JP7021803B2 - 有機電子材料のための新規置換ベンゾナフタチオフェン化合物 - Google Patents
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Description
このうち、C1-30アルキル、C2-30アルケニル、及びC2-30アルキニル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
このうち、C5-7シクロアルキル、C6-14アリール、及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
C1-30アルキル、C2-30アルケニル、及びC2-30アルキニルは、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C 6-14アリール及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
ここで、C1-30アルキル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C6-14アリール及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
ここで、5~14原子のヘテロアリール基は、1つ以上のC1-20アルキル置換基で置換され得る。
ここで、C1-30アルキル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C6-14アリール及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
ここで、5~14原子のヘテロアリール基は、1つ以上のC1-20アルキル置換基で置換され得る。
ここで、C1-30アルキル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C6-14アリール及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
ここで、5~14原子のヘテロアリール基は、C1-20アルキル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る。
ここで、C1-30アルキル、C2-30アルケニル、及びC2-30アルキニル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C5-7シクロアルキル、C6-14アリール、及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る)
で表される化合物は、以下の方法にて製造され得る。
ここで、C1-30アルキル、C2-30アルケニル、及びC2-30アルキニル基は、ハロゲン、フェニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得て、
C5-7シクロアルキル、C6-14アリール、及び5~14原子のヘテロアリール基は、ハロゲン、C1-20アルキル、C2-20アルケニル、C2-20アルキニル、O-C1-20アルキル、O-C2-20アルケニル、及びO-C2-20アルキニル基よりなる群から選ばれた1つ以上の置換基で置換され得る)
で表される化合物は、以下の方法にて製造され得る。
ベンゾチフェン(10)(10g、75mmol)及びAcOH(75mL)のCHCl3(75mL)の溶液に、NBS(16.6g、93mmol)を、0℃で15分間以上に亘って少しずつ添加した。反応混合物を一晩中常温で撹拌した。15.5時間後に、前記反応混合物をCHCl3で希釈した。有機層を、Na2S2O3(1回)、Na2CO3(1回)、及び水(1回)で洗浄し、引き続きNa2SO4で乾燥させた。粗物質をフラッシュカラムクロマトグラフィー(100%ヘキサン)にて精製し、溶媒除去後に、淡黄色オイルとして化合物9を得た。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.85(m,2H)、7.45(m,3H)
化合物9(9.6g、45mmol)の無水Et2O(150mL)の溶液に、n-BuLi(21.6mL、54mmol)を、-78℃で滴加した。反応混合物を2時間に亘って-78℃で撹拌した。2時間後、前記反応混合物に、p-アニスアルデヒド(5.5mL、45mmol)を、-78℃で滴加した。前記反応混合物を常温まで次第に昇温するように放置し、一晩中撹拌した。常温で一晩中撹拌した後、前記反応混合物をNH4Clでクエンチした。有機層をEt2O(3回)で抽出した。有機抽出物を、水(2回)及び塩水(brine)(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。淡黄色オイルとして粗化合物8を得て、別途の精製過程なしに次の段階にて使用した。
