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Abstract
本発明に係る表示装置は、表示パネルと、前記表示パネル上に配置されるカバー部材と、を備え、前記カバー部材は、第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、を備え、前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい。
Description
本発明は、表示装置、これに設けられるカバー部材、及びカバー部材の製造方法に関する。
特許文献１には、車載用の表示装置が開示されている。この表示装置では、表示パネルの表面にカバー部材が固定されており、これによって表示パネルを保護している。
ところで、カバー部材は、表示パネルを保護するために設けられているが、外部から衝撃を受けたときの耐衝撃性については、さらなる改良の余地があり、耐衝撃性の高いカバー部材が要望されていた。本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、耐衝撃性を向上することができる表示装置、及びこれに設けられるカバー部材を提供することを目的とする。
項１．表示パネルと、
前記表示パネル上に配置されるカバー部材と、
を備え、
前記カバー部材は、
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、表示装置。
前記表示パネル上に配置されるカバー部材と、
を備え、
前記カバー部材は、
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、表示装置。
項２．前記ガラス板は、フロート法により製造され、前記第１面の酸化スズ濃度が、前記第２面よりも小さい、項１に記載の表示装置。
項３．前記光学層は、有機無機複合膜である、項１または２に記載の表示装置。
項４．前記光学層は、少なくともマトリクスと粒子とを含有し、
前記光学層における前記第２面とは反対側の表面は、前記粒子によって凹凸が形成されている、項１から３のいずれかに記載の表示装置。
前記光学層における前記第２面とは反対側の表面は、前記粒子によって凹凸が形成されている、項１から３のいずれかに記載の表示装置。
項５．前記光学層に、当該膜の厚み方向に前記粒子が積み重なっている第１領域と、前記第１領域を囲む又は前記第１領域により囲まれる谷状の第２領域とが存在する、請求項４に記載の表示装置。
項６．前記第１領域は台地状の領域である、請求項５に記載の表示装置。
項７．前記第２領域は、前記粒子が積み重なっていないか又は前記粒子が存在しない部分を含む、請求項５または６に記載の表示装置。
項８．前記第１領域の幅が７．７μｍ以上、前記第２領域の幅が７μｍ以上である、請求項５から７のいずれかに記載の表示装置。
項９．前記第１領域の幅が１０μｍ以上、前記第２領域の幅が１０μｍ以上である、請求項５から７のいずれかに記載の表示装置。
項１０．前記粒子は、平板状粒子により実質的に構成され、
前記平板状粒子は、厚みが０．３ｎｍ～３ｎｍの範囲にあり、かつ主面の平均径が１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にあり、
前記平板状粒子の主面が前記ガラス板の第２面と略平行に配置されている、項４に記載の表示装置。
前記平板状粒子は、厚みが０．３ｎｍ～３ｎｍの範囲にあり、かつ主面の平均径が１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にあり、
前記平板状粒子の主面が前記ガラス板の第２面と略平行に配置されている、項４に記載の表示装置。
項１１．前記光学層には、当該光学層の厚み方向に前記粒子が積み重なっている領域と、前記粒子が積み重なっていないか又は前記粒子が存在しない領域とが存在する、項４に記載の表示装置。
項１２．前記ガラス板の第２面から測定した前記光学層の最高部と最低部との差分が前記粒子の平均粒径の３倍以上である、項１１に記載の表示装置。
項１３．ＩＳＯ２５１７８に定めるＳｍｒ１が１０～３０％である、項１１または１２に記載の表示装置。
項１４．ＩＳＯ２５１７８に定める負荷面積比率２０％における表面高さＢＨ２０が０．０４μｍ～０．５μｍの範囲にある、項１１から１３のいずれかに記載の表示装置。
項１５．ＩＳＯ２５１７８に定める負荷面積比率８０％における表面高さＢＨ８０が－０．３μｍ～０μｍの範囲にある、請求項１１から１４のいずれかに記載の表示装置。
項１６．前記光学層の前記表面のＲｓｍが０μｍを超え３５μｍ以下である、項１から１５のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線要素の平均長さである。
ただし、前記Ｒｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線要素の平均長さである。
項１７．前記光学層の前記表面のＲａが２０ｎｍ～１２０ｎｍの範囲にある、項１から１６のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。
項１８．前記ガラス板の第２面のＲａが１０ｎｍ以下である、項１から１７のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。
項１９．前記マトリクスは、酸化シリコンを主成分としている、項１から１８のいずれかに記載の表示装置。
項２０．前記ガラス板の厚みは、０．５～３ｍｍである、項１から１９のいずれかに記載の表示装置。
項２１．表示パネルを有する表示装置に設けられる、カバー部材であって、
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、カバーガラス。
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、カバーガラス。
項２２．フロート法により製造され、第１面、及び前記第１面よりも酸化スズ濃度が高い第２面を有する、ガラス板を準備するステップと、
前記ガラス板の第２面に光学層を積層するステップと、
化学強化を施すことで、前記ガラス板の第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）を、前記第２面よりも大きくするステップと、
を備え、
前記光学層が外部を向くように使用される、カバー部材の製造方法。
前記ガラス板の第２面に光学層を積層するステップと、
化学強化を施すことで、前記ガラス板の第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）を、前記第２面よりも大きくするステップと、
を備え、
前記光学層が外部を向くように使用される、カバー部材の製造方法。
本発明によれば、耐衝撃性を向上することができる。
以下、本発明に係る表示装置を車載用の表示装置に適用した一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図１は表示装置の断面図である。車載用の表示装置としては、例えば、カーナビゲーションシステム、各種の計器や操作パネルを表示する表示装置を挙げることができる。
＜１．表示装置の概要＞
