JP6998499B1 - 磁気ディスク用アルミニウム合金基板、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板(以下、「アルミニウム合金基板」と記す場合がある)について説明する。アルミニウム合金基板は、所定の合金組成のアルミニウム合金を用いてアルミニウム合金板を作製し、これをディスクブランクに打ち抜き、更に加圧平坦化処理、ならびに、切削加工と研削加工を施して得られる。
アルミニウム合金板に用いるアルミニウム合金の組成及びその限定理由について、以下に詳細に説明する。
必須元素であるFeと、選択元素であるMn及びNiの少なくともいずれか一方を含有し、これら2種又は3種の元素の合計含有量を0.10~7.00mass%(以下、単に「%」と記す)に規定する。
アルミニウム合金には、選択元素として1.00%以下のCuが含まれていてもよい。Cuは、主として第二相粒子(Al-Cu系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の強度とヤング率を向上させる効果を発揮する。また、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させる。更に、ジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性を向上させる効果を発揮する。
アルミニウム合金中には、選択元素として0.70%以下のZnが含まれていてもよい。Znは、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性及び密着性を向上させる効果を発揮する。また、他の添加元素と第二相粒子を形成し、ヤング率と強度を向上させる効果を発揮する。
アルミニウム合金中には、選択元素として3.50%以下のMgが含まれていてもよい。Mgは、主としてマトリックスに固溶して存在し、一部は第二相粒子(Mg-Si系金属間化合物等)として存在する。これにより、アルミニウム合金基板の強度と剛性を向上させる効果を発揮する。
アルミニウム合金中には、選択元素として0.30%以下のCrが含まれていてもよい。Crの一部は、鋳造時に生じる微細な金属間化合物としてアルミニウム合金基板内に分散し、剛性が向上する。鋳造時に金属間化合物を形成しなかったCrはAlマトリクス中に固溶し、固溶強化によってアルミニウム合金基板の強度を向上させる作用を有する。
アルミニウム合金中には、選択元素として0.15%以下のZrが含まれていてもよい。Zrの一部は、鋳造時に生じる微細な金属間化合物としてアルミニウム合金基板内に分散し、剛性が向上する。鋳造時に金属間化合物を形成しなかったZrはAlマトリクス中に固溶し、固溶強化によってアルミニウム合金基板の強度を向上させる作用を有する。
アルミニウム合金中には、選択元素として14.00%以下のSiが含まれていてもよい。Siは、主に第二相粒子(Si粒子やAl-Fe-Si系金属間化合物等)として存在し、アルミニウム合金基板の剛性と強度を向上させる効果を発揮する。
Beは、Mgを含むアルミニウム合金を鋳造する際に、Mgの酸化を抑制することを目的として溶湯内に添加される元素である。また、アルミニウム合金中に含有されるBeを0.0015%以下とすることにより、磁気ディスクの製造過程においてアルミニウム合金基板の表面に形成されるZn皮膜をより緻密にするとともに、厚みのバラつきをより小さくすることができる。その結果、アルミニウム合金基板上に形成されるNi-P皮膜の平滑性をより高めることができる。
Sr、Na及びPは、アルミニウム合金基板中の第二相粒子(主にSi粒子)を微細化し、めっき性を改善する効果を発揮する。また、アルミニウム合金基板中の第二相粒子のサイズの不均一性を小さくし、耐衝撃特性のバラつきを低減させる効果も発揮する。そのため、アルミニウム合金中にそれぞれが、0.10%以下のSr、Na、Pが含まれていてもよい。
アルミニウム合金には、上述した必須成分及び選択成分以外の不可避的不純物となる元素が含まれていてもよい。これらの元素としては、Ti、B、Si、Gaなどが挙げられ、その含有量は、B以外の各元素については0.10%以下、合計で0.30%以下であれば本発明の作用効果を損なわない。なお、Bについては、その含有量は0.0015%以下であれば本発明の作用効果を損なわない。ここで、TiとBが含有される場合には、後述する「Ti-B系粒子」が形成される。上述のように本発明においては、Siを選択成分として積極的に添加することもできるが、添加しない場合もある。Siは、一般的な純度の地金はもとより、Alの純度が99.9%以上である高純度の地金にも不可避的不純物として含まれ、このように不可避的不純物として含まれる場合は、上述のように0.10%以下であれば本発明の作用効果を損なわない。
(1)鋳造工程
上記合金組成のアルミニウム材の原料を溶解し、溶湯を溶製してからこれを鋳造して鋳塊を作製する。鋳造としては、半連続鋳造(DC鋳造)法や金型鋳造法、連続鋳造(CC鋳造)法が用いられる。DC鋳造法においては、スパウトを通して注がれた溶湯が、ボトムブロックと、水冷されたモールドの壁、ならびに、インゴット(鋳塊)の外周部に直接吐出される冷却水で熱を奪われ、凝固し、鋳塊として下方に引き出される。金型鋳造法においては、鋳鉄等で作られた中空の金型に注がれた溶湯が、金型の壁に熱を奪われ、凝固し、鋳塊が出来上がるCC鋳造法では、一対のロール(又は、ベルトキャスタ、ブロックキャスタ)の間に鋳造ノズルを通して溶湯を供給し、ロールからの抜熱で薄板を直接鋳造する。
鋳塊を作製した後に熱間圧延を行うまでの間に、必要に応じて鋳塊の面削を行い、均質化処理を行ってもよい。均質化処理における保持温度は、例えば300~570℃の範囲から適宜設定することができる。また、均質化処理における保持時間は、例えば1~60時間の範囲から適宜設定することができる。
次に、鋳塊に熱間圧延を行い、熱間圧延板を作製する。熱間圧延の圧延条件は特に限定されるものではないが、例えば、開始温度を300~550℃の範囲とし、終了温度を220~390℃の範囲として熱間圧延を行うことができる。
熱間圧延を行った後、得られた熱間圧延板に1パス以上の冷間圧延を行うことにより、冷間圧延板を得ることができる。冷間圧延の圧延条件は特に限定されることはなく、所望するアルミニウム合金基板の厚み及び強度に応じて適宜設定すればよい。例えば、冷間圧延における総圧下率は20~95%とすることができる。また、冷間圧延板の厚みは、例えば、0.2~1.9mmの範囲から適宜設定することができる。
上記態様の製造方法においては、冷間圧延における1パス目の前及びパス間のうち少なくとも一方において、必要に応じて焼鈍処理を行ってもよい。焼鈍処理は、バッチ式熱処理炉を用いて行ってもよいし、連続式熱処理炉を用いて行ってもよい。バッチ式熱処理炉を用いる場合、焼鈍時の保持温度を250~430℃、保持時間を0.1~10時間の範囲とすることが好ましい。また、連続式熱処理炉を用いる場合、炉内の滞在時間を60秒以内、炉内の温度を400~600℃とすることが好ましい。このような条件で焼鈍処理を行うことにより、冷間圧延時の加工性を回復させることができる。
以上の工程によって、アルミニウム合金板が作製される。
上記のアルミニウム合金板からアルミニウム合金基板を作製するに当たっては、例えば、以下の方法を採用することができる。まず、アルミニウム合金板に打ち抜き加工を行って円環状を呈するディスクブランクを作製する。その後、ディスクブランクを厚み方向の両側から加圧しながら加熱して加圧焼鈍を行うことにより、ディスクブランクの歪みを低減させ、平坦度を向上させる。加圧焼鈍における保持温度と圧力は、例えば、250~430℃で1.0~3.0MPaの範囲から適宜選択することができる。また、加圧焼鈍における保持時間は、例えば、30分以上とすることができる。
以上の工程によって、アルミニウム合金基板が作製される。
アルミニウム合金基板表面には、アルミニウム合金板の製造工程やアルミニウム合金基板の製造工程において後述の周囲環境から混入する粒子が存在し、また、アルミニウム合金成分に由来する粒子が存在する。これらの粒子のうち、1μm以上の最長径を有する粗大なものは、磁気ディスクの製造過程においてアルミニウム合金基板表面から脱落すると、その表面に大きな窪みが形成され、また、切削加工や研削加工の際に表面から脱落したものは工具とアルミニウム合金基板との間で引きずられ、アルミニウム合金基板表面を傷付ける。このような窪みや傷が存在している状態で無電解Ni-Pめっき処理を実施すると、Ni-Pめっき皮膜の表面にめっきピットが形成され、Ni-Pめっき皮膜の平滑性が損なわれる。従って、このような粗大な粒子の生成を抑制する必要がある。本発明者らによって、このような粗大な粒子として、周囲環境から混入するSi-K-O系粒子と、アルミニウム合金成分に由来するTi-B系粒子が存在することが判明した。
アルミニウム合金基板表面には、Si-K(カリウム)-O(酸素)系粒子が分散している。アルミニウム合金基板表面に存在するSi-K-O系粒子のうち、1μm以上の最長径を有するSi-K-O系粒子の数は1個/6000mm2以下に規制される。
アルミニウム合金基板表面には、Ti-B系粒子が分散している。アルミニウム合金基板表面に存在するTi-B系粒子のうち、1μm以上の最長径を有するTi-B系粒子の数は1個/6000mm2以下に規制される。
次に、アルミニウム合金基板のヤング率について説明する。
本発明に係るアルミニウム合金基板では、ヤング率を72GPa以上とすることで剛性が向上し、耐衝撃性の向上を図ることができる。アルミニウム合金基板においては、便宜上、ヤング率を耐衝撃性向上効果の強弱を表す指標として用いている。