LiAlH4(1.9g、50mmol)及びAlCl3(6.7g、50mmol)の無水Et2O(140mL)の懸濁液に、エーテル(20mL)内の化合物8(12.9g、48mmol)を、常温で滴加した。反応混合物を40℃で加熱した。1.5時間後、前記反応混合物を常温まで冷却した。前記反応混合物を氷浴槽で0℃まで冷却し、水を滴加してクエンチした。引き続き前記反応混合物を50% H2SO4溶液に注いだ。有機層をEt2O(3回)で抽出した。有機抽出物を、水(2回)及び塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗物質をカラムクロマトグラフィー(50/50 DCM/ヘキサン)で精製し、白色固体(7.77g、64%)として化合物7を得た。
1H-NMR(400MHz,CD2Cl2):δ7.87(m,1H)、7.70(m,2H)、7.33(m,2H)、7.19(m,2H)、6.82(m,2H)、4.14(s,2H)、3.77(s,3H)
化合物7(5.8g、23mmol)のTHF(31mL)の溶液に、n-BuLi(11.0mL、27mmol)を、-78℃で滴加した。反応混合物を-78℃で1時間に亘って撹拌した。1時間後、前記反応混合物に、DMF(3.5mL、46mmol)を滴加した。前記反応混合物を常温まで次第に昇温するように放置し、一晩中撹拌した。18時間後、前記反応混合物をNH4Clでクエンチした。有機層をEt2O(3回)で抽出した。有機抽出物を、水(3回)及び塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗固体を濾過して、ヘキサンで洗浄し、引き続きMeOHで洗浄した。粗物質をカラムクロマトグラフィー(10/90 EA/ヘキサン)で精製し、黄色固体(6.44g、61%)として化合物6を得た。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ10.31(s,1H)、7.88(m,2H)、7.52(m,1H)、7.41(m,1H)、7.13(m,2H)、6.82(m,2H)、4.57(s,2H)、3.77(s,3H)
ポリリン酸(50g)をシリンジにて計量し、一口丸底フラスコに投入した。前記フラスコに、化合物6(4.0g、14mmol)を一度に投入した。反応混合物を50℃まで加熱した。2時間後、前記加熱を中断した。氷水を前記反応混合物に注いだ。有機層をEA(3回)で抽出した。有機抽出物を、水(2回)及びNaHCO3(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗物質をフラッシュカラムクロマトグラフィー(50/50 DCM/ヘキサン)で精製し、淡黄色固体(0.67g、18%)として化合物5を得た。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.55(s,1H)、8.25(m,2H)、7.95(m,1H)、7.85(m,1H)、7.50(m,2H)、7.20(m,2H)、3.97(s,3H)
無水DCM(12mL)内の4-メトキシ-ナフタ[2,3-b]ベンゾ[d]チオフェン(0.6g、2mmol)に、BBr3(3.7mL、4mmol)を、常温でゆっくりと滴加した。反応混合物を常温で一晩中撹拌した。24時間後、前記反応混合物を水及びNaHCO3で希釈した。有機層をEA(3回)で抽出した。有機抽出物を、水(2回)及び塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。淡黄色固体の粗物質(0.57g、95%)を、さらなる精製過程なしに次の段階にて使用した。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.56(s,1H)、8.23(m,1H)、8.14(m,1H)、7.98(m,1H)、7.83(m,1H)、7.50(m,2H)、7.20(s,1H)、7.17(s,1H)
無水DCM(23mL)内の化合物4(0.57g、2mmol)に、ピリジン(0.38mL、5mmol)を徐々に添加した。反応混合物を0℃まで冷却し、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(0.47mL、3mmol)を滴加した。前記反応混合物を常温まで昇温させた。1時間後、前記反応混合物を10% HClでクエンチした。有機層をEA(3回)で抽出した。有機抽出物を、10% HCl(1回)、水(2回)、及び塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗化合物3をフラッシュカラムクロマトグラフィー(20/80 EA/ヘキサン)で精製し、淡黄色固体(0.79g、96%)として化合物3を得た。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.69(s,1H)、8.37(s,1H)、8.31(d,1H,J=1.6Hz)、8.15(d,1H,J=9.2Hz)、7.89(d,1H,J=2.0Hz)、7.83(s,1H)、7.56(m,2H)、7.42(d,1H,J=9.2Hz)
化合物1aの製造
融点:120℃
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.59(s,1H)、8.26(m,2H)、7.98(m,1H)、7.84(m,1H)、7.69(s,1H)、7.50(m,2H)、7.40(m,1H)、2.81(m,2H)、1.76-1.67(m,6H)、1.41-1.1.30(m,6H)、0.90(m,3H)
