JP6996096B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6996096B2 JP6996096B2 JP2017053433A JP2017053433A JP6996096B2 JP 6996096 B2 JP6996096 B2 JP 6996096B2 JP 2017053433 A JP2017053433 A JP 2017053433A JP 2017053433 A JP2017053433 A JP 2017053433A JP 6996096 B2 JP6996096 B2 JP 6996096B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antenna
- plasma
- plasma processing
- vacuum vessel
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
本実施形態のプラズマ処理装置100は、誘導結合型のプラズマPを用いて基板Wに処理を施すものである。ここで、基板Wは、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)用の基板、フレキシブルディスプレイ用のフレキシブル基板等である。また、基板Wに施す処理は、例えば、プラズマCVD法による膜形成、エッチング、アッシング、スパッタリング等である。
このように構成した本実施形態のプラズマ処理装置100によれば、真空容器2内に位置するアンテナ部分において一対の側壁2a、2bに隣接する両側それぞれに誘電体部材15が設けられているので、アンテナ3と側壁2a、2bとの間の電界により加速される電子や荷電粒子の飛行が誘電体部材15に遮られて、その飛行距離が短くなる。その結果、電子や荷電粒子と原料ガスの分子との衝突回数が減ってプラズマPの生成が抑制され、アンテナ3の両端部におけるプラズマ密度の不均一を低減することができる。また、荷電粒子が飛行する途中に誘電体部材15に当たり、その表面が帯電すると、もう一方の電荷を持つ荷電粒子が引き込まれ易くなり、その表面で正・負の荷電粒子が再結合するため、プラズマ密度が減少する。その結果、アンテナ3の両端部で生成されたプラズマPを減少させることができ、これによっても、アンテナ3の両端部におけるプラズマ密度の不均一を低減することができる。さらに、側壁近傍でのプラズマPの発生が抑制されるので、側壁2a、2bへの熱負荷が低減されて、側壁2a、2bの安定化につながる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
W・・・基板
P・・・プラズマ
2・・・真空容器
2a、2b・・・側壁
3・・・アンテナ
15・・・誘電体部材
Claims (5)
- 真空容器内に配置されたアンテナに高周波電流を流すことによって前記真空容器内にプラズマを生成し、当該プラズマを用いて基板を処理するプラズマ処理装置であって、
前記アンテナは、少なくとも2つの導体要素と、互いに隣り合う前記導体要素の間に設けられて、それら導体要素を絶縁する絶縁要素と、互いに隣り合う前記導体要素と電気的に直列接続された容量素子とを備えるとともに、前記真空容器の相対向する側壁を電気的に絶縁された状態で貫通して支持されており、
前記真空容器内に位置するアンテナ部分において前記一対の側壁に隣接する両側それぞれに誘電体部材が電気的にフローティング状態で設けられているプラズマ処理装置。 - 前記誘電体部材は、前記アンテナを取り囲むように設けられている、請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体部材は、前記アンテナの周囲に設けられた筒状をなすものである、請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体部材は、前記側壁の内面に沿って配置された板状をなすものである、請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体部材は、その厚み方向に複数配置されている請求項1乃至4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053433A JP6996096B2 (ja) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053433A JP6996096B2 (ja) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018156864A JP2018156864A (ja) | 2018-10-04 |
JP6996096B2 true JP6996096B2 (ja) | 2022-01-17 |
Family
ID=63716729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017053433A Active JP6996096B2 (ja) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6996096B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022512764A (ja) * | 2018-10-18 | 2022-02-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 放射デバイス、基板上に材料を堆積させるための堆積装置、及び基板上に材料を堆積させるための方法 |
JP7202641B2 (ja) * | 2019-03-26 | 2023-01-12 | 株式会社プラズマイオンアシスト | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
JP2023022686A (ja) * | 2021-08-03 | 2023-02-15 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090079696A (ko) | 2008-01-18 | 2009-07-22 | 삼성전자주식회사 | 선형 안테나를 구비한 플라즈마 처리 장치 |
US20100301012A1 (en) | 2006-10-16 | 2010-12-02 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Device and method for producing microwave plasma with a high plasma density |
WO2013030953A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 株式会社イー・エム・ディー | プラズマ処理装置用アンテナ及び該アンテナを用いたプラズマ処理装置 |
KR20130040168A (ko) | 2012-12-13 | 2013-04-23 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 |
JP2016072168A (ja) | 2014-10-01 | 2016-05-09 | 日新電機株式会社 | プラズマ発生用のアンテナおよびそれを備えるプラズマ処理装置 |
JP2017033788A (ja) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11317299A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-11-16 | Toshiba Corp | 高周波放電方法及びその装置並びに高周波処理装置 |
-
2017
- 2017-03-17 JP JP2017053433A patent/JP6996096B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100301012A1 (en) | 2006-10-16 | 2010-12-02 | Iplas Innovative Plasma Systems Gmbh | Device and method for producing microwave plasma with a high plasma density |
KR20090079696A (ko) | 2008-01-18 | 2009-07-22 | 삼성전자주식회사 | 선형 안테나를 구비한 플라즈마 처리 장치 |
WO2013030953A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 株式会社イー・エム・ディー | プラズマ処理装置用アンテナ及び該アンテナを用いたプラズマ処理装置 |
KR20130040168A (ko) | 2012-12-13 | 2013-04-23 | 주식회사 윈텔 | 플라즈마 장치 및 기판 처리 장치 |
JP2016072168A (ja) | 2014-10-01 | 2016-05-09 | 日新電機株式会社 | プラズマ発生用のアンテナおよびそれを備えるプラズマ処理装置 |
JP2017033788A (ja) | 2015-08-03 | 2017-02-09 | 日新電機株式会社 | プラズマ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018156864A (ja) | 2018-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9947511B2 (en) | Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same | |
JP6931461B2 (ja) | プラズマ発生用のアンテナ、それを備えるプラズマ処理装置及びアンテナ構造 | |
KR20130122720A (ko) | 대칭적 피드 구조를 갖는 기판 지지체 | |
JP5733460B1 (ja) | プラズマ発生用のアンテナおよびそれを備えるプラズマ処理装置 | |
JP2007149639A (ja) | プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置 | |
US20120241090A1 (en) | Plasma processing apparatus | |
JP6996096B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
US11251020B2 (en) | Sputtering apparatus | |
JP2017033788A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5874853B1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2018133326A (ja) | プラズマ発生用のアンテナ及びそれを備えるプラズマ処理装置 | |
US11217429B2 (en) | Plasma processing device | |
KR102235221B1 (ko) | 플라즈마 발생용의 안테나, 그것을 구비하는 플라즈마 처리 장치 및 안테나 구조 | |
TWI708526B (zh) | 天線以及電漿處理裝置 | |
TWI770144B (zh) | 電漿處理裝置 | |
JP2017004602A (ja) | プラズマ発生用のアンテナおよびそれを備えるプラズマ処理装置 | |
WO2019181776A1 (ja) | アンテナ及びプラズマ処理装置 | |
JP2017010820A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP6603999B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
CN115053398B (zh) | 天线机构及等离子体处理装置 | |
JP7028001B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP2017228422A (ja) | プラズマ生成装置 | |
JP5874854B1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2018156763A (ja) | プラズマ発生用のアンテナ及びそれを備えるプラズマ処理装置 | |
JP2021018923A (ja) | プラズマ処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210316 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210512 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210714 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6996096 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |