JP2021018923A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
そのうえ、少なくとも一方のアンテナ及びコンデンサの間に絶縁部材を介在させるとともに、そのアンテナ及びコンデンサにインピーダンス素子を電気的に直列接続しているので、このインピーダンス素子を別のインピーダンスのものに取り換えることで、冷却液を停止させることなく、簡単にアンテナのインピーダンスを変更することが可能となる。
かかる構成によれば、可変コンデンサの静電容量を変えることでアンテナのリアクタンスを調整することができる。しかも、その静電容量の可変範囲では、アンテナを所望のリアクタンスに調整できない場合などには、インピーダンス素子を取り換えることで、アンテナのリアクタンスの調整可能範囲を変更することができ、アンテナのリアクタンスをより広い範囲で調整することができる。
このような構成であれば、フランジ部材に結線部材を設けてあるので、インピーダンス素子を可変コンデンサの構成要素に直接結線する場合に比べて、作業性が良い。
これならば、冷却液とは別の誘電体を準備することなくコンデンサを構成することができ、しかも冷却液として水を用いた場合には、水の比誘電率は約80(20℃)であり樹脂製の誘電体シートよりも大きいため、高電圧に耐えうるコンデンサとすることができる。
このような構成であれば、アンテナやコンデンサ周りに生じるデッドスペースに電流検出器を設けることで、装置をコンパクトに保ちつつアンテナに流れる電流を検出することができる。
このような構成であれば、アンテナのリアクタンスの調整可能範囲を2つのインピーダンス素子の巻き数や長さによって変更することができるので、1つのインピーダンス素子を用いる場合に比べて、装置をコンパクトに保ちつつ、リアクタンスの調整可能範囲を広げることができる。
さらに、2つのインピーダンス素子を取り外すことにより、2本のアンテナとコンデンサとをそれぞれ電気的に独立させることができるので、それらを個別にメンテナンスすることができ、メンテナンス性が良い。
本実施形態のプラズマ処理装置100は、図1に示すように、誘導結合型のプラズマを用いて基板Wに処理を施すものであり、より具体的には例えばプラズマCVD法による膜形成、エッチング、アッシング、スパッタリング等の処理を施すものである。基板Wは、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)用の基板、フレキシブルディスプレイ用のフレキシブル基板等である。なお、このプラズマ処理装置100は、プラズマCVD法によって膜形成を行う場合はプラズマCVD装置、エッチングを行う場合はプラズマエッチング装置、アッシングを行う場合はプラズマアッシング装置、スパッタリングを行う場合はプラズマスパッタリング装置とも呼ばれる。
次に接続導体12について、図3〜図6を参照して詳細に説明する。なお、図3及び図4などにおいて一部のシール部材などは記載を省略している。
このように構成された本実施形態のプラズマ処理装置100によれば、図8に示すように、例えばインピーダンス素子30のリアクタンスが0jΩである場合(言い換えれば、インピーダンス素子30の代わりにリアクタンスが0jΩの導線によって第1アンテナ3Aと可変コンデンサ13とを電気的に接続した場合)と、0よりも大きい所定のリアクタンスを有するインピーダンス素子30を取り付けた場合とでは、可変コンデンサ13の回転角度それぞれにおいて、アンテナ3A、3Bのリアクタンスを増大させることができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
この場合、他方のアンテナ3Bが機械的に接続される第2の接続部材15を例えば樹脂等の絶縁材料から形成することで絶縁部材20とすれば良い。また、双方のインピーダンス素子30、31としては、種々の巻き数や長さのものを適宜選択することができ、互いに異なるインピーダンスでも良いし、互いに等しいインピーダンスであっても良い。
さらに、2つのインピーダンス素子30、31を取り外すことにより、2本のアンテナ3A、3Bと可変コンデンサ13とをそれぞれ電気的に独立させることができるので、これらを個別にメンテナンスすることができ、メンテナンス性が良い。
W ・・・基板
P ・・・誘導結合型プラズマ
IR ・・・高周波電流
CL ・・・冷却液(液体の誘電体)
2 ・・・真空容器
3 ・・・アンテナ
13 ・・・可変コンデンサ
14 ・・・第1の接続部材
15 ・・・第2の接続部材
16 ・・・第1の固定電極
17 ・・・第2の固定電極
18 ・・・可動電極
20 ・・・絶縁部材
30 ・・・インピーダンス素子
41 ・・・第1結線部材
42 ・・・第2結線部材
Claims (6)
- 高周波電源と、前記高周波電源から高周波電流が供給される少なくも2本の直列接続されたアンテナと、これら2本のアンテナの間に介在するコンデンサとを備え、前記アンテナの内部を流れる冷却液が、前記コンデンサの冷却に兼用されているプラズマ処理装置において、
少なくとも一方の前記アンテナ及び前記コンデンサの間に介在する絶縁部材と、
前記一方のアンテナ及び前記コンデンサに電気的に直列接続されたインピーダンス素子とをさらに備える、プラズマ処理装置。 - 前記冷却液が、前記コンデンサの誘電体である、請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記コンデンサが、静電容量を可変に構成された可変コンデンサである、請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- 前記可変コンデンサが、
前記冷却液の導入ポート及び導出ポートが形成された収容容器と、
前記収容容器に収容された固定電極と、
前記固定電極に対して移動する可動電極とを備えており、
前記固定電極が、前記収容容器の前記導入ポート又は前記導出ポートに設けられたフランジ部材と、前記フランジ部材に支持された固定金属板とを有し、
前記フランジ部材に、前記インピーダンス素子を前記可変コンデンサに結線するための結線部材が設けられている、請求項3記載のプラズマ処理装置。 - 他方の前記アンテナ及び前記コンデンサが、導電性の接続部材を介して接続されており、
前記他方のアンテナにおける前記接続部材側に電流検出器が設けられている、請求項1乃至4のうち何れか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 他方の前記アンテナ及び前記コンデンサの間に介在する第2の絶縁部材と、
前記他方のアンテナ及び前記コンデンサに電気的に接続された第2のインピーダンス素子とをさらに備える、請求項1乃至4のうち何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
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