B-1.磁気ディスクの構成
上記アルミニウム合金基板を備えた磁気ディスクは、例えば、以下の構成を有する。即ち、磁気ディスクは、アルミニウム合金基板と、このアルミニウム合金基板表面を覆うNi-Pめっき皮膜と、このNi-Pめっき皮膜上に積層された磁性体層とを有する。
アルミニウム合金基板から磁気ディスクを製造するに当たっては、例えば、以下の方法を採用することができる。まず、アルミニウム合金基板に脱脂洗浄を行いアルミニウム合金基板の表面に付着した加工油等の油分を除去する。脱脂洗浄の後、必要に応じて、酸を用いてアルミニウム合金基板にエッチングを施してもよい。エッチングを行った場合には、エッチング後に、エッチングによって生じたスマットをアルミニウム合金基板から除去するデスマット処理を行なうことが好ましい。これらの処理における処理条件は、処理液の種類に応じて適宜設定することができる。
以下の方法により、本実施例において評価に使用するアルミニウム合金板を作製した。まず、溶解炉において、表1に示す化学成分を有する溶湯を調製した。なお、B2以外の合金は、B量が0.0015%以下(0.0000%ではない)のアルミニウム地金を使用し、B2の合金は、B量が0.0025%のアルミニウム地金を使用した。
上記アルミニウム合金板に打ち抜き加工を施し、外径98mm、内径24mmの円環状を呈するディスクブランクを得た。次いで、得られたディスクブランクを厚み方向の両側から加圧しつつ、表2に示す温度で3時間保持して加圧焼鈍を実施した。更に、加圧焼鈍後の各ディスクブランクの外周端面及び内周端面に切削加工を施し、外径97mmで内径25mmのディスクブランクに加工した。その後、各ディスクブランクの板面に、研削量が10μmとなるように研削加工を施した。以上により、アルミニウム合金基板の試験材を作製した。
上記各試験材におけるSi-K-O系粒子とTi-B系粒子の数の評価方法を以下に説明する。なお、合金No.B3はFe、Mn及びNi量の合計含有量が少な過ぎ強度が低過ぎたため、切削加工時等に変形して磁気ディスク用として使用できなかった。合金No.B4を用いた比較例4では、全ての評価を行わなかった。
上述の加圧焼鈍後のディスクブランクから、60mm×8mmのサンプルを採取し、圧延方向から0°方向のヤング率を測定した。ヤング率の測定は、日本テクノプラス株式会社製のJE-RT型の装置を用いて室温で行なった。なお、アルミニウム合金基板の試験材から上記サイズのサンプルを採取して、同様にヤング率を測定すべきところである。しかしながら、加圧焼鈍後のディスクブランクを用いて測定したヤング率が、アルミニウム合金基板のヤング率の測定値と一致したことが確認されているので、本実施例では前者の測定値を採用した。なお、磁気ディスクの無電解Ni-PめっきとZn皮膜を剥離したものから上記サイズのサンプルを採取して、上記と同様に測定したヤング率もまた、加圧焼鈍後のディスクブランク及びアルミニウム合金基板を用いて測定したヤング率と一致したことが確認されている。結果を表2に示す。
Claims (4)
- 必須元素であるFeと、選択元素であるMn及びNiの少なくともいずれか一方を含有し、これらFe、Mn及びNiの含有量の合計が0.10~7.00mass%の関係を有し、残部Al及び不可避的不純物からなるアルミニウム合金からなり、周囲環境から表面に付着した最長径1μm以上のSi-K-O系粒子の分布が1個以下/6000mm2であり、表面に存在する最長径1μm以上のTi-B系粒子の分布が1個以下/6000mm2であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- ヤング率が72GPa以上である、請求項1に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- 前記アルミニウム合金が、Cu:1.00mass%以下、Zn:0.70mass%以下、Mg:3.50mass%以下、Cr:0.30mass%以下、Zr:0.15mass%以下、Si:14.00mass%以下、Be:0.0015mass%以下、Sr:0.10mass%以下、Na:0.10mass%以下及びP:0.10mass%以下からなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1又は2に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板。
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金基板の表面に、無電解Ni-Pめっき処理層とその上の磁性体層が設けられていることを特徴とする磁気ディスク。
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