より好ましくは1以上、更に好ましくは2以上であり、そして、好ましくは500以下、より好ましくは200以下、更に好ましくは100以下である、前記[15]から[19]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[21] 前記水溶性高分子a2が、下記式(1)で表される構成単位Aを含む、前記[15]から[20]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
R1~R3:同一又は異なって、水素原子、メチル基、又はエチル基
R4:炭素数1以上4以下のアルキレン基、又は-Y1-OPO3 --Y2-
Y1、Y2:同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基
R5、R6:同一又は異なって、炭素数1以上4以下の炭化水素基
X1:O又はNR7
R7:水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基
X2:炭素数1以上4以下の炭化水素基、-R17SO3 -、又は-R18COO-
R17、R18:同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基、を示す。
ただし、X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、-R17SO3 -、又は-R18COO-であり、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、炭素数1以上4以下の炭化水素基である。
[22] 前記水溶性高分子a2が、下記式(2)で表される構成単位Bを含む、前記[21]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
R8~R10:同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基
X3:O又はNR19
R19:水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基
R11:炭素数1以上22以下のアルキレン基(ただし、前記アルキレン基の水素原子は水酸基で置換されていてもよい。)又は-(AO)m-(ただし、AOは炭素数2以上4以下のアルキレンオキシ基、mは平均付加モル数で1以上150以下である。)
X4:水素原子、炭素数1以上4以下の炭化水素基(ただし、前記炭化水素基の水素原子は水酸基で置換されていてもよい。)、水酸基、N+R12R13R14又はNR15R16
R12~R16:同一又は異なって、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基、を示す。
[23] 前記水溶性高分子a2における前記構成単位Aと前記構成単位Bのモル比(構成単位A/構成単位B)は、好ましくは10/90以上、より好ましくは20/80以上、更に好ましくは30/70以上であり、そして、好ましくは98/2以下、より好ましくは95/5以下である、前記[22]に記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[24]
塩基性化合物をさらに含む、前記[1]から[23]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[25] 前記リンス剤組成物の25℃におけるpHは、好ましくは2以上、より好ましくは2.5以上、より好ましくは3.0以上であり、そして、好ましくは12以下、より好ましくは11.5以下、更に好ましくは11.0以下である、前記[1]から[24]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[26]前記シリコンウェーハ用リンス剤組成物は、シリカ粒子と水溶性高分子と含む研磨液組成物を用いて研磨されたシリコンウェーハに対して使用されるシリコンウェーハ用リンス剤組成物であって、
前記水分散液Sと前記水分散液S0の調製に用いられるシリカ粒子が、前記研磨液組成物に含まれる前記シリカ粒子と同じものである、前記[1]、[3]から[25]のいずれかに記載のシリコンウェーハ用リンス剤組成物。
