JP6999526B2 - 液状材料塗布装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施の形態1に係る液状材料塗布装置200の模式的な斜視図である。図1を参照して、互いに直交するX軸方向(第1方向)およびY軸方向(第2方向)を有するXY座標平面を用いて、基板上に塗布される液状材料の目標位置を決定する。Z軸方向は、XY座標平面の法線方向である。点P0は、XYZ空間座標の原点である。
実施の形態1においては、塗布位置の位置ずれの補正処理において、基板に実際に塗布された液状材料の画像を用いて塗布位置の位置ずれを算出し、相対距離パラメータを補正する場合について説明した。しかし、液状材料塗布装置の起動からの経過時間と位置ずれとの対応関係に再現性がある場合には、経過時間と補正された相対距離パラメータの対応関係を参照することにより、液状材料の塗布を行なわずに位置ずれの補正処理を行なうことができる。再現性がある場合としては、たとえば、今回の動作時における液状材料塗布装置の周囲の温度が初回の動作時の液状材料塗布装置の周囲の温度とほぼ同じである場合を挙げることができる。
ΔYn=ΔYn-1+dYn …(2)
N1回目の補正処理以降の周期がW2に変更されたとする。回数nがN1以下である場合の経過時間Enは、以下の式(3)となる。回数nがN1より大きい場合の経過時間Enは、以下の式(4)となる。
En=W1・N1+W2・(n-N1) …(4)
第1動作モードより後の動作おいて液状材料塗布装置の周囲の温度が、第1動作モードにおける液状材料塗布装置の周囲の温度とほぼ同じである場合には、液状材料塗布装置を起動してから経過時間Enにおける位置ずれは、第1動作モードにおいて保存された(dXn,dYn)とほぼ同じになると想定される。そのため、第1動作モードより後の動作におけるn回目の補正処理によって、観察光学系6の光軸と塗布針との相対距離を表すパラメータは(ΔXn,ΔYn)に補正されると想定される。
Claims (6)
- 互いに直交する第1方向および第2方向を有する座標平面を用いて、基板上に塗布される液状材料の目標位置を決定する液状材料塗布装置であって、
前記座標平面の法線方向から前記基板を平面視した画像を取得する撮像部と、
前記撮像部に一体的に設置され、前記法線方向から前記基板に前記液状材料を塗布する塗布機構と、
前記基板に対して前記撮像部を相対的に移動させる移動部と、
前記撮像部と前記塗布機構との間の前記第1方向の第1相対距離および前記第2方向の第2相対距離をそれぞれ表す第1パラメータおよび第2パラメータを用いて、前記目標位置に前記液状材料が塗布されるように前記移動部を制御する制御装置とを備え、
前記第1相対距離および前記第2相対距離の少なくとも一方は、前記液状材料塗布装置の温度に応じて変化し、
前記制御装置は、前記画像から算出された前記目標位置と前記液状材料の塗布位置との位置ずれを用いて、前記第1相対距離および前記第2相対距離のうち前記液状材料塗布装置の温度に応じて変化した相対距離を表すパラメータを補正する補正処理を行ない、
前記制御装置は、前記位置ずれの大きさが第1しきい値より大きい場合、第1周期以下の時間間隔で前記補正処理を行ない、前記位置ずれの大きさが前記第1しきい値と等しい場合、前記第1周期以上の時間間隔で前記補正処理を行い、前記位置ずれの大きさが前記第1しきい値より小さい場合、第2周期以上の時間間隔で前記補正処理を行ない、
前記第2周期は、前記第1周期より長い、液状材料塗布装置。 - 前記制御装置は、前記位置ずれが前記第1しきい値より大きい場合、前記第1周期で前記補正処理を行ない、前記位置ずれが前記第1しきい値より小さい場合、前記第2周期で前記補正処理を行なう、請求項1に記載の液状材料塗布装置。
- 前記塗布機構は、塗布針を含み、前記塗布針を前記法線方向に移動させる過程で前記塗布針の先端部に前記液状材料を付着させ、前記先端部を前記基板に接触させることにより前記液状材料を前記基板に塗布する、請求項1または2に記載の液状材料塗布装置。
- 前記制御装置は、予め作成された、前記液状材料塗布装置の起動からの経過時間と前記経過時間における前記補正処理後の前記第1および第2パラメータとの対応関係を参照し、
前記制御装置は、n(自然数)回目の前記補正処理において前記第1および第2パラメータを、前記対応関係において、前記液状材料塗布装置の起動からn回目の前記補正処理までの特定経過時間に対応する前記第1および第2パラメータに補正する、請求項1~3のいずれか1項に記載の液状材料塗布装置。 - 前記液状材料塗布装置は、第1動作モードと第2動作モードとを含み、
前記制御装置は、
前記第1動作モードにおいて、前記補正処理を行いながら前記対応関係を作成し、
前記第2動作モードにおいて、n回目の前記補正処理において前記第1および第2パラメータを、前記対応関係において前記特定経過時間に対応する前記第1および第2パラメータに補正する、請求項4に記載の液状材料塗布装置。 - 前記対応関係は、前記経過時間における前記液状材料塗布装置の温度を含み、
前記制御装置は、前記対応関係において前記特定経過時間に対応する温度と、n回目の前記補正処理における温度との差の絶対値が第2しきい値より大きい場合、前記位置ずれを用いてn回目の前記補正処理を行なう、請求項4または5に記載の液状材料塗布装置。
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