図１に示すように、本実施形態に係る表示装置は、開口を有する筐体４と、この筐体４に収容される表示パネル５００及びバックライトユニット６と、筐体４の開口を塞ぐカバー部材１００と、を備えている。以下、各部材について、詳細に説明する。
図１に示すように、本実施形態に係る表示装置は、開口を有する筐体４と、この筐体４に収容される表示パネル５００及びバックライトユニット６と、筐体４の開口を塞ぐカバー部材１００と、を備えている。以下、各部材について、詳細に説明する。
＜２．筐体＞
筐体４は、矩形状の底壁部４１と、この側壁部４１の周縁から立ち上がる側壁部４２と、を有し、底壁部４１と側壁部４２とで囲まれる内部空間に上述した表示パネル５００及びバックライトユニット６が収容されている。そして、側壁部４２の上端部によって形成される開口を塞ぐように、上述したカバー部材１００が取付けられている。筐体４を構成する材料は、特には限定されないが、例えば、樹脂材料、金属などで形成することができる。
筐体４は、矩形状の底壁部４１と、この側壁部４１の周縁から立ち上がる側壁部４２と、を有し、底壁部４１と側壁部４２とで囲まれる内部空間に上述した表示パネル５００及びバックライトユニット６が収容されている。そして、側壁部４２の上端部によって形成される開口を塞ぐように、上述したカバー部材１００が取付けられている。筐体４を構成する材料は、特には限定されないが、例えば、樹脂材料、金属などで形成することができる。
＜３．表示パネル及びバックライトユニット＞
表示パネル５００は、公知の液晶パネルを用いることができる。バックライトユニット６は、液晶パネルに向けて光を照射するものであり、例えば、拡散シート、導光板、ＬＥＤ等の光源、反射シート等が積層された公知のものある。なお、表示パネル５００としては、液晶パネル以外に、例えば、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネル、電子インク型パネル等を採用することができる。表示パネル５００として、液晶パネル以外を用いる場合には、バックライトユニットは不要である。
表示パネル５００は、公知の液晶パネルを用いることができる。バックライトユニット６は、液晶パネルに向けて光を照射するものであり、例えば、拡散シート、導光板、ＬＥＤ等の光源、反射シート等が積層された公知のものある。なお、表示パネル５００としては、液晶パネル以外に、例えば、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネル、電子インク型パネル等を採用することができる。表示パネル５００として、液晶パネル以外を用いる場合には、バックライトユニットは不要である。
＜４．カバー部材＞
カバー部材１００は、第１面及び第２面を有するガラス板１０と、ガラス板１０の第１面に積層される粘着層３と、第２面に積層される光学層２０と、を備えている。そして、ガラス板１０の第１面が表示パネル５００側を向き、第２面が表示装置の外部、つまり、本実施形態においては運転者側を向くように構成されている。以下、詳細に説明する。
カバー部材１００は、第１面及び第２面を有するガラス板１０と、ガラス板１０の第１面に積層される粘着層３と、第２面に積層される光学層２０と、を備えている。そして、ガラス板１０の第１面が表示パネル５００側を向き、第２面が表示装置の外部、つまり、本実施形態においては運転者側を向くように構成されている。以下、詳細に説明する。
＜４－１．ガラス板＞
ガラス板１０は、例えば、汎用のソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等その他のガラスにより形成することができる。また、ガラス板１０は、フロート法により成形することができる。この製法によると平滑な表面を有するガラス板１０を得ることができる。但し、ガラス板１０は、主面に凹凸を有していてもよく、例えば型板ガラスであってもよい。型板ガラスは、ロールアウト法と呼ばれる製法により成形することができる。この製法による型板ガラスは、通常、ガラス板の主面に沿った一方向について周期的な凹凸を有する。
ガラス板１０は、例えば、汎用のソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等その他のガラスにより形成することができる。また、ガラス板１０は、フロート法により成形することができる。この製法によると平滑な表面を有するガラス板１０を得ることができる。但し、ガラス板１０は、主面に凹凸を有していてもよく、例えば型板ガラスであってもよい。型板ガラスは、ロールアウト法と呼ばれる製法により成形することができる。この製法による型板ガラスは、通常、ガラス板の主面に沿った一方向について周期的な凹凸を有する。
フロート法は、溶融スズなどの溶融金属の上に溶融ガラスを連続的に供給し、供給した溶融ガラスを溶融金属の上で流動させることにより帯板状に成形する。このように成形されたガラスをガラスリボンと称する。
ガラスリボンは、下流側に向かうにつれて冷却され、冷却固化された上で溶融金属からローラにより引き上げられる。そして、ローラによって徐冷炉へと搬送され、徐冷された後、切断される。こうして、フロートガラス板が得られる。ここで、フロートガラス板において、溶融金属と接触していた面をボトム面と称し、それとは反対の面をトップ面と称することとする。ボトム面及びトップ面は、未研磨であってよい。なお、ボトム面は、溶融金属と接していたため、溶融金属がスズである場合には、ボトム面に含有される酸化スズの濃度が、トップ面に含有される酸化スズの濃度よりも大きくなる。そして、本実施形態においては、ガラス板１０の第１面がトップ面であり、第２面がボトム面となる。
上記のように形成されたガラス板１０の厚さは、特に制限されないが、軽量化のためには薄いほうがよい。例えば、０．５～３ｍｍであることが好ましく、０．６～２．５ｍｍである事がさらに好ましい。これは、ガラス板１０が薄すぎると、強度が低下するからであり、厚すぎると、表示パネル５００からカバー部材１００を介して視認される画像に歪みが生じるおそれがある。ガラス板１０の第２面の表面粗さＲａは、１０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、２ｎｍ以下であることがより好ましく、１ｎｍ以下であることが特に好ましい。このようにすると、後述するように、光学層２０が防眩膜であるときに、防眩効果が顕著に現れる。
ガラス板１０は、通常、平板であってよいが、曲板であってもよい。特に、組み合わせるべき表示パネル５００の画像表示面が曲面等の非平面である場合、ガラス板１０はそれに適合する非平面形状の主面を有することが好ましい。この場合、ガラス板１０は、その全体が一定の曲率を有するように曲げられていてもよく、局部的に曲げられていてもよい。ガラス板１０の主面（第１面及び第２面）は、例えば複数の平面が曲面で互いに接続されて構成されていてもよい。ガラス板１０の曲率半径は、例えば５０００ｍｍ以下である。この曲率半径は、例えば１０ｍｍ以上であるが、特に局部的に曲げられている部位ではさらに小さくてもよく、例えば１ｍｍ以上である。なお、本明細書において用いられる「主面」との文言は、側面を除く表側及び裏側の面である。