[27] 研磨されたシリコンウェーハを、前記[1]から[26]のいずれかに記載のリンス剤組成物を用いてリンスする工程を含む、シリコンウェーハのリンス方法。
[28] 研磨されたシリコンウェーハを、前記[1]から[26]のいずれかに記載のリンス剤組成物を用いてリンスする工程を含む、半導体基板の製造方法。
[29] シリカ粒子と水溶性高分子と含む研磨液組成物を用いて被研磨シリコンウェーハを研磨する研磨工程と、
研磨されたシリコンウェーハを前記[1]から[26]のいずれかに記載のリンス剤組成物を用いてリンスするリンス工程と、
リンスされたシリコンウェーハを洗浄する洗浄工程と、を含み、
前記水分散液Sと前記水分散液S0の調製に用いられるシリカ粒子が、前記研磨液組成物に含まれる前記シリカ粒子と同じものである、半導体基板の製造方法。
[30] 前記研磨工程は、好ましくはシリコン単結晶インゴットを薄円板状にスライスすることにより得られたシリコンウェーハを平面化する粗研磨工程又はラッピングされたシリコンウェーハをエッチングした後、シリコンウェーハ表面を鏡面化する仕上げ研磨工程、より好ましくは前記仕上げ研磨工程である、前記[29]に記載の半導体基板の製造方法。
[31] 前記[1]から[26]のいずれかに記載のリンス剤組成物に含まれる前記水溶性高分子を水溶性高分子Aと称することとすると、
シリカ粒子と水溶性高分子Bと含窒素塩基性化合物と水系媒体を含む研磨液組成物を用いて被研磨シリコンウェーハを研磨する研磨工程と、
研磨されたシリコンウェーハを前記[1]から[26]のいずれかに記載のリンス剤組成物を用いてリンス処理をするリンス工程と、
リンスされたシリコンウェーハを洗浄する洗浄工程と、を含む、シリコンウェーハの製造方法。
[32] 前記水溶性高分子Bが、
前記水溶性高分子とシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記水溶性高分子の濃度が0.01質量%、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが10.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液(水分散液s)のゼータ電位zと、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが10.0のシリカ水分散液(水分散液s0)のゼータ電位z0との差(z-z0)が、15mV以上となる水溶性高分子Bである、前記[31]に記載のシリコンウェーハの製造方法。
[33] 前記水溶性高分子Bが、
前記水分散液s中のシリカ粒子の二次粒径Dと、前記水分散液s0中のシリカ粒子の二次粒径D0との比(D/D0)が、1.10以上となる水溶性高分子である、前記[32]に記載のシリコンウェーハの製造方法。
[34] 前記水溶性高分子Bが、多糖類、アルキルアクリルアミド系ポリマー、ポリビニルアルコール、及びポリビニルアルコール誘導体(ただし、アニオン変性ポリビニルアルコールを除く。)からなる群から選ばれる少なくとも1種である、前記[31]から[33]のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法。
[35] 前記水溶性高分子Bがヒドロキシエチルセルロースであり、
前記水溶性高分子Aがポリグリセリン誘導体である、前記[31]から[34]のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法。
[36] 前記リンス工程において、前記リンス処理の前に、リンス液として水を用いる水リンス処理を行う、前記[31]から[35]のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法。
[37] 前記リンス工程におけるリンス処理を、研磨工程で用いられる研磨装置を用いて行う、前記[31]から[36]のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法。
[38] 前記[31]から[37]のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法でシリコンウェーハを製造する工程を含む半導体基板の製造方法。
(1)水分散液S0,S,s0,sのゼ-タ電位の測定方法
