JP7027198B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、線幅が一種類のマイカヒータが熱処理プレートの全面にわたって埋設されているが、エッチングで形成された溝に這わせるようにマイカヒータが配置されているので、マイカヒータの線幅方向(ヒータ線の直径方向)では少なくとも線幅程度の間隔を空けて配置せざるを得ない。したがって、従来の熱処理プレートでは、線幅方向における温度分布の均一性が悪いという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に対して熱処理を行う基板処理装置において、上面に載置された基板を熱処理温度に加熱して熱処理を行う熱処理プレートと、平面視で前記熱処理プレートの全面にわたって設けられ、前記熱処理プレートを加熱する線状ヒータと、前記熱処理プレートを熱処理温度にするため、前記線状ヒータに電力を供給する温調制御器と、を備えているとともに、前記線状ヒータは、第1の線幅を有する第1の線状ヒータと、前記第1の線幅より狭い第2の線幅を有する第2の線状ヒータとを備え、前記温調制御器は、前記第1の線状ヒータ用の第1の温調制御器と、前記第2の線状ヒータ用の第2の温調制御器とを備え、前記熱処理プレートは、平面視において、前記第1の線状ヒータの間に前記第2の線状ヒータが配置されているとともに、前記第1の温調制御器は、前記熱処理温度を目標とする目標温度と、前記熱処理プレートの実温度との差分に応じて出力が調整され、前記第2の温調制御器は、前記熱処理温度を目標とする目標温度と、前記熱処理プレートの実温度との差分にかかわらず出力が一定であり、基板への熱処理に先立って、出力を一定に調整することを特徴とするものである。
W … 基板
3 … 下部ベースプレート
5 … 水冷式ベースプレート
7 … 熱処理プレート
9 … 可動天板ユニット
11 … 昇降ピンユニット
13 … 筐体
15 … シャッタユニット
29 … 昇降機構
33 … 可動天板
35 … 開口
37 … 駆動機構
41 … 昇降ピン
43 … 搬入出口
47 … シャッタ本体
51 … 排気管
61 … 制御部
71 … ヒータユニット
73 … 線状ヒータ
75 … ヒータプレート
77 … 第1の線状ヒータ
79 … 第2の線状ヒータ
r1~r6 … 角度領域
81 … 第1の温調制御器
83 … 第2の温調制御器
85 … 温度センサ
Claims (6)
- 基板に対して熱処理を行う基板処理装置において、
上面に載置された基板を熱処理温度に加熱して熱処理を行う熱処理プレートと、
平面視で前記熱処理プレートの全面にわたって設けられ、前記熱処理プレートを加熱する線状ヒータと、
前記熱処理プレートを熱処理温度にするため、前記線状ヒータに電力を供給する温調制御器と、
を備えているとともに、
前記線状ヒータは、第1の線幅を有する第1の線状ヒータと、前記第1の線幅より狭い第2の線幅を有する第2の線状ヒータとを備え、
前記温調制御器は、前記第1の線状ヒータ用の第1の温調制御器と、前記第2の線状ヒータ用の第2の温調制御器とを備え、
前記熱処理プレートは、平面視において、前記第1の線状ヒータの間に前記第2の線状ヒータが配置されているとともに、
前記第1の温調制御器は、前記熱処理温度を目標とする目標温度と、前記熱処理プレートの実温度との差分に応じて出力が調整され、
前記第2の温調制御器は、前記熱処理温度を目標とする目標温度と、前記熱処理プレートの実温度との差分にかかわらず出力が一定であり、
基板への熱処理に先立って、出力を一定に調整することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記第2の線状ヒータの線幅は、前記第1の線状ヒータの線幅の半分であり、
前記第2の線状ヒータは、前記第1の線状ヒータで挟まれた領域において、前記第1の線状ヒータの軸線に沿って、その軸線が少なくとも2本位置するように配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記熱処理プレートの下方に設けられ、前記第1の温調制御器及び前記第2の温調制御器が上面に設けられた下部ベースプレートと、
前記下部ベースプレートと前記熱処理プレートとの間に設けられ,内部に冷媒が流通可能な冷媒流路が形成されている水冷式ベースプレートとをさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1の温調制御器の出力は、前記第2の温調制御器の出力より大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第1の線状ヒータの始点と終点の間に前記第2の線状ヒータが配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置において、
前記熱処理プレートは、その外周縁側に前記第1の線状ヒータが通るように配置されていることを特徴とする基板処理装置。
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