光学層２０は、ガラス板１０の第２面の全面を覆うように形成されていてもよく、一部を覆うように形成されていてもよい。後者の場合、光学層２０は、第２面のうち、少なくとも表示パネル５００の画像表示面を覆う部分に形成するとよい。
また、ガラス板１０には化学強化が施されている。この点について詳細に説明する。化学強化の方法は特には限定されないが、例えば、ナトリウムを含むガラス板１０を、ナトリウムイオンよりもイオン半径の大きい一価の陽イオン、好ましくはカリウムイオン、を含む溶融塩に接触させ、ガラス板１中のナトリウムイオンを上記の一価の陽イオンによって置換するイオン交換処理を行うことにより、ガラス板１の化学強化を実施することができる。これによって、表面に圧縮応力が付与された圧縮応力層が形成される。
溶融塩としては、典型的には硝酸カリウムを挙げることができる。硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとの混合溶融塩を用いることもできるが、混合溶融塩は濃度管理が難しいため、硝酸カリウム単独の溶融塩が好ましい。
ガラス板１０における表面圧縮応力と圧縮応力層深さとは、ガラス組成だけではなく、イオン交換処理における溶融塩の温度と処理時間によって制御することができる。イオン交換処理における処理温度は、例えば、３６０～４６０℃とすることができる。なお、上述した化学強化用の組成を有するガラス板１０に対しては、この処理温度は高温であることが好ましく、例えば、４００～４６０℃とすることができる。
ところで、本実施形態のガラス板１０は、上述したようにフロート法により製造されているため、トップ面の酸化スズ濃度がボトム面よりも小さくなっている。そのため、上述した化学強化を施すと、トップ面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、ボトム面の圧縮応力層深さよりも大きくなる。圧縮応力深さは、ガラス板の組成や温度などの条件にもよるが、深くなるほど、表面圧縮応力が小さくなる傾向にある。そのため、ボトム面、つまりガラス板１０の第２面の方が第１面よりも表面圧縮応力が大きくなる。具体的には、ガラス板１０のトップ面とボトム面に同条件で化学強化を施した場合、第２面の圧縮応力層深さは、第１面よりも１～１０μｍ程度小さく、これによって、第２面の表面圧縮応力は、第１面の表面圧縮応力よりも、３０～１８０ＭＰａ程度大きくなる。なお、圧縮応力層深さは、例えば、表面応力計により測定することができる。
例えば、ガラス板１０のトップ面及びボトム面に、同条件で化学強化を施した場合、本発明者は、以下の試験結果を得ている。すなわち、トップ面における圧縮応力層深さが１０～２０μｍであり、このとき表面圧縮応力は６５０～８００ＭＰａであった。一方、ボトム面における圧縮応力層深さが９～１９μｍであり、このときの表面圧縮応力は６８０～８３０ＭＰａであった。したがって、ガラス板のトップ面及びボトム面に同条件で化学強化を施した場合には、ボトム面における圧縮応力深さがトップ面よりも小さくなり、これに対応して、ボトム面における表面圧縮応力がトップ面よりも大きくなる。したがって、ガラス板に衝撃が加わった場合には、ボトム面が、トップ面よりも耐衝撃性が強くなる。
＜４－２．粘着層＞
粘着層３は、ガラス板１０を表示パネル５００に十分な強度で固定できるものであればよい。具体的には、常温でタック性を有するアクリル系、ゴム系、及びメタクリル系とアクリル系のモノマーを共重合し、所望のガラス転移温度に設定した樹脂などの粘着層を使用できる。アクリル系モノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ステアリル及びアクリル酸２エチルヘキシル等を適用することができ、メタクリル系モノマーとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル及びメタクリル酸ステアリル等を適用することができる。また、ヒートラミネートなどで施工をする場合には、ラミネート温度で軟化する有機物を用いても良い。ガラス転移温度は、例えばメタクリル系とアクリル系のモノマーを共重合した樹脂の場合、各モノマーの配合比を変更することによって調整することができる。紫外線吸収剤が粘着層７１に含有されていてもよい。
粘着層３は、ガラス板１０を表示パネル５００に十分な強度で固定できるものであればよい。具体的には、常温でタック性を有するアクリル系、ゴム系、及びメタクリル系とアクリル系のモノマーを共重合し、所望のガラス転移温度に設定した樹脂などの粘着層を使用できる。アクリル系モノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ステアリル及びアクリル酸２エチルヘキシル等を適用することができ、メタクリル系モノマーとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル及びメタクリル酸ステアリル等を適用することができる。また、ヒートラミネートなどで施工をする場合には、ラミネート温度で軟化する有機物を用いても良い。ガラス転移温度は、例えばメタクリル系とアクリル系のモノマーを共重合した樹脂の場合、各モノマーの配合比を変更することによって調整することができる。紫外線吸収剤が粘着層７１に含有されていてもよい。
粘着層３の厚みは、例えば、１０～５００μｍにすることができ、２０～３５０μｍであることが好ましい。特に、粘着層３の厚みが小さいと、表示パネル５００からカバー部材１００の最外面までの距離が小さくなり、これによって表示パネル５００の画像を鮮明に視認することができる。一方、粘着層３の厚みが小さすぎると、ガラス板と表示パネル５００との固定の強度が低下するため、好ましくない。
また、粘着層３の屈折率は、空気の屈折率より大きく、ガラス板１０の屈折率よりも小さいことが好ましい。これにより表示パネルに表示される画像の歪みを抑制することができる。
＜４－３．光学層＞
次に、光学層について、説明する。以下では、光学層の一例として、３種類の防眩膜について説明する。光学層は、上述したようにガラス板に化学強化が施された後、ガラス板１０の第２面に積層される。以下では、光学層の一例として、２種類の防眩膜について説明する。なお、以下の説明において、「略平行」とは、対象とする２つの面がなす角度が３０°以下、さらには２０°以下、特に１０°以下であることを意味する。また、「主成分」とは、質量基準で含有率が５０％以上、さらには８０％以上を占める成分を意味する。また、「実質的に構成されている」とは、質量基準で含有率が８０％以上、さらには９０％以上、特に９５％以上を占めていることを意味する。また、「主面」は、側面を除く表側及び裏側の面であり、より具体的にはその上に膜が形成される面を指す。平板状粒子の「主面」とは、上述したガラス板の主面に準じ、当該平板状粒子の表裏一対の面を示す。「台地状」の定義は、図８を参照しつつ後述する。
