JP7023818B2 - 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 - Google Patents
半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7023818B2 JP7023818B2 JP2018175276A JP2018175276A JP7023818B2 JP 7023818 B2 JP7023818 B2 JP 7023818B2 JP 2018175276 A JP2018175276 A JP 2018175276A JP 2018175276 A JP2018175276 A JP 2018175276A JP 7023818 B2 JP7023818 B2 JP 7023818B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor region
- type
- region
- semiconductor
- length
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 427
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 142
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 58
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 45
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004645 scanning capacitance microscopy Methods 0.000 description 3
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N nickel silicon Chemical compound [Si].[Ni] PEUPIGGLJVUNEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7801—DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
- H01L29/7802—Vertical DMOS transistors, i.e. VDMOS transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/08—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/0843—Source or drain regions of field-effect devices
- H01L29/0847—Source or drain regions of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate
- H01L29/0852—Source or drain regions of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate of DMOS transistors
- H01L29/0873—Drain regions
- H01L29/0878—Impurity concentration or distribution
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L29/1608—Silicon carbide
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
図1は、本実施形態の半導体装置の模式断面図である。本実施形態の半導体装置は、例えば、炭化珪素を用いたプレーナゲート型の縦型MOSFET100である。縦型MOSFET100は、電子をキャリアとするnチャネル型のMOSFETである。
本実施形態の半導体装置は、第6の半導体領域24と第2の面の間にn型の高濃度領域(第8の半導体領域)を有し、また第7の半導体領域25と第2の面の間にn型の高濃度領域(第9の半導体領域)を有すること以外は、第1の実施形態と同様である。以下、第1の実施形態と重複する内容については記述を省略する。
本実施形態の半導体装置は、低濃度領域25がなく、第6の半導体領域24と第2の面の間にn型の高濃度領域(第7の半導体領域)を有すること以外は、第1の実施形態と同様である。以下、第1の実施形態と重複する内容については記述を省略する。
本実施形態の半導体装置は、低濃度領域24および低濃度領域25がなく、ボディ領域28と第2の面の間にn型の低濃度領域(第6の半導体領域)36および、低濃度領域(第6の半導体領域)36と第2の面の間にn型の高濃度領域(第7の半導体領域)38を有すること以外は、第1の実施形態と同様である。以下、第1の実施形態と重複する内容については記述を省略する。
本実施形態のインバータ回路及び駆動装置は、第1の実施形態の半導体装置を備える駆動装置である。
本実施形態の車両は、第1の実施形態の半導体装置を備える車両である。
本実施形態の車両は、第1の実施形態の半導体装置を備える車両である。
本実施形態の昇降機は、第1の実施形態の半導体装置を備える昇降機である。
12 ソース電極
14 ドレイン電極
16 ゲート絶縁層
18 ゲート電極
24 低濃度領域(第6の半導体領域)
25 低濃度領域(第7の半導体領域)
26 ドリフト領域(第1の半導体領域)
27 高濃度領域(第8の半導体領域)
28 ボディ領域(第3の半導体領域)
29 高濃度領域(第9の半導体領域)
30 ソース領域(第4の半導体領域)
32 第5の半導体領域
33 高濃度領域(第7の半導体領域)
34 ドレイン領域(第2の半導体領域)
36 低濃度領域(第6の半導体領域)
38 高濃度領域(第7の半導体領域)
90 車輪
140 モーター
150 インバータ回路
150a、150b、150c 半導体モジュール
100、200、300、400 MOSFET(半導体装置)
610 かご
612 カウンターウエイト
614 ワイヤロープ
616 巻上機
1100 車両
1200 車両
1300 昇降機
P1 第1の面
P2 第2の面
Claims (20)
- 第1の面と第2の面とを有する炭化珪素層と、
前記第1の面に接するソース電極と、
前記第2の面に接するドレイン電極と、
前記ソース電極と前記炭化珪素層の間に位置するゲート電極と、
前記ゲート電極と前記第1の面との間に位置するゲート絶縁層と、を備え、
前記炭化珪素層は、
n型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ドレイン電極の間に位置するn型の第2の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第1の面との間に位置するp型の第3の半導体領域と、
前記第3の半導体領域と前記第1の面との間に位置し、前記ソース電極と接するn型の第4の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ゲート電極との間に位置し、前記第3の半導体領域の隣に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型不純物濃度が高いn型の第5の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域との間に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が低いn型の第6の半導体領域と、
前記第6の半導体領域と前記第1の半導体領域との間に位置し、前記第6の半導体領域と接し、前記第2の面から前記第1の面に向かう第1の方向と交わる第2の方向における前記第6の半導体領域の長さよりも、前記第2の方向における長さが短く、かつ前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が低いn型の第7の半導体領域と、