AlCl3(9.4g、70mmol)の無水DCM(213mL)の懸濁液に、フタル酸無水物(3.5g、24mmol)を、常温で一度に添加した。前記懸濁液を常温で15分間撹拌した。引き続き前記懸濁液を0℃まで冷却し、DCM(10mL)内の化合物14(5.0g、24mmol)を滴加した。反応混合物を常温で一晩中撹拌した。15.5時間後、前記反応混合物を氷浴槽に注ぎ、10% HClで酸性化した。前記懸濁液をセライト(celite)で濾過し、DCMで洗浄した。濾過物を濃縮し、沈殿物(precipitate)を得た。引き続き粗固体をトルエンで再結晶させて、淡黄色固体(4.2g、50%)として化合物13を得た。
1H-NMR(400MHz,DMSO):δ8.39(s,1H)、7.99(m,1H)、7.89(m,1H)、7.75(m,2H)、7.57(m,1H)、7.23(m,1H)、7.15(m,1H)
無水1,2-ジクロロベンゼン(117mL)内の化合物13(4.2g、12mmol)及びPCl5(4.9g、23mmol)に、AlCl3(3.1g、23mmol)を、常温で少しずつ添加した。反応混合物を140℃で加熱した。4.5時間後、前記加熱を中断した。前記反応混合物をDCMで希釈し、氷上に注いだ。前記混合物をセライトで濾過し、DCMで洗浄した。濾過混合物をDCM(3回)で抽出し、Na2SO4で乾燥させた。粗混合物を蒸留して過量の1,2-ジクロロベンゼンを除去し、引き続きフラッシュカラムクロマトグラフィー(80/20 DCM/ヘキサン)で精製して、濃緑色固体(3.11g、78%)として化合物12を得た。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ8.78(m,1H)、8.26(m,2H)、8.12(s,1H)、7.77(m,2H)、7.72(m,1H)
AcOH(72mL)内の化合物12(2.5g、7mmol)に、HI(7.1mL、54mmol)及びH3PO2(1.6mL、14mmol)を、常温で滴加した。反応混合物を150℃で一晩中加熱した。26時間後、加熱を中断し、前記反応混合物を1% NaHSO3溶液(500mL)に注いだ。真空濾過により沈殿物を収集した。粗固体をカラムクロマトグラフィー(40/60 DCM/ヘキサン)で精製し、淡黄色固体(0.62g、27%)として化合物11を得た。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.62(s,1H)、8.31(s,1H)、8.15(d,1H,J=8.4Hz)、8.06(d,1H,J=7.6Hz)、8.00(s,1H)、7.93(d,1H,J=7.6Hz)、7.64(d,1H,J=8.4Hz)、7.57(m,2H)
化合物2aの製造
融点:100℃
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.58(s,1H)、8.29(s,1H)、8.18(s,1H)、8.05(m,1H)、7.91(m,1H)、7.66(s,1H)、7.53(m,2H)、7.33(m,1H)、2.77(m,2H)、1.73-1.60(m,4H)、1.41-1.1.27(m,4H)、0.90(m,3H)
無水THF(14mL)内の2-ヘキシルチオフェン(1.00g、6.0mmol)に、n-BuLi(4.1mL、ヘキサンにおいて1.l6M)を、-78℃で滴加した。反応混合物を、1.5時間に亘って常温まで徐々に加熱した。1.5時間後、前記反応混合物を-78℃まで冷却し、THF(2mL)内のMe3SnCl(1.53g、7.7mmol)を滴加した。前記反応混合物を常温まで昇温させた後、一晩中撹拌した。22時間後、前記反応混合物をNH4Clでクエンチした。有機層をEt2O(3回)で抽出した。有機抽出物を水(2回)及び塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗物質をクーゲルロール(kugelrohr)蒸留(150℃、3mmHg)で精製し、淡黄色オイル(0.67g、34%)として化合物20を得た。
1H-NMR(400MHz、CDCl3):δ7.01(s,1H)、6.90(s,1H)、2.86(m,2H)、1.68(m,2H)、1.36-1.30(m,6H)、0.90(m,3H)、0.34(m,9H)
反応フラスコ内の化合物11(0.53g、1.7mmol)及び化合物20(0.67g、2mmol)に、無水DMF(28mL)を、常温で添加した。反応混合物にPd(PPh3)4(195mg、0.17mmol)を、N2雰囲気で一度に添加した。前記反応混合物を18時間に亘って90℃まで加熱した。前記反応混合物を水でクエンチした。有機層をDCM(2回)で抽出した。有機抽出物を塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗物質をカラムクロマトグラフィー(5/95 DCM/ヘキサン)で精製し、白色固体(0.23g、33%)として化合物2bを得た。