次に、光学層について、説明する。以下では、光学層の一例として、３種類の防眩膜について説明する。光学層は、上述したようにガラス板に化学強化が施された後、ガラス板１０の第２面に積層される。以下では、光学層の一例として、２種類の防眩膜について説明する。なお、以下の説明において、「略平行」とは、対象とする２つの面がなす角度が３０°以下、さらには２０°以下、特に１０°以下であることを意味する。また、「主成分」とは、質量基準で含有率が５０％以上、さらには８０％以上を占める成分を意味する。また、「実質的に構成されている」とは、質量基準で含有率が８０％以上、さらには９０％以上、特に９５％以上を占めていることを意味する。また、「主面」は、側面を除く表側及び裏側の面であり、より具体的にはその上に膜が形成される面を指す。平板状粒子の「主面」とは、上述したガラス板の主面に準じ、当該平板状粒子の表裏一対の面を示す。「台地状」の定義は、図８を参照しつつ後述する。
＜４－３－１．第１の防眩膜＞
まず、第１の防眩膜２０について図２も参照しつつ説明する。図２は防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図である。なお、図２の例では、ガラス板１０の第２面に防眩膜２０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜２０との間に別の膜が介在していても構わない。防眩膜２０は、粒子１とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜２０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子１及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
まず、第１の防眩膜２０について図２も参照しつつ説明する。図２は防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図である。なお、図２の例では、ガラス板１０の第２面に防眩膜２０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜２０との間に別の膜が介在していても構わない。防眩膜２０は、粒子１とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜２０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子１及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
＜４－３－１－１．粒子＞
粒子１は平板状粒子であってもよい。粒子１は平板状粒子により実質的に構成されていてもよい。ただし、粒子１の一部は、平板状以外の形状、例えば球状の形状を有していてもよいが、球状粒子等を含まず、粒子１は平板状粒子のみにより構成されていてもかまわない。図３に、平板状粒子である粒子１の一例を示す。粒子１は一対の主面１ｓを有する。一対の主面１ｓは互いに略平行である。主面１ｓは実質的に平坦であり得る。ただし、主面１ｓには段差や微小な凹凸が存在していてもよい。なお、球状の酸化シリコン粒子が連なった粒子は、その外形が鎖状であって平板状ではなく、平板状粒子には該当しない。
粒子１は平板状粒子であってもよい。粒子１は平板状粒子により実質的に構成されていてもよい。ただし、粒子１の一部は、平板状以外の形状、例えば球状の形状を有していてもよいが、球状粒子等を含まず、粒子１は平板状粒子のみにより構成されていてもかまわない。図３に、平板状粒子である粒子１の一例を示す。粒子１は一対の主面１ｓを有する。一対の主面１ｓは互いに略平行である。主面１ｓは実質的に平坦であり得る。ただし、主面１ｓには段差や微小な凹凸が存在していてもよい。なお、球状の酸化シリコン粒子が連なった粒子は、その外形が鎖状であって平板状ではなく、平板状粒子には該当しない。
粒子１の厚み１ｔは、一対の主面１ｓの間の距離に相当し、０．３ｎｍ～３ｎｍの範囲にある。厚み１ｔは、好ましくは０．５ｎｍ以上、さらに０．７ｎｍ以上であり、好ましくは２ｎｍ以下、さらに１．５ｎｍ以下である。部位により厚み１ｔに変動がある場合は、最大厚みと最小厚みとの平均により厚み１ｔを定めればよい。
粒子１の主面１ｓの平均径ｄは、１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にある。主面の平均径ｄは、２０ｎｍ以上、さらに３０ｎｍ以上が好ましい。また、平均径ｄは、７００ｎｍ以下、さらに５００ｎｍ以下が好ましい。主面１ｓの平均径ｄは、主面１ｓの重心を通過する径の最小値と最大値との平均により定めることができる。
粒子１の平均アスペクト比はｄ／ｔにより算出できる。平均アスペクト比は、特に制限されないが、３０以上、さらに５０以上が好ましい。平均アスペクト比は、１０００以下、さらに７００以下であってもよい。
粒子１は、フィロケイ酸塩（phyllosilicate）鉱物粒子であってもよい。フィロケイ酸塩鉱物粒子に含まれるフィロケイ酸塩鉱物は、層状ケイ酸塩鉱物とも呼ばれる。フィロケイ酸塩鉱物としては、例えばカオリナイト、ディッカイト、ナクライト、ハロイサイト等のカオリン鉱物、クリソタイル、リザーダイト、アメサイト等のサーペンティン、モンモリロナイト、バイデライト等の２八面体型スメクタイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト等の３八面体型スメクタイト、白雲母、パラゴナイト、イライト、セラドナイト等の２八面体型雲母、金雲母、アナイト、レピドライト等の３八面体型雲母、マーガライト等の２八面体型脆雲母、クリントナイト、アナンダイト等の３八面体型脆雲母、ドンバサイト等の２八面体型クロライト、クッケアイト、スドーアイト等の２・３八面体型クロライト、クリノクロア、シャモサイト等の３八面体型クロライト、パイロフィライト、タルク、２八面体型バーミキュライト、３八面体型バーミキュライトを挙げることができる。フィロケイ酸塩鉱物粒子は、スメクタイト、カオリン、又はタルクに属する鉱物を含むことが好ましい。スメクタイトに属する鉱物としては、モンモリロナイトが好適である。なお、モンモリロナイトは単斜晶系に属し、カオリンは三斜晶系に属し、タルクは単斜晶系又は三斜晶系に属する。
防眩膜２０において、粒子１は、主面１ｓがガラス板１０の第２面と略平行に配置されている。粒子１は、個数基準でその８０％以上、さらには８５％以上、特に９０％以上が略平行に配置されていれば、その残りが略平行に配置されていなくても、全体として略平行に配置されているとみなすものとする。これを判断する場合には、３０個、好ましくは５０個の平板状粒子の配置を確認することが望ましい。
粒子１がフィロケイ酸塩鉱物粒子である場合、ガラス板１０の第２面に沿って配向しているフィロケイ酸塩鉱物の結晶面は（００１）面であってもよい。このような面配向は、Ｘ線回折分析により確認できる。
＜４－３－１－２．マトリクス＞
マトリクス２は、Ｓｉの酸化物である酸化シリコンを含み、酸化シリコンを主成分とすることが好ましい。酸化シリコンを主成分とするマトリクス２は、膜の屈折率を低下させ、膜の反射率を抑制することに適している。マトリクス２は、酸化シリコン以外の成分を含んでいてもよく、酸化シリコンを部分的に含む成分を含んでいてもよい。
マトリクス２は、Ｓｉの酸化物である酸化シリコンを含み、酸化シリコンを主成分とすることが好ましい。酸化シリコンを主成分とするマトリクス２は、膜の屈折率を低下させ、膜の反射率を抑制することに適している。マトリクス２は、酸化シリコン以外の成分を含んでいてもよく、酸化シリコンを部分的に含む成分を含んでいてもよい。