を含む、半導体装置。 - 前記第2の面と前記第6の半導体領域との距離は、前記第2の面と前記第5の半導体領域との距離よりも小さい請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2の面と前記第7の半導体領域との距離は、前記第2の面と前記第6の半導体領域との距離よりも小さい請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2の方向において、前記第4の半導体領域の長さは前記第3の半導体領域の長さよりも短く、前記第3の半導体領域は前記第4の半導体領域と前記第5の半導体領域の間に位置する請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第2の方向において、前記第6の半導体領域の長さは、前記第3の半導体領域の長さよりも短い請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第1の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の面から前記第6の半導体領域までの長さよりも短く、前記第2の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の方向における前記第3の半導体領域の長さの半分よりも長い請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第1の方向における前記第7の半導体領域の長さは、前記第2の面から前記第7の半導体領域までの長さよりも長く、前記第2の方向における前記第7の半導体領域の長さは、前記第2の方向における前記第3の半導体領域の長さの半分よりも短い請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第6の半導体領域および前記第7の半導体領域のn型不純物の濃度は、1×1013cm-3以上8×1015cm-3以下である請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第1の方向において、前記第6の半導体領域と前記第1の半導体領域との間に位置するn型の第8の半導体領域と、
前記第1の方向において、前記第7の半導体領域と前記第1の半導体領域との間に位置するn型の第9の半導体領域と、
をさらに備える請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第1の方向における前記第8の半導体領域の長さは、前記第1の方向における前記第6の半導体領域の長さよりも短く、前記第2の方向における、前記第8の半導体領域の長さと前記第7の半導体領域の長さを合わせた長さは前記第2の方向における前記第6の半導体領域の長さ以上である請求項9に記載の半導体装置。
- 前記第1の方向における前記第9の半導体領域の長さは、前記第1の方向における前記第7の半導体領域の長さよりも短く、前記第2の方向における前記第9の半導体領域の長さは前記第2の方向における前記第7の半導体領域の長さ以上である請求項9または請求項10に記載の半導体装置。
- 前記第8の半導体領域および前記第9の半導体領域のn型の不純物の濃度は、1×1016cm-3以上1×1020cm-3以下である請求項9ないし請求項11のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 第1の面と第2の面とを有する炭化珪素層と、
前記第1の面に接するソース電極と、
前記第2の面に接するドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極の間に位置するゲート電極と
前記ゲート電極と前記第1の面との間に位置するゲート絶縁層と、を備え、
前記炭化珪素層は、
n型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ドレイン電極の間に位置するn型の第2の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第1の面との間に位置するp型の第3の半導体領域と、
前記第3の半導体領域と前記第1の面との間に位置し、前記ソース電極と接するn型の第4の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ゲート電極との間に位置し、前記第3の半導体領域の隣に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型不純物濃度が高いn型の第5の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域との間に位置し、前記第2の面から前記第1の面に向かう第1の方向と交わる第2の方向における前記第3の半導体領域の長さよりも、前記第2の方向における長さが短く、かつ前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が低いn型の第6の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第6の半導体領域との間に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が高いn型の第7の半導体領域と、
を含み、
前記第1の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の面から前記第6の半導体領域までの長さよりも短く、前記第2の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の方向における前記第3の半導体領域の長さの半分よりも長い半導体装置。 - 第1の面と第2の面とを有する炭化珪素層と、
前記第1の面に接するソース電極と、
前記第2の面に接するドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極の間に位置するゲート電極と
前記ゲート電極と前記第1の面との間に位置するゲート絶縁層と、を備え、
前記炭化珪素層は、
n型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ドレイン電極の間に位置するn型の第2の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第1の面との間に位置するp型の第3の半導体領域と、
前記第3の半導体領域と前記第1の面との間に位置し、前記ソース電極と接するn型の第4の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ゲート電極との間に位置し、前記第3の半導体領域の隣に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型不純物濃度が高いn型の第5の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域との間に位置し、前記第2の面から前記第1の面に向かう第1の方向と交わる第2の方向における前記第3の半導体領域の長さよりも、前記第2の方向における長さが短く、かつ前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が低いn型の第6の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第6の半導体領域との間に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が高いn型の第7の半導体領域と、
を含み、
前記第1の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の面から前記第6の半導体領域までの長さよりも長く、前記第2の方向における前記第6の半導体領域の長さは、前記第2の方向における前記第3の半導体領域の長さの半分よりも短い半導体装置。 - 第1の面と第2の面とを有する炭化珪素層と、
前記第1の面に接するソース電極と、
前記第2の面に接するドレイン電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極の間に位置するゲート電極と
前記ゲート電極と前記第1の面との間に位置するゲート絶縁層と、を備え、
前記炭化珪素層は、
n型の第1の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ドレイン電極の間に位置するn型の第2の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第1の面との間に位置するp型の第3の半導体領域と、
前記第3の半導体領域と前記第1の面との間に位置し、前記ソース電極と接するn型の第4の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記ゲート電極との間に位置し、前記第3の半導体領域の隣に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型不純物濃度が高いn型の第5の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第3の半導体領域との間に位置し、前記第2の面から前記第1の面に向かう第1の方向と交わる第2の方向における前記第3の半導体領域の長さよりも、前記第2の方向における長さが短く、かつ前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が低いn型の第6の半導体領域と、
前記第1の半導体領域と前記第6の半導体領域との間に位置し、前記第1の半導体領域よりもn型の不純物濃度が高いn型の第7の半導体領域と、
を含み、
前記第1の方向における前記第7の半導体領域の長さは、前記第1の方向における前記第6の半導体領域の長さよりも短く、前記第2の方向における前記第7の半導体領域の長さは前記第2の方向における前記第6の半導体領域の長さ以上である半導体装置。 - 前記第7の半導体領域のn型の不純物の濃度は、1×1016cm-3以上1×1020cm-3以下である請求項13ないし請求項15のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 請求項1ないし請求項16いずれか1項記載の半導体装置を備えるインバータ回路。