1H-NMR(400MHz,d4-TCE):δ8.48(s,1H)、8.26(s,1H)、8.15(s,1H)、8.05(m,1H)、7.96(m,1H)、7.66(s,1H)、7.55(m,2H)、7.36(m,1H)、7.22(m,1H)、6.78(m,1H)、2.88(m,2H)、1.72-1.69(m,2H)、1.44-1.30(m,6H)、0.90(m,3H)
化合物1a、2a、又は2bをそれぞれ半導体材料として含む下部ゲート-上部接触有機電界効果トランジスタ(OFETs)の製造
30nm厚のAl2O3でコーティングされ、多量ドーピングされたシリコンウェハーを、2-プロパノールで完全に清浄化し、短時間の酸素プラズマ処理後、2-プロパノールにおける溶液から、デシルホスホン酸(化合物1aが半導体材料として使用されたとき)もしくはオクタデシルホスホン酸(化合物2a又は2bが半導体材料として使用されたとき)でそれぞれ官能化させた。前記多量ドーピングされたシリコンを、基材及びゲート電極として使用し、それぞれデシルホスホン酸又はオクタデシルホスホン酸で処理されたAl2O3は、ゲート誘電体として作用する。有機半導体材料1a、2a、又は2bを、それぞれ高真空(<10-5mbar)で熱蒸着させ、前記基材を、40℃(化合物1aが半導体材料として使用されたとき)もしくは30℃(化合物2a又は2bが半導体材料として使用されたとき)でそれぞれ維持した。ソース及びドレーン電極として50nm厚のAu層を、シャドーマスクを通じて蒸着させ、上部接触OFET素子を得た。チャネル幅(W)は、500μmであり、チャネル長さ(L)は、100μmであった。
μ={2L/(W×Ci)}×(dID 1/2/dVGS 1/2)2
ここで、Lはチャネル長さ、Wはチャネル幅、Cはゲート誘電体の単位面積当たりの容量、IDはドレーン-ソース電流、及びVGSはゲート-ソース電圧を示す。
無水DCM(108mL)内のAlCl3(3.75g、28mmol)の無水DCM(108mL)の懸濁液に、フタル酸無水物(2.09g、14mmol)を、常温で一度に添加した。前記懸濁液を15分間に亘って常温で撹拌した。引き続き前記懸濁液を90℃まで冷却し、DCM(10mL)内の5-ブロモ-ベンゾ[b]チオフェン(3.0g、14mmol)を滴加した。反応混合物を常温で夜中のうちに4時間に亘って撹拌した。前記反応混合物を氷水に注ぎ、10%炭酸ナトリウム水溶液でクエンチした。有機相を水(2回)で洗浄し、10%塩酸で処理した後、水及び塩水(2回)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を蒸発させた後に得られたオレンジ色固体を、トルエンから再結晶させて、黄色固体(1.83g、36%)として化合物18を得た。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ7.92(s,2H)、7.67(d,2H)、7.45(m,4H)
1,2-ジクロロベンゼン(37mL)内の2-(5-ブロモベンゾ[b]チオフェン-2-カルボニル)安息香酸(1.33g、3.7mmol)及びPCl5(1.53g、7.4mmol)に、AlCl3(1.0g、7.4mmol)を、常温で少しずつ添加した。反応混合物を140℃で加熱した。4.5時間後、前記加熱を中断した。前記反応混合物をDCMで希釈し、氷に注いだ。前記混合物をセライトで濾過し、DCMで洗浄した。濾過混合物をDCM(3回)で抽出し、Na2SO4で乾燥させた。引き続き粗混合物を蒸留して過量の1,2-ジクロロベンゼンを除去した後、フラッシュカラムクロマトグラフィー(50/50 DCM/ヘキサン)で精製し、黄色固体(1.09g、86%)として化合物17を得た。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ9.12(d,1H)、8.30-8.24(m,2H)、7.85-7.69(m,3H)、7.67(d,1H)
AcOH(14mL)内の2-ブロモ-6,11-ジオン-ナフタ[2,3-b]ベンゾ[d]チオフェン(0.47g、1.4mmol)に、HI(1.4mL、10mmol)及びH3PO2(0.3mL、2.7mmol)を、常温で滴加した。反応混合物を150℃で一晩中加熱した。24時間後、加熱を中断し、前記反応混合物を1% NaHSO3溶液(500mL)に注いだ。真空濾過にて沈殿物を収集した。粗固体をカラムクロマトグラフィー(17/83 DCM/ヘキサン)で精製し、白色固体(0.17g、37%)として化合物16を得た。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ8.60(s,1H)、8.40(d,1H)、8.29(s,1H)、8.03(d,1H)、7.92(d,1H)、7.69(d,1H)、7.60-7.51(m,3H)
無水THF(3mL)内の2-ブロモ-ナフタ[2,3-b]ベンゾ[d]チオフェン(0.17g、0.5mmol)及びNi(dppp)Cl2(15mg、0.03mmol)に、C6H13MgBr(1.0mL、0.8mmol)を、常温で滴加した。反応混合物を常温で一晩中撹拌した。前記反応混合物を水でクエンチした。有機層をエチルアセテート(2回)で抽出した。有機抽出物を水(1回)で、引き続き塩水(1回)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。粗物質をカラムクロマトグラフィー(10/90 DCM/ヘキサン)で精製し、黄色オイル(0.04g、23%)として化合物15を得た。