酸化シリコンを部分的に含む成分は、例えば、ケイ素原子及び酸素原子により構成された部分を含み、この部分のケイ素原子又は酸素原子に、両原子以外の原子、官能基その他が結合した成分である。ケイ素原子及び酸素原子以外の原子としては、例えば、窒素原子、炭素原子、水素原子、次段落に記述する金属元素を例示できる。官能基としては、例えば次段落にＲとして記述する有機基を例示できる。このような成分は、ケイ素原子及び酸素原子のみから構成されていない点で、厳密には酸化シリコンではない。しかし、マトリクス２の特性を記述する上では、ケイ素原子及び酸素原子により構成されている酸化シリコン部分も「酸化シリコン」として取り扱うことが適当であり、当該分野の慣用にも一致する。本明細書では、酸化シリコン部分も酸化シリコンとして取り扱うこととする。以上の説明からも明らかなとおり、酸化シリコンにおけるシリコン原子と酸素原子との原子比は化学量論的（１：２）でなくてもよい。
マトリクス２は、酸化シリコン以外の金属酸化物、具体的にはケイ素以外を含む金属酸化物成分又は金属酸化物部分を含み得る。マトリクス２が含み得る金属酸化物は、特に制限されないが、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｌａ、Ｃｅ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素の酸化物である。マトリクス２は、酸化物以外の無機化合物成分、例えば、窒化物、炭化物、ハロゲン化物等を含んでいてもよく、有機化合物成分を含んでいてもよい。
酸化シリコン等の金属酸化物は、加水分解可能な有機金属化合物から形成することができる。加水分解可能なシリコン化合物としては、式（１）で示される化合物を挙げることができる。
ＲnＳｉＹ4-n （１）
Ｒは、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロイル基及びアクリロイル基から選ばれる少なくとも１種を含む有機基である。Ｙは、アルコキシ基、アセトキシ基、アルケニルオキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種である加水分解可能な有機基、又はハロゲン原子である。ハロゲン原子は、好ましくはＣｌである。ｎは、０から３までの整数であり、好ましくは０又は１である。
ＲnＳｉＹ4-n （１）
Ｒは、アルキル基、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、メタクリロイル基及びアクリロイル基から選ばれる少なくとも１種を含む有機基である。Ｙは、アルコキシ基、アセトキシ基、アルケニルオキシ基及びアミノ基から選ばれる少なくとも１種である加水分解可能な有機基、又はハロゲン原子である。ハロゲン原子は、好ましくはＣｌである。ｎは、０から３までの整数であり、好ましくは０又は１である。
Ｒとしては、アルキル基、例えば炭素数１～３のアルキル基、特にメチル基が好適である。Ｙとしては、アルコキシ基、例えば炭素数１～４のアルコキシ基、特にメトキシ基及びエトキシ基が好適である。上記の式で示される化合物を２種以上組み合わせて用いてもよい。このような組み合わせとしては、例えばｎが０であるテトラアルコキシシランと、ｎが１であるモノアルキルトリアルコキシシランとの併用が挙げられる。
式（１）で示される化合物は、加水分解及び重縮合の後、シリコン原子が酸素原子を介して互いに結合したネットワーク構造を形成する。この構造において、Ｒで示される有機基は、シリコン原子に直接結合された状態で含まれる。
＜４－３－１－３．第１の防眩膜の物性＞
防眩膜２０におけるマトリクス２に対する粒子１の比は、質量基準で、例えば０．０５～１０、さらに０．０５～７であり、好ましくは０．０５～５である。防眩膜２０における空隙の体積比率は、特に制限されないが、１０％以上、さらに１０～２０％であってよい。ただし、空隙は存在しなくても構わない。
防眩膜２０におけるマトリクス２に対する粒子１の比は、質量基準で、例えば０．０５～１０、さらに０．０５～７であり、好ましくは０．０５～５である。防眩膜２０における空隙の体積比率は、特に制限されないが、１０％以上、さらに１０～２０％であってよい。ただし、空隙は存在しなくても構わない。
防眩膜２０の膜厚は、特に制限されないが、防眩性が適切に得られやすい等の観点からは、例えば５０ｎｍ～１０００ｎｍ、さらに１００ｎｍ～７００ｎｍ、特に１００ｎｍ～５００ｎｍが適切である。平板状粒子の主面を基材に略平行となるように配向させるためには、防眩膜２０の膜厚を上述の上限以下とすることが好ましい。厚い膜では、平板状粒子がランダムに配向する傾向が強くなる。
防眩膜２０の表面２０ｓには微小な凹凸が存在することが好ましい。これにより、より高い防眩効果が期待できる。ただし、表面２０ｓの凹凸は、ガラス板１０の第２面に沿った粒子１の配向によってその発達が抑制されている。防眩膜２０の表面２０ｓの表面粗さは、Ｒａにより表示して、２０ｎｍ～１２０ｎｍ、さらに３０ｎｍ～１１０ｎｍ、好ましくは４０ｎｍ～１００ｎｍである。Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１により定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。例えば、粒子がランダムに配向していると、表面粗さＲａは上述の範囲よりも大きくなる。
表面２０ｓのＲｓｍは、０μｍを超え３５μｍ以下、さら１μｍ～３０μｍ、好ましくは２μｍ～２０μｍである。Ｒｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１により定められた粗さ曲線要素の平均長さである。大きすぎないＲｓｍは、いわゆるスパークルの抑制に好適である。
スパークルは、防眩機能を付与するための微小凹凸と表示パネルの画素サイズとの関係に依存して発生する輝点である。スパークルは、表示装置とユーザの視点との相対的な位置の変動に伴って不規則な光のゆらぎとして観察される。スパークルは、表示装置の高精細化に伴って顕在化してきている。Ｒａ及びＲｓｍが上述の範囲にある防眩膜２０は、スパークルを抑制しながら、グロス及びヘイズをバランスよく低下させることに特に適している。
＜４－３－１－４．カバー部材の光学特性＞
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜２０を形成した面１０ｓについて測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜２０を形成した面１０ｓについて測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
６０°鏡面光沢度Ｇとヘイズ率Ｈ（％）との間には、関係式（ａ）が成立することが好ましく、関係式（ｂ）が成立することがさらに好ましいく、関係式（ｃ）が成立することがさらに好ましい。Ｇ及びＨは関係式（ｄ）を満たすものであってもよい。
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４ （ｃ）
Ｈ≦－０．１５Ｇ＋１８ （ｄ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４ （ｃ）
