JP6998744B2 - 部品内蔵基板 - Google Patents
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Description
以下、図面に基づいて、本発明における第1実施形態の部品内蔵基板について説明する。図1は、第1実施形態の部品内蔵基板1Aの断面図である。図2は、図1に示す領域Aの拡大図である。
図6は、本発明の第2実施形態における部品内蔵基板の断面図である。本実施形態では、中間基板20Bの構成が第1実施形態と相違するが、それ以外の構成は第1実施形態と同様である。以下に、第2実施形態における中間基板20Bについて第1実施形態との相違点についてのみ説明し、第1実施形態と同様の構成である部分については同一符号を付して説明を省略する。
図7は、本発明の第3実施形態における部品内蔵基板20Cの断面図である。本実施形態では、中間基板20Cの構成が第2実施形態と相違するが、それ以外の構成は第2実施形態と同様である。以下に、第3実施形態における中間基板20Cについて第2実施形態との相違点についてのみ説明し、第2実施形態と同様の構成である部分については同一符号を付して説明を省略する。
図9は、本発明の第5実施形態における部品内蔵基板20Dの断面図である。本実施形態では、中間基板20Dの構成が第3実施形態と相違するが、それ以外の構成は第3実施形態と同様である。以下に、第4実施形態における中間基板20Dについて第3実施形態との相違点についてのみ説明し、第3実施形態と同様の構成である部分については同一符号を付して説明を省略する。
図10は、本発明の第5実施形態における部品内蔵基板1Eの断面図である。本実施形態では、中間基板20Eの構成が第4実施形態と相違するが、それ以外の構成は第4実施形態と同様である。以下に、第5実施形態における中間基板20Eについて第4実施形態との相違点についてのみ説明し、第4実施形態と同様の構成である部分については同一符号を付して説明を省略する。
10a、10b…両面基板
11…樹脂基材
12…配線層
121…導体層
13…ビア
14…開口部
15…ビアホール
20A、20B、20C、20D、20E…中間基板
21…樹脂基材
22…配線層
221…導体層
23…有底ビア
231、232…有底ビア
24…貫通ビア
25…接着層
26、27…ビアホール
29…ビア
291…ビアホール
30a、30b、30c…片面基板
31…樹脂基材
32…配線層
321…導体層
331、332…ビア
34…接着層
35…ビアホール
40a、40b…電子部品
41、42…端子
Claims (5)
- 相互に積層された複数の単位基板と、複数の電子部品とを備えた部品内蔵基板であって、
前記複数の単位基板は、
前記電子部品がそれぞれ収容された一対の両面基板と、
前記一対の両面基板の間に介在する中間基板と、を含み、
それぞれの前記両面基板は、
第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層の両主面に形成された第1の配線層と、
前記第1の絶縁層を貫通しており、前記第1の配線層と電気的に接続された第1の貫通導電路と、を含み、
前記第1の絶縁層は、前記電子部品が収容された開口部を有し、
前記中間基板は、
第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第1の貫通導電路と電気的に接続された第2の貫通導電路と、
前記第2の絶縁層の少なくとも一方の主面に形成された第2の配線層と、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第2の絶縁層から露出する一端と、前記第2の配線層により閉塞された他端を有する第1の有底ビアと、
前記第2の絶縁層の両主面に設けられるとともに、前記第2の配線層を覆う第1の接着層と、を含み、
前記第2の貫通導電路は、前記第2の配線層により閉塞されておらず、前記第2の絶縁層から露出する両端を有し、
前記第1の接着層の絶縁破壊電圧は、0.5V/μmよりも大きく、
前記第1の接着層の厚さは4μm以上である部品内蔵基板。 - 相互に積層された複数の単位基板と、複数の電子部品とを備えた部品内蔵基板であって、
前記複数の単位基板は、
前記電子部品がそれぞれ収容された一対の両面基板と、
前記一対の両面基板の間に介在する中間基板と、を含み、
それぞれの前記両面基板は、
第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層の両主面に形成された第1の配線層と、
前記第1の絶縁層を貫通しており、前記第1の配線層と電気的に接続された第1の貫通導電路と、を含み、
前記第1の絶縁層は、前記電子部品が収容された開口部を有し、
前記中間基板は、
第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第1の貫通導電路と電気的に接続された第2の貫通導電路と、
前記第2の絶縁層の両主面に形成された第2の配線層と、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第2の絶縁層から露出する一端と、前記第2の配線層により閉塞された他端を有する第1の有底ビアと、
前記第2の絶縁層の両主面に設けられるとともに、前記第2の配線層を覆う第1の接着層と、を含み、
前記第2の貫通導電路は、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第2の絶縁層から露出する一端と、前記第2の配線層により閉塞された他端を有する第2の有底ビアと、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第2の絶縁層から露出する他端と、前記第2の配線層により閉塞された一端を有する第3の有底ビアと、
前記第2の絶縁層を貫通しており、前記第2の有底ビアの他端を閉塞する前記第2の配線層と前記第3の有底ビアの一端を閉塞する前記第2の配線層とに接続されたビアと、を有し、
前記第2の有底ビアの前記一端は、一方の前記両面基板の前記第1の配線層と電気的に接続されており、
前記第3の有底ビアの前記他端は、他方の前記両面基板の前記第1の配線層と電気的に接続されており、
前記第1の接着層の絶縁破壊電圧は、0.5V/μmよりも大きく、
前記第1の接着層の厚さは4μm以上である部品内蔵基板。 - 請求項1又は2に記載の部品内蔵基板であって、
前記複数の電子部品の少なくとも一部は、前記複数の単位基板の積層方向から見て、互いに重なっており、
前記第1の有底ビアは、前記複数の単位基板の積層方向から見て、前記複数の電子部品が重なった領域に位置する部品内蔵基板。 - 請求項3に記載の部品内蔵基板であって、
前記中間基板の前記第1の有底ビアが、前記電子部品の第1の端子と電気的に接続された部品内蔵基板。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載の部品内蔵基板であって、
前記複数の単位基板は、前記両面基板及び前記中間基板の少なくとも一方に積層された片面基板を含み、
前記片面基板は、
第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層の一方の主面に形成された第3の配線層と、
前記電子部品の第2の端子と前記第3の配線層を電気的に接続する端子接続部と、
前記第3の絶縁層と前記両面基板の間に介在し、前記第3の絶縁層と前記両面基板を接着する第2の接着層と、を含む部品内蔵基板。
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2017227748A JP6998744B2 (ja) | 2017-11-28 | 2017-11-28 | 部品内蔵基板 |
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Family Applications (1)
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JP2017227748A Active JP6998744B2 (ja) | 2017-11-28 | 2017-11-28 | 部品内蔵基板 |
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Citations (1)
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JP2015225936A (ja) | 2014-05-27 | 2015-12-14 | 株式会社フジクラ | 部品内蔵基板及びその製造方法並びに実装体 |
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Title |
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曽根康夫,外4名,日立エポキシ樹脂系絶縁材料の特性,日立評論,1962年08月,第44巻,第8号,p.95-103,https://www.hitachihyoron.com/jp/pdf/1962/08/1962_08_17.pdf |
池尻忠夫,エポキシ樹脂の電気伝導と絶縁破壊,材料,1972年04月,p.50-56,https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsms1963/21/223/21_223_302/_pdf |
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