水分散液をキャピラリーセルDTS1070に入れ、Malvern社製「ゼータサイザーNano ZS」を用いて、以下の条件でゼータ電位の測定を行った。
試料: 屈折率:1.450 吸収率:0.010
分散媒: 粘度:0.8872cP、屈折率:1.330、誘電率:78.5
温度:25℃
シリカ粒子原液(扶桑化学社製「PL-3」)にイオン交換水を添加し、次いで、これに、25℃におけるpHが7.0になるように、塩酸水溶液又はアンモニア水溶液を添加して、シリカ粒子濃度が0.1質量%の水分散液S0を得た。
イオン交換水に、各水溶性高分子A、次いでシリカ粒子原液(扶桑化学社製「PL-3」)を添加した。その後、これに、25℃におけるpHが7.0になるように、塩酸水溶液又はアンモニア水溶液を添加して、水溶性高分子の濃度が0.1質量%、シリカ粒子の濃度が0.1質量%の水分散液Sを得た。
シリカ粒子原液(扶桑化学社製「PL-3」)にイオン交換水を添加し、次いで、これに、25℃におけるpHが10.0になるように、塩酸水溶液又はアンモニア水溶液を添加して、シリカ粒子濃度が0.1質量%の水分散液s0を得た。
イオン交換水に、各水溶性高分子B、次いでシリカ粒子原液(扶桑化学社製「PL-3」)を添加した。その後、これに、25℃におけるpHが10.0になるように、塩酸水溶液又はアンモニア水溶液を添加して、水溶性高分子の濃度が0.01質量%、シリカ粒子の濃度が0.1質量%の水分散液Sを得た。
シリカ水分散液S0,S,s0,sをDisposable Sizing Cuvette(ポリスチレン製 10mmセル)に下底からの高さ10mmまで入れ、Malvern社製「ゼータサイザーNano ZS」を用いて動的光散乱法にて測定し、Z平均粒子径の値をシリカ水分散液S0,S,s0,sの二次粒径d0,d,D0,Dとした。測定条件は以下に記す。
試料: 屈折率:1.450、吸収率:0.010
分散媒: 粘度:0.8872cP、屈折率:1.330
温度:25℃
リンス剤組成物の調製に用いた水溶性高分子A及び研磨液組成物の調製に用いた水溶性高分子Bの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法を下記の条件で適用して得たクロマトグラム中のピークに基づき算出した。
装置:HLC-8320 GPC(東ソー株式会社、検出器一体型)
カラム:GMPWXL+GMPWXL(アニオン)
溶離液:0.2Mリン酸バッファー/CH3CN=9/1
流量:0.5mL/min
カラム温度:40℃
検出器:RI 検出器
標準物質:重量平均分子量が既知の単分散ポリエチレングリコール
表1及び表2に記載の水溶性高分子A、イオン交換水を攪拌混合し、必要に応じて、塩酸水溶液又は28質量%アンモニア水(キシダ化学(株)試薬特級)を用いて、25℃におけるpHを7.0に調整し、実施例1~17、及び比較例1~5のリンス剤組成物(いずれも濃縮液)を得た。ただし、実施例9はpHが4.0となるように、実施例10はpHが10.0となるように調整し、比較例5はアンモニア濃度が5ppmとなるよう調製した。水溶性高分子、塩酸又はアンモニアを除いた残余はイオン交換水である。尚、表1における各成分の含有量は、濃縮液を20倍に希釈して得たリンス剤組成物についての値である。実施例18~27、比較例6のリンス剤組成物(いずれも濃縮液)は、いずれも25℃におけるpHを7.0であり、20倍に希釈したときに、水溶性高分子Aの含有量が0.05質量%となるように調整した。ただし、実施例25~27はポリグリセリンアルキルエーテル0.049質量%、ベタイン構造を有する水溶性高分子0.001質量%となるよう調製した。
A1:PGL 20PW(ポリグリセリン20量体):ダイセル社製
A2:PGL XPW(ポリグリセリン40量体):ダイセル社製
A3:PGL 100PW(ポリグリセリン100量体):ダイセル社製
A4:セルモリスB044(ポリグリセリン20量体ラウリルエーテル):ダイセル社製
A5:ポリアクリルアミド(Mw10,000):Polysciences社製
A6:ポリアクリルアミド(Mw600,000~1,000,000):Polysciences社製
A7:ゴーセランL-3266(Mw 23,000):日本合成化学工業社製
A8:コリコートIR(Mw 26,500):BASF社製
A9:Lipidure-HM(Mw100,000):日油社製
A10:Lipidure-PMB(Mw600,000、モル比(MPC/BMA)=
80:20):日油社製
A11:MPC/LMA(Mw100,000):花王社製
A51:Poly(N-isopropylacrylamide)(Mn20,000~40,000):ALDRICH社製
A52:SE400(Mw 250000):ダイセル社製
A53:PVA-117(Mw 75000):クラレ社製
A54:Poly(ethylene oxide) (Mw 200000):Polysciences社製
A55:n-Decylpentaoxyethylene:Bachem AG社製
A56:ポリヒドロキシエチルアクリルアミド(Mw700000)
内容量300mLの4つ口フラスコにエタノールを10.0g入れ、70℃まで昇温させた。そこにMPC(東京化成工業(株)製)5.0g、LMA(和光純薬工業(株)製)1.1g、エタノール10.0gを混合して得た溶液と、2,2'-アゾビス(イソブチロニトリル)(和光純薬工業(株)製)0.021g、エタノール4.4gを混合して得た溶液を別々に2時間かけて滴下して重合した。6時間熟成させた後に溶媒を減圧留去し水に置換することで、水溶性高分子A11(MPCとLMAの共重合体)を含有するポリマー水溶液を得た。水溶性高分子A11における構成単位のモル比(MPC/LMA)は80/20であり、水溶性高分子A11の重量平均分子量は100,000であった。
リンス剤組成物(濃縮液)をイオン交換水で20倍に希釈して得たリンス剤組成物を、リンス処理の開始直前にフィルター(アドバンテック株式会社製コンパクトカートリッジフィルター「MCP-LX-C10S」)にてろ過を行い、下記のリンス条件で下記のシリコンウェーハ(直径200mmのシリコン片面鏡面ウェーハ(伝導型:P、結晶方位:100、抵抗率0.1Ω・cm以上100Ω・cm未満))に対してリンス処理を行った。当該リンス処理に先立って、シリコンウェーハに対して市販の研磨剤組成物を用いてあらかじめ粗研磨を実施した。粗研磨を終了し仕上げ研磨に供したシリコンウェーハのHazeは、2.680(ppm)であった。Hazeは、KLA Tencor社製「Surfscan SP1-DLS」を用いて測定される暗視野ワイド斜入射チャンネル(DWO)での値である。その後、下記の条件で仕上げ研磨を行い、その直後に各リンス剤組成物を用いて下記の条件でリンス処理をした。
実施例1~17及び比較例1~5のリンス剤組成物を用いたリンス工程の前に行われる仕上げ研磨において使用した研磨剤組成物は、SE-400(ダイセル(株)社製、HEC、分子量25万)、PEG6000(和光純薬工業(株)、和光一級)、アンモニア水(キシダ化学(株)、試薬特級)、PL-3(扶桑化学工業(株)社製)、イオン交換水を攪拌混合して濃縮液を得、その後、濃縮液を使用直前にイオン交換水で40倍に希釈して得た。前記仕上げ研磨において使用した研磨剤組成物の組成は以下の通りである。
シリカ粒子(PL-3、平均一次粒子径35nm、平均二次粒子径69nm、会合度2.0):0.17質量%
HEC(SE-400):0.01質量%
アンモニア:0.01質量%
PEG(重量平均分子量6000);0.0008質量%
シリカ粒子(PL-3、平均一次粒子径35nm、平均二次粒子径69nm、会合度2.0):0.17質量%
水溶性高分子B:0.01質量%
アンモニア:0.01質量%
PEG(重量平均分子量6000);0.0008質量%
研磨機:岡本工作製片面8インチ研磨機「GRIND-X SPP600s」
研磨パッド:東レコーテックス社製スエードパッド(アスカー硬度:64,厚さ:1.37mm,ナップ長:450μm,開口径:60μm)
シリコンウェーハ研磨圧力:100g/cm2
定盤回転速度:60rpm
研磨時間:5分
研磨剤組成物の供給速度:150g/分
研磨剤組成物の温度:23℃
キャリア回転速度:60rpm
研磨機:岡本工作製片面8インチ研磨機「GRIND-X SPP600s」
研磨パッド:東レコーテックス社製スエードパッド(アスカー硬度:64,厚さ:1.37mm,ナップ長:450um,開口径:60um)
シリコンウェーハリンス圧力:60g/cm2
定盤回転速度:30rpm
リンス時間:10秒
リンス剤組成物の供給速度:1000 mL/分
リンス剤組成物の温度:23℃
キャリア回転速度:30rpm