Ｈ≦－０．１５Ｇ＋１８ （ｄ）
なお、グロスはＪＩＳ Ｚ８７４１－１９９７の「鏡面光沢度測定方法」の「方法３（６０度鏡面光沢）」に従って、ヘイズはＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に従ってそれぞれ測定することができる。
＜４－３－２．第２の防眩膜＞
次に、第２の防眩膜について、図４及び図５を参照しつつ説明する。図４及び図５は、それぞれ、第２の防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図である。図４及び図５では、ガラス板１０の第２面に防眩膜３０及び４０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜３０及び４０との間に別の膜が介在していても構わない。これらの防眩膜３０及び４０は、粒子５とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜３０及び４０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子５及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
次に、第２の防眩膜について、図４及び図５を参照しつつ説明する。図４及び図５は、それぞれ、第２の防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図である。図４及び図５では、ガラス板１０の第２面に防眩膜３０及び４０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜３０及び４０との間に別の膜が介在していても構わない。これらの防眩膜３０及び４０は、粒子５とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜３０及び４０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子５及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
防眩膜３０ではすべての領域において膜の厚み方向に粒子５が積み重なっているのに対し、防眩膜４０では膜の厚み方向に粒子５が積み重なっている領域４０ａと、粒子５が同方向に積み重なっていないか又は粒子５が存在しない領域４０ｂとが存在する。領域４０ｂは、粒子５が同方向に積み重なっていないか又は粒子５が存在しない領域ではなく、ガラス板１０の第２面に略平行であって粒子５が露出していない表面４０ｓを有する領域であってもよい。領域４０ｂは、例えば０．２５μｍ2以上、さらに０．５μｍ2以上、特に１μｍ2以上にわたって広がる領域であってもよい。なお、防眩膜３０及び４０の領域４０ａの少なくとも一部において、粒子５は、粒子５の平均粒径の５倍以上、さらには７倍以上の高さにまで積み重なっている。
＜４－３－２－１．粒子＞
粒子５の形状は、特に制限されないが、球状であることが好ましい。粒子５は球状粒子により実質的に構成されていてもよい。ただし、粒子５の一部は、球状以外の形状、例えば平板状の形状を有していてもよい。粒子５は球状粒子のみにより構成されていても構わない。ここで、球状粒子とは、重心を通過する最短径に対する最長径の比が１以上１．８以下、特に１以上１．５以下であって、表面が曲面により構成されている粒子をいう。球状粒子の平均粒径は、５ｎｍ～２００ｎｍ、さらに１０ｎｍ～１００ｎｍ、特に２０ｎｍ～６０ｎｍであってもよい。球状粒子の平均粒径は、個々の粒径、具体的には上述の最短径と最長径との平均値、の平均により定まるが、その測定は、ＳＥＭ像に基づいて、３０個、好ましくは５０個の粒子を対象として実施することが望ましい。
粒子５の形状は、特に制限されないが、球状であることが好ましい。粒子５は球状粒子により実質的に構成されていてもよい。ただし、粒子５の一部は、球状以外の形状、例えば平板状の形状を有していてもよい。粒子５は球状粒子のみにより構成されていても構わない。ここで、球状粒子とは、重心を通過する最短径に対する最長径の比が１以上１．８以下、特に１以上１．５以下であって、表面が曲面により構成されている粒子をいう。球状粒子の平均粒径は、５ｎｍ～２００ｎｍ、さらに１０ｎｍ～１００ｎｍ、特に２０ｎｍ～６０ｎｍであってもよい。球状粒子の平均粒径は、個々の粒径、具体的には上述の最短径と最長径との平均値、の平均により定まるが、その測定は、ＳＥＭ像に基づいて、３０個、好ましくは５０個の粒子を対象として実施することが望ましい。
粒子５の一部に含まれていてもよい平板状粒子の厚みｔ、主面の平均径ｄ、及びアスペクト比ｄ／ｔの好ましい範囲は、第１の防眩膜と同じである。
粒子５を構成する材料は、特に制限されないが、金属酸化物、特に酸化シリコンを含むことが好ましい。ただし、金属酸化物は、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｌａ、Ｃｅ及びＳｎからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素の酸化物を含んでいてもよい。
粒子５は、粒子５の分散液から防眩膜３０及び４０へと供給することができる。この場合は、粒子５が個々に独立して分散している分散液を用いることが好ましい。粒子が鎖状に連なっている分散液と比較して、粒子が凝集していない分散液の使用は、防眩膜３０及び４０における粒子の望ましい凝集状態の実現に適している。互いに独立した粒子５は、分散媒等の液体の揮発に伴って移動しやすく、膜中において良好な特性の達成に適した凝集状態となりやすいためである。
＜４－３－２－２．マトリクス＞
マトリクス２は、上述した第１の防眩膜２０と同じである。但し、第２の防眩膜３０，４０においては、マトリクス２が窒素原子を含むことが好ましい。窒素原子は、有機化合物成分又は官能基、特に窒素原子含有官能基の一部として含まれていることが好ましい。窒素原子含有官能基は、好ましくはアミノ基である。窒素原子は、特に酸化シリコン等の金属酸化物を主成分とするマトリクスを形成するための原料において反応性が高い官能基の一部になりうる。このような官能基は、成膜の際に粒子５の凝集を促進し、粒子５の凝集状態を望ましい形態とする役割を奏しうる。
マトリクス２は、上述した第１の防眩膜２０と同じである。但し、第２の防眩膜３０，４０においては、マトリクス２が窒素原子を含むことが好ましい。窒素原子は、有機化合物成分又は官能基、特に窒素原子含有官能基の一部として含まれていることが好ましい。窒素原子含有官能基は、好ましくはアミノ基である。窒素原子は、特に酸化シリコン等の金属酸化物を主成分とするマトリクスを形成するための原料において反応性が高い官能基の一部になりうる。このような官能基は、成膜の際に粒子５の凝集を促進し、粒子５の凝集状態を望ましい形態とする役割を奏しうる。
酸化シリコン等の金属酸化物は、加水分解可能な有機金属化合物から形成することができる。加水分解可能なシリコン化合物としては、式（１）で示した化合物を挙げることができる。
窒素原子も、ケイ素原子を含む化合物、具体的にはアミノ基含有シランカップリング剤から防眩膜３０及び４０に供給することができる。この化合物は、例えば、式（２）により示すことができる。