- 請求項1ないし請求項16いずれか1項記載の半導体装置を備える駆動装置。
- 請求項1ないし請求項16いずれか1項記載の半導体装置を備える車両。
- 請求項1ないし請求項16いずれか1項記載の半導体装置を備える昇降機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018175276A JP7023818B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018175276A JP7023818B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020047782A JP2020047782A (ja) | 2020-03-26 |
JP7023818B2 true JP7023818B2 (ja) | 2022-02-22 |
Family
ID=69901654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018175276A Active JP7023818B2 (ja) | 2018-09-19 | 2018-09-19 | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7023818B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4333078A1 (en) | 2021-12-17 | 2024-03-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010232355A (ja) | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2014146738A (ja) | 2013-01-30 | 2014-08-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2018129420A (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 株式会社東芝 | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 |
-
2018
- 2018-09-19 JP JP2018175276A patent/JP7023818B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010232355A (ja) | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2014146738A (ja) | 2013-01-30 | 2014-08-14 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2018129420A (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 株式会社東芝 | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020047782A (ja) | 2020-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6871058B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2018014455A (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
US10199466B1 (en) | Semiconductor device, method for manufacturing semiconductor device, inverter circuit, driving device, vehicle, and elevator | |
JP6773629B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、昇降機、電源回路、及び、コンピュータ | |
JP6989537B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2021027138A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP6957536B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP7077171B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2022016286A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2021044518A (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2020017641A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2021150503A (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP7458257B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP7271484B2 (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP7278902B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP7023818B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、および昇降機 | |
JP2019114585A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
US10084046B1 (en) | Semiconductor device, inverter circuit, drive device, vehicle, and elevating machine | |
JP7278913B2 (ja) | 半導体装置、半導体装置の製造方法、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2022015728A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP2021093461A (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
JP6992021B2 (ja) | 半導体装置、インバータ回路、駆動装置、車両、及び、昇降機 | |
US11764276B2 (en) | Semiconductor device, inverter circuit, drive device, vehicle, and elevator | |
US20230317844A1 (en) | Semiconductor device, inverter circuit, drive device, vehicle, and elevator | |
US20230299192A1 (en) | Semiconductor device, semiconductor device manufacturing method, inverter circuit, drive device, vehicle, and elevator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20190125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210419 |
|
RD07 | Notification of extinguishment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427 Effective date: 20210618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210810 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211008 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220209 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7023818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |