JP7050080B2 - 基板の一部の領域を洗浄する装置および方法 - Google Patents
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Description
この装置は、例えば、洗浄すべき材料/パーティクルを軟化させ、または少なくとも部分的に溶解させる液体、あるいは材料/パーティクルの基板表面への粘着を減少させる液体と、研磨テープを使用した機械的拭き取り作用との組み合わせによって、洗浄すべき基板の表面部分を局所的に洗浄することができる。ここで、研磨という用語は、テープ材料がパーティクルを表面から除去するのに十分な研磨であるが、基板自体の表面を傷つける研磨ではない、という意味である。機械的な拭き取り作用を提供する突出するテープは、さらに、基板表面とクリーニングヘッドの下面との間の所定の隙間を形成する。この隙間は、第1溝および第2溝を通じて供給/除去される流体のための所定の流れ状態を可能とする。クリーニングヘッドの下面は、実質的に平面であってもよく、または、例えば、僅かに湾曲または傾斜してもよい。ただし、第1溝および第2溝と、上記下面の最下部との間の距離は、望ましい流れ状態を乱すほど大きくしすぎてはならない。
Claims (29)
- 基板、特に、フォトマスクの一部の領域を洗浄するための装置であって、
洗浄すべき基板領域の上方であって、かつ前記基板領域に近接するように配置された下面を有するクリーニングヘッドと、
研磨テープの一部が、前記下面に形成された中央開口から突き出すように、前記中央開口に研磨テープを供給するテープ供給機構と、
前記中央開口またはその近傍で前記研磨テープの裏側に液体を供給するように配置された出口を有する液体媒体導管と、を備え、
前記下面は、
該下面に形成された前記中央開口と、
前記中央開口を取り囲む第1環状溝と、
前記第1環状溝と前記中央開口との間に位置する少なくとも1つの第2溝と、を有しており、
前記第1環状溝は、外部供給源への接続を可能とする第1ポートに連通しており、
前記第2溝は、外部供給源への接続を可能とする第2ポートに連通している、装置。 - 前記下面は、実質的に平面である、請求項1に記載の装置。
- 少なくとも1つの前記第2溝は、前記中央開口の両側に配置された2つの溝である、請求項1に記載の装置。
- 前記第2溝は、前記中央開口を取り囲む環状の溝である、請求項1に記載の装置。
- 前記装置は、液体媒体源と真空源をさらに備えており、前記液体媒体源は前記第2ポートに接続され、前記真空源は前記第1ポートに接続されている、請求項1に記載の装置。
- 前記装置は、液体媒体源と真空源をさらに備えており、前記液体媒体源は前記第1ポートに接続され、前記真空源は前記第2ポートに接続されている、請求項1に記載の装置。
- 前記クリーニングヘッドは単一材料体を備えており、前記単一材料体は、その内部に形成された複数の内部通路を有し、前記複数の内部通路は、前記第1環状溝および前記第2溝を前記第1ポートおよび前記第2ポートにそれぞれ接続している、請求項1に記載の装置。
- 前記装置は、前記第1環状溝に向かって開口する複数の流れ開口の第1グループと、前記第2溝に向かって開口する複数の流れ開口の第2グループと、をさらに備え、
前記流れ開口の前記第1グループおよび前記第2グループは共通の通路に接続されており、前記共通の通路は、前記第1グループを前記第1ポートに接続し、かつ前記第2グループを前記第2ポートに接続している、請求項1に記載の装置。 - 前記第1環状溝および前記第2溝のうちの少なくとも一方は、前記溝を前記ポートに接続する通路に合流する、請求項1に記載の装置。
- 前記第1環状溝または前記第2溝を前記ポートに接続する前記複数の通路のうちの少なくとも1つの流れ断面は、前記ポートから前記溝に向かって減少する、請求項1に記載の装置。
- 前記装置は、アームと、移動機構と、をさらに備えており、
前記アームは、その第1端部で、前記移動機構に旋回可能に取り付けられており、
前記クリーニングヘッドは、前記アームの第2端部に取り付けられており、
前記移動機構は、前記アームを移動させることで、前記クリーニングヘッドを所定の経路に沿って移動させるように構成されている、請求項1に記載の装置。 - 前記移動機構は、直線移動機構であり、かつ前記アームの延びる方向と実質的に平行な経路に沿って前記アームを移動させるように構成されている、請求項11に記載の装置。
- 前記テープ供給機構は、前記クリーニングヘッドの前記下面の前記中央開口に向かう方向に前記テープを供給するように配置されており、前記クリーニングヘッドは前記移動機構の移動方向と一直線上にある、請求項11に記載の装置。
- 前記装置は、前記テープの供給速度が前記移動機構の移動と同期するように、前記テープ供給機構および前記移動機構を制御するコントローラをさらに備えている、請求項11に記載の装置。
- 前記テープ供給機構は、テープ供給リールと、テープ巻き取りリールと、少なくとも1つのガイド要素と、を備えており、
前記少なくとも1つのガイド要素は、前記テープを前記テープ供給リールから前記クリーニングヘッドの前記下面の前記中央開口に案内して、前記中央開口から所定の距離だけ突出させ、さらに前記テープを前記テープ巻き取りリールまで案内するように構成され、
前記テープ供給リールおよび前記テープ巻き取りリールは、前記クリーニングヘッドの前記下面に形成された前記中央開口の両側に配置されている、請求項11に記載の装置。 - 前記装置は、洗浄すべき基板の表面上の前記テープに一定の押付力を加えるように構成された釣り合い装置を備えており、
前記釣り合い装置は、前記テープ供給リールから前記テープ巻き取りリールまで移動された前記テープの量、および前記基板の表面に対する前記テープの押付力を検出するセンサのうちの少なくとも1つに基づいて、おもりを前記アームに沿って移動させるように構成されている、請求項15に記載の装置。 - 前記液体媒体導管は、前記クリーニングヘッドの前記下面の前記中央開口において、前記研磨テープを案内するためのガイド端部を有している、請求項1に記載の装置。
- 基板、特に、フォトマスクの一部の領域を洗浄する方法であって、
下面を有するクリーニングヘッドを用意し、前記下面は、該下面に形成された中央開口と、前記中央開口を取り囲む第1環状溝と、前記第1環状溝と前記中央開口との間に位置する少なくとも1つの第2溝と、を有しており、
研磨テープの一部が前記中央開口から突出するように、前記クリーニングヘッドの前記下面の前記中央開口に前記研磨テープを供給するテープ供給機構を用意し、
前記研磨テープの突出部分を洗浄すべき前記基板の領域に接触させて、前記クリーニングヘッドの前記下面を、洗浄すべき基板領域に近接させ、
前記中央開口から突出する、少なくとも前記研磨テープの部分が濡れるように、前記中央開口、または前記中央開口の近傍で、前記研磨テープの裏側に液体を供給し、
前記研磨テープと洗浄すべき基板の前記表面領域とを相対移動させ、
前記第1環状溝または前記少なくとも1つの第2溝を通じて、洗浄すべき前記基板領域に洗浄流体を供給し、
他方の溝、すなわち、前記少なくとも1つの第2溝または前記第1環状溝に吸引力を与える、方法。 - 前記突出量は、前記基板表面と前記クリーニングヘッドの前記下面との間の隙間に相当する、請求項18に記載の方法。
- 前記洗浄流体は、前記第2ポートを介して供給される液体媒体であり、前記吸引力は、前記第1ポートに与えられる、請求項18に記載の方法。
- 前記洗浄流体は、前記第1ポートを介して供給される液体媒体であり、前記吸引力は、前記第2ポートに与えられる、請求項18に記載の方法。
- 前記基板に作用する前記研磨テープの力は、0.1Nと5Nとの間、好ましくは、約1Nになるように制御される、請求項18に記載の方法。
- 前記研磨テープと洗浄すべき基板の前記表面領域とを相対移動させる工程は、テープ供給リールとテープ巻き取りリールとの間で前記テープを移動させること、および所定の経路に沿って前記クリーニングヘッドを移動させること、のうちの少なくとも一方を含んでいる、請求項18に記載の方法。
- 前記クリーニングヘッドは、前記テープの前記突出部分が延びる方向と一直線上に並ぶ直線経路に沿って移動される、請求項23に記載の方法。
- 前記テープおよび前記クリーニングヘッドの両方が移動され、前記テープを移動させるためのテープ供給機構および前記クリーニングヘッドを移動させるための移動機構は、前記テープの移動速度が前記クリーニングヘッドの移動速度と同期するように制御される、請求項23に記載の方法。
- テープ供給リールからテープ巻き取りリールまで移動される前記テープの量、および前記基板の表面に対する前記テープの押付力を検出するセンサのうちの少なくとも1つに基づいて、おもりを前記アームに沿って移動させることによって、洗浄すべき基板の表面上の前記テープに一定の押付力を加えるように構成された釣り合い装置を備えている、請求項18に記載の方法。
- 前記基板はフォトマスクであり、前記方法は、接着剤、特に、線状ペリクル接着剤を前記フォトマスクから除去するために使用される、請求項18に記載の方法。
- 前記方法は、請求項1に記載の装置を使用する、請求項18に記載の方法。
- 前記クリーニングヘッドの前記下面の前記中央開口において、前記中央開口またはその近傍で前記研磨テープの裏側に液体を供給するように配置された出口を有する液体媒体導管のガイド端部で前記研磨テープを案内させる、請求項18に記載の方法。
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