ＡkＢmＳｉＹ4-k-m （２）
ＡkＢmＳｉＹ4-k-m （２）
Ａは、アミノ基を含有する有機基である。アミノ基は、一級、二級及び三級アミノ基のいずれであってもよい。Ａは、例えばアミノ基含有炭化水素であり、好ましくはアミノ基により一部の原子が置換されたアルキル基又はアルケニル基、さらに好ましくはアミノ基により水素原子が置換されたアルキル基又はアルケニル基、特に好ましくは末端にアミノ基を有するアルキル基又はアルケニル基である。アルキル基及びアルケニル基は、直鎖であっても分岐を有していても構わない。好ましいＡの具体例は、アルキル基の末端にアミノ基を有するω－アミノアルキル基、及びそのアミノ基の水素原子が別のアミノアルキル基に置換されたＮ－ω'－（アミノアルキル）－ω－アミノアルキル基である。Ａは、ケイ素原子に接続する原子として炭素原子を含むことが好ましい。この場合、窒素原子とケイ素原子との間には、アルキル基及びアルケニル基に代表される炭化水素基が介在しうる。言い換えると、窒素原子は、炭化水素基を介して、酸化シリコンを構成するケイ素原子と結合していてもよい。特に好ましいＡは、γ－アミノプロピル基、或いはＮ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピル基である。
Ｂは、Ｒとして上述した有機基であってもよく、アルキル基又はアルケニル基であってもよい。アルキル基又はアルケニル基は、分岐を有してもよく、その水素原子の一部が置換されていてもよい。Ｂは、好ましくは無置換のアルキル基であり、より好ましくは直鎖アルキル基であり、その炭素鎖の炭素数は１～３であり、さらに好ましくはメチル基である。Ｙは上述したとおりである。ｋは１～３の整数であり、ｍは０～２の整数であり、ｋ＋ｍは１～３の整数である。ｋは１、ｍは０又は１である。なお、Ａがγ－アミノプロピル基である場合はｋ＝１、ｍ＝０が好ましく、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピル基である場合はｋ＝１、ｍ＝０又は１が好ましい。
式（２）で示される化合物は、加水分解及び重縮合の後、シリコン原子が酸素原子を介して互いに結合したネットワーク構造を形成する。式（１）で示される化合物と共に用いた場合、式（２）で示される化合物はネットワーク構造の一部を形成する。この構造において、Ａで示される有機基は、シリコン原子に直接結合された状態で含まれる。
Ａで示される有機基は、コーティング液の溶媒が揮発する過程において、粒子を引き寄せて粒子の凝集を促進すると考えられる。
以上のような組成を有する第１及び第２の防眩膜２０，３０，４０は、有機無機複合膜といえる。
＜４－３－２－３．第２の防眩膜の物性＞
防眩膜３０及び４０におけるマトリクス２に対する粒子５の比、防眩膜３０及び４０の膜厚、表面３０ｓ及び４０ｓのＲａ、表面３０ｓ及び４０ｓのＲｓｍは、特に限定されないが、上述した第１の防眩膜２０と同じ範囲であってもよい。
防眩膜３０及び４０におけるマトリクス２に対する粒子５の比、防眩膜３０及び４０の膜厚、表面３０ｓ及び４０ｓのＲａ、表面３０ｓ及び４０ｓのＲｓｍは、特に限定されないが、上述した第１の防眩膜２０と同じ範囲であってもよい。
防眩膜３０及び４０においては、粒子５が凝集し、局所的に重なり合ってその部位で膜の高さを増す一方、別の部位では粒子５が重なり合わず膜が局所的に薄くなっている。ガラス板１０の第２面から測定した防眩膜３０及び４０の最高部と最低部との差分は、粒子５の平均粒径の３倍以上、さらに４倍以上であってもよい。
防眩膜４０の領域４０ｂでは、粒子が膜の厚み方向に積み重なっていないか、若しくは粒子自体が存在しない。後者の場合、領域４０ｂでは、膜４０はマトリクス２のみで構成されていてもよい。防眩膜４０が形成された領域の面積に占める領域４０ｂの比率は、例えば５～９０％、さらに１０～７０％、特に２０～５０％であってもよい。
＜４－３－２－４．カバー部材の光学特性＞
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜３０，４０を形成したガラス板の第２面について測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜３０，４０を形成したガラス板の第２面について測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
６０°鏡面光沢度Ｇとヘイズ率Ｈ（％）との間には、関係式（ａ）が成立することが好ましく、関係式（ｂ）が成立することがさらに好ましい。
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
グロス及びヘイズの測定について参照される日本産業規格の番号は上述したとおりである。
＜４－３－２－５．負荷曲線に係るパラメータ＞
第２の防眩膜が積層されたカバーガラス２００及び３００は、ＩＳＯ２５１７８に準拠した負荷曲線に係るパラメータに関し、以下の特徴を有し得る。なお、ＩＳＯ２５１７８に規定されているとおり、負荷曲線は、ある高さにおける頻度を高い側から累積し、全高さデータの総数を百として百分率で表したものである。負荷曲線に基づき、ある高さＣにおける負荷面積率はＳｍｒ（Ｃ）で与えられる。ある高さ２点におけるＳｍｒの値の差が４０％になる直線のうち最も傾きが小さくなる直線を等価直線として、等価直線が負荷面積率０％及び１００％時における高さの差がコア部のレベル差Ｓｋである。コア部の高さ以上の突出山部とコア部を分ける負荷面積率がＳｍｒ１、逆にコア部の高さ以下の突出谷部とコア部を分ける負荷面積率がＳｍｒ２である。負荷面積率２０、４０、６０、８０％における表面高さがＢＨ２０、ＢＨ４０、ＢＨ６０、ＢＨ８０である。
第２の防眩膜が積層されたカバーガラス２００及び３００は、ＩＳＯ２５１７８に準拠した負荷曲線に係るパラメータに関し、以下の特徴を有し得る。なお、ＩＳＯ２５１７８に規定されているとおり、負荷曲線は、ある高さにおける頻度を高い側から累積し、全高さデータの総数を百として百分率で表したものである。負荷曲線に基づき、ある高さＣにおける負荷面積率はＳｍｒ（Ｃ）で与えられる。ある高さ２点におけるＳｍｒの値の差が４０％になる直線のうち最も傾きが小さくなる直線を等価直線として、等価直線が負荷面積率０％及び１００％時における高さの差がコア部のレベル差Ｓｋである。コア部の高さ以上の突出山部とコア部を分ける負荷面積率がＳｍｒ１、逆にコア部の高さ以下の突出谷部とコア部を分ける負荷面積率がＳｍｒ２である。負荷面積率２０、４０、６０、８０％における表面高さがＢＨ２０、ＢＨ４０、ＢＨ６０、ＢＨ８０である。
Ｓｍｒ１は、１～４０％、さらに３～３５％、場合によっては１０～３０％であってもよい。ＢＨ２０は、例えば０．０４μｍ～０．５μｍ、さらに０．０６μｍ～０．５μｍ、好ましくは０．１２μｍ～０．３μｍである。ＢＨ８０は、例えば－０．３μｍ～０μｍ、さらに－０．３μｍ～－０．０５μｍ、好ましくは－０．２５μｍ～－０．１２μｍである。
＜４－３－３．第３の防眩膜＞