1 H-NMR:δ8.61(s,1H)、8.26(s,1H)、8.08(s,1H)、8.03(d,1H)、7.81(d,1H)、7.72(d,1H)、7.50(m,2H)、7.32(d,1H)、2.80(m,2H)、1.73(m,2H)、1.35(m,6H)、0.90(m,3H)
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CN112980461A (zh) * | 2019-12-16 | 2021-06-18 | 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 | 一种负介电的液晶化合物及其制备和应用 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120104067A (ko) | 2011-03-11 | 2012-09-20 | (주)씨에스엘쏠라 | 유기발광화합물 및 이를 이용한 유기 광소자 |
WO2017022983A1 (ko) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
US20170155050A1 (en) | 2015-11-30 | 2017-06-01 | Samsung Display Co., Ltd | Organic light-emitting device |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5070140A (en) | 1989-12-22 | 1991-12-03 | Basf Corporation | Copolymers of vinyl acetate and allyl glycidyl ether capped C12 -C.sub. |
JPH06313107A (ja) | 1993-05-06 | 1994-11-08 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
CN1791990B (zh) | 2003-05-20 | 2010-07-28 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 场效应晶体管布置和场效应晶体管布置的制造方法 |
JP2009069381A (ja) | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 電子線、x線またはeuv用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
CN102027612B (zh) | 2008-05-12 | 2013-11-13 | 东丽株式会社 | 碳纳米管复合体、有机半导体复合材料和场效应晶体管 |
JP2010100844A (ja) | 2008-09-29 | 2010-05-06 | Nippon Carbide Ind Co Inc | 光硬化性樹脂組成物 |
JP5498681B2 (ja) | 2008-10-02 | 2014-05-21 | 山本化成株式会社 | 有機トランジスタ |
CN101391992A (zh) * | 2008-11-10 | 2009-03-25 | 中国科学院化学研究所 | 取代的蒽苯并噻吩化合物及其制备方法与应用 |
JP5410107B2 (ja) * | 2009-02-02 | 2014-02-05 | 山本化成株式会社 | 有機トランジスタ |
JP2011012147A (ja) | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Nippon Carbide Ind Co Inc | 新規ビニルエーテル共重合体およびこれを用いた粘着剤組成物 |
EP2499171A4 (en) | 2009-11-12 | 2014-06-18 | Ndsu Res Foundation | POLYMERS DERIVED FROM PLANT OILS |
US8748873B2 (en) | 2011-01-21 | 2014-06-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electronic device with dual semiconducting layer |
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JP5867583B2 (ja) * | 2012-02-22 | 2016-02-24 | Jnc株式会社 | 新規なカルコゲン含有有機化合物およびその用途 |
KR101896008B1 (ko) | 2012-06-01 | 2018-09-06 | 덕산네오룩스 주식회사 | 벤조플루오렌을 포함하는 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