リンス処理後、シリコンウェーハに対して、オゾン洗浄と希フッ酸洗浄を下記のとおり行った。オゾン洗浄では、20ppmのオゾンを含んだ水溶液をノズルから流速1L/minで600rpmで回転するシリコンウェーハの中央に向かって3分間噴射した。このときオゾン水の温度は常温とした。次に希フッ酸洗浄を行った。希フッ酸洗浄では、0.5質量%のフッ化水素アンモニウム(特級:ナカライテクス株式会社)を含んだ水溶液をノズルから流速1L/minで600rpmで回転するシリコンウェーハの中央に向かって5秒間噴射した。上記オゾン洗浄と希フッ酸洗浄を1セットとして計2セット行い、最後にスピン乾燥を行った。スピン乾燥では1500rpmでシリコンウェーハを回転させた。
洗浄後のシリコンウェーハ表面のLPDの評価には、表面粗さ測定装置「Surfscan SP1-DLS」(KLA Tencor社製)を用いて、シリコンウェーハ表面上の粒径が45nm以上のパーティクル数を測定することによって評価した。LPDの評価結果は、数値が小さいほど表面欠陥が少ないことを示す。LPDの測定は、各々2枚のシリコンウェーハに対して行い、各々平均値を表1及び表2に示した。
研磨速度は以下の方法で評価した。研磨前後の各シリコンウェーハの重さを精密天秤(Sartorius社製「BP-210S」)を用いて測定し、得られた重量差をシリコンウェーハの密度、面積及び研磨時間で除して、単位時間当たりの片面研磨速度を求めた。その結果は、比較例6の研磨速度を1.00とした相対値で、表2に示した。
Claims (8)
- 研磨されたシリコンウェーハをリンス剤組成物を用いてリンス処理をするリンス工程を含み、
前記リンス剤組成物は、水溶性高分子及び水系媒体を含み、
前記水溶性高分子は、
前記水溶性高分子とシリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記水溶性高分子の濃度が0.1質量%、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0の水溶性高分子含有シリカ水分散液(水分散液S)のゼータ電位Zと、シリカ粒子と水と必要に応じて塩酸又はアンモニアと、からなり、前記シリカ粒子の濃度が0.1質量%、25℃におけるpHが7.0のシリカ水分散液(水分散液S0)のゼータ電位Z0との差(Z-Z0)が、25mV以下となる水溶性高分子であり、
前記水溶性高分子は、ポリグリセリン、ポリグリセリン誘導体、ポリグリシドール、及びポリグリシドール誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種である、シリコンウェーハの製造方法。 - シリカ粒子とヒドロキシエチルセルロースと含窒素塩基性化合物と水系媒体を含む研磨液組成物を用いて被研磨シリコンウェーハを研磨する研磨工程と、
研磨されたシリコンウェーハを、ポリグリセリン誘導体及び水系媒体を含むリンス剤組成物を用いてリンス処理をするリンス工程と、
リンスされたシリコンウェーハを洗浄する洗浄工程と、を含む、シリコンウェーハの製造方法。 - 前記水溶性高分子が、
前記水分散液S中のシリカ粒子の二次粒径dと、前記水分散液S0中のシリカ粒子の二次粒径d0との比(d/d0)が、1.35以下となる水溶性高分子である、請求項1に記載のシリコンウェーハの製造方法。 - ポリグリセリン誘導体が、ポリグリセリンのアルキルエーテルである、請求項1から3のいずれかに記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記リンス剤組成物は、塩基性化合物をさらに含む、請求項1から4のいずれかの項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記リンス工程において、前記リンス処理の前に、リンス液として水を用いる水リンス処理を行う、請求項1から5のいずれかの項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 前記リンス工程におけるリンス処理を、研磨工程で用いられる研磨装置を用いて行う、請求項1から6のいずれかの項に記載のシリコンウェーハの製造方法。
- 請求項1から7のいずれかの項に記載のシリコンウェーハの製造方法でシリコンウェーハを製造する工程を含む半導体基板の製造方法。
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