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WO2015076334A1 (ja) | 2013-11-21 | 2015-05-28 | 株式会社ニコン | トランジスタの製造方法およびトランジスタ |
WO2015137304A1 (ja) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Dic株式会社 | 化合物、並びにそれを含有する有機半導体材料、有機半導体インク及び有機トランジスタ |
KR101577896B1 (ko) | 2014-05-14 | 2015-12-16 | 동국대학교 산학협력단 | 탄소나노튜브 층간층, 이의 제조방법 및 이를 이용한 박막트랜지스터 |
US9985222B2 (en) * | 2014-06-23 | 2018-05-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organic compound, and organic thin film and electronic device |
KR102510666B1 (ko) * | 2015-08-28 | 2023-03-17 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 유기 화합물, 그 제조법, 그것을 함유하는 유기 반도체 재료 및 그것을 함유하는 유기 트랜지스터 |
CN105418357B (zh) | 2015-11-20 | 2017-10-24 | 江苏三月光电科技有限公司 | 一种苯并螺芴化合物及其在oled上的应用 |
CN105428401B (zh) | 2016-01-08 | 2017-02-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种碳纳米管薄膜晶体管及其制备方法 |
JP6643757B2 (ja) | 2016-02-08 | 2020-02-12 | 純一 竹谷 | 有機電界効果トランジスタ |
TWI784990B (zh) | 2016-12-06 | 2022-12-01 | 南韓商Clap股份有限公司 | 噻吩并-茚并-單體及聚合物 |
EP3697780B1 (en) | 2017-10-19 | 2022-07-27 | Clap Co., Ltd. | New substituted benzonaphthathiophene compounds for organic electronics |
WO2019101569A1 (en) | 2017-11-21 | 2019-05-31 | Basf Se | Sulfonium salts of dntt and related compounds as soluble photocleavable precursors for organic semiconductors for use in organic field-effect transistors |
US11296290B2 (en) | 2018-03-07 | 2022-04-05 | Clap Co., Ltd. | Patterning method for preparing top-gate, bottom-contact organic field effect transistors |
WO2019170719A1 (en) | 2018-03-08 | 2019-09-12 | Basf Se | Organic field effect transistor comprising semiconducting single-walled carbon nanotubes and organic semiconducting material |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120104067A (ko) | 2011-03-11 | 2012-09-20 | (주)씨에스엘쏠라 | 유기발광화합물 및 이를 이용한 유기 광소자 |
WO2017022983A1 (ko) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
US20170155050A1 (en) | 2015-11-30 | 2017-06-01 | Samsung Display Co., Ltd | Organic light-emitting device |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
Angewandte Chemie, International Edition,2014年,53(13),P.3484-3487 |
ChemistrySelect,2017年,2(8),P.2578-2582 |
Journal of Heterocyclic Chemistry,1969年,6(6),P.885-889 |
Journal of Heterocyclic Chemistry,1982年,19(4),P.865-869 |
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