次に、図６及び図７を参照しつつ、第３の防眩膜について説明する。図６は第３の防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図、図７は第３の防眩膜が積層されたガラス板の他の例示す一部断面図である。図６及び図７に示すように、カバー部材４００及び５００は、ガラス板１０と、ガラス板１０の上に設けられた防眩膜５０及び６０とを備えている。図６及び図７では、ガラス板１０の主面１０ｓに防眩膜５０及び６０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜５０及び６０との間に別の膜が介在していても構わない。防眩膜５０及び６０は、粒子５とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜５０及び６０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子５及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
次に、図６及び図７を参照しつつ、第３の防眩膜について説明する。図６は第３の防眩膜が積層されたガラス板の一部断面図、図７は第３の防眩膜が積層されたガラス板の他の例示す一部断面図である。図６及び図７に示すように、カバー部材４００及び５００は、ガラス板１０と、ガラス板１０の上に設けられた防眩膜５０及び６０とを備えている。図６及び図７では、ガラス板１０の主面１０ｓに防眩膜５０及び６０が直接形成されているが、ガラス板１０と防眩膜５０及び６０との間に別の膜が介在していても構わない。防眩膜５０及び６０は、粒子５とマトリクス２とを含んでいる。防眩膜５０及び６０には空隙が含まれていてもよい。空隙は、マトリクス２中に、又は粒子５及びマトリクス２に接するように存在していてもよい。
防眩膜５０及び６０には、第１領域５０ｐ及び６０ｐと第２領域５０ｖ及び６０ｖとが存在する。第１領域５０ｐ及び６０ｐでは、防眩膜５０及び６０の厚み方向に粒子５が積み重なっている。第２領域５０ｖ及び６０ｖは、防眩膜５０及び６０をその表面側から厚さ方向に沿って観察すると、第１領域５０ｐ及び６０ｐを囲んでいる。ただし、第２領域５０ｖ及び６０ｖは、第１領域５０ｐ及び６０ｐにより囲まれていてもよい。第１領域５０ｐ及び６０ｐと第２領域５０ｖ及び６０ｖとは、例えば、いずれか一方の領域が、互いに離間して存在する他方の複数の領域の間に介在する。この構造は海島構造と呼ばれることがある。第２領域５０ｖ及び６０ｖは、その表面が周囲の第１領域から後退した谷状領域である。したがって、海島構造の島部は、当該島部が第１領域５０ｐ及び６０ｐである場合は海部から突出し、当該島部が第２領域５０ｖ及び６０ｖである場合は海部から陥没している。第２領域５０ｖ及び６０ｖでは、第１領域５０ｐ及び６０ｐよりも粒子５の積み重なりが少ない。第２領域５０ｖ及び６０ｖは、粒子５が積み重なった部分５０ｔを含んでいてもよい（図６参照）。第２領域５０ｖ及び６０ｖは、粒子５が積み重なっていないか又は粒子５が存在しない部分を含んでいてもよい（図６及び図７参照）。少なくとも一部の第２領域５０ｖ及び６０ｖは、粒子５が積み重なっていないか又は粒子５が存在しない部分により構成されていてもよい。第１領域５０ｐ及び６０ｐは、その少なくとも一部、さらには個数基準で５０％以上、場合によっては全部が、台地状領域であってもよい。
「台地状」は、ＳＥＭ等により膜を観察したときに、防眩膜５０及び６０の凸部の上部が台地状に見えることを意味するが、厳密には、膜の断面において、Ｌ２／Ｌ１≧０．７５、特にＬ２／Ｌ１≧０．８が成立することをいう。ここで、図８に示すように、Ｌ１は、各凸部の高さＨの５０％相当部分の長さであり、Ｌ２は、高さＨの７０％相当部分、好ましくは７５％相当部分の長さである。図８に示すように、１つのＬ１に対し、Ｌ２は、２以上の部分に分かれて存在することがある。この場合、Ｌ２は、２以上の部分の合計長さにより定める。
第１領域５０ｐ及び６０ｐと第２領域５０ｖ及び６０ｖとの境界５０ｂ及び６０ｂは、防眩膜５０及び６０の平均厚さＴにより定めることができる（図７参照）。平均厚さＴは、後述するとおり、レーザー顕微鏡を用いて測定することができる。境界５０ｂ及び６０ｂの間隔により、第１領域５０ｐ及び６０ｐの幅Ｗｐと第２領域５０ｖ及び６０ｖの幅Ｗｖとが定まる。
幅Ｗｐは、５μｍ以上、さらに７．７μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であってもよい。幅Ｗｖは、３．５μｍ以上、７μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であってもよい。幅Ｗｐが大きい場合、防眩膜に入射した可視光を直接透過しやすくなるためにヘイズ率が低くなる傾向にある。幅Ｗｖが大きい場合、防眩膜に入射した可視光を適度に散乱するため、グロスが低くなる傾向にある。幅Ｗｐ及び幅Ｗｖが共に１０μｍ以上である膜は、低いヘイズ率とグロスとの両立に特に適している。
第１領域５０ｐ及び６０ｐ及び第２領域５０ｖ及び６０ｖは、それぞれ、例えば０．２５μｍ2以上、さらに０．５μｍ2以上、特に１μｍ2以上、場合によっては５μｍ2以上、さらに１０μｍ2以上、にわたって広がる領域であってもよい。
防眩膜５０及び６０には、第１領域５０ｐ及び６０ｐと第２領域５０ｖ及び６０ｖとが存在する。防眩膜４０が形成された領域の面積に占める第２領域５０ｖ及び６０ｖの比率は、例えば５～９０％、さらに１０～７０％、特に２０～５０％であってもよい。防眩膜５０及び６０は、第１領域５０ｐ及び６０ｐ及び第２領域５０ｖ及び６０ｖのみから構成されていてもよい。
＜４－３－３－１．粒子＞
粒子５は、第２の防眩膜で述べたとおりである。
粒子５は、第２の防眩膜で述べたとおりである。
＜４－３－３－２．マトリクス＞
マトリクス２は、第１及び第２の防眩膜で述べたとおりである。ただし、第２の防眩膜とは異なり、第３の防眩膜では、窒素原子の添加による粒子５の凝集を促進する必要性は低い。したがって、マトリクス２を形成する酸化シリコン等の金属酸化物は、加水分解可能な有機金属化合物、特に式（１）で示した化合物から形成することが好ましい。マトリクス２は、酸化シリコンから実質的に構成されていてもよい。
マトリクス２は、第１及び第２の防眩膜で述べたとおりである。ただし、第２の防眩膜とは異なり、第３の防眩膜では、窒素原子の添加による粒子５の凝集を促進する必要性は低い。したがって、マトリクス２を形成する酸化シリコン等の金属酸化物は、加水分解可能な有機金属化合物、特に式（１）で示した化合物から形成することが好ましい。マトリクス２は、酸化シリコンから実質的に構成されていてもよい。
＜４－３－３－３．第３の防眩膜の物性＞
防眩膜５０及び６０において、マトリクス２に対する粒子５の比、膜厚、表面５０ｓ及び６０ｓのＲａ、表面５０ｓ及び６０ｓのＲｓｍは、特に限定されないが、第１及び第２の防眩膜で述べた範囲であってもよい。ガラス板１０の主面１０ｓから測定した防眩膜５０及び６０の最高部と最低部との差分は、粒子５の平均粒径の３倍以上、さらに４倍以上であってもよい。
防眩膜５０及び６０において、マトリクス２に対する粒子５の比、膜厚、表面５０ｓ及び６０ｓのＲａ、表面５０ｓ及び６０ｓのＲｓｍは、特に限定されないが、第１及び第２の防眩膜で述べた範囲であってもよい。ガラス板１０の主面１０ｓから測定した防眩膜５０及び６０の最高部と最低部との差分は、粒子５の平均粒径の３倍以上、さらに４倍以上であってもよい。
＜４－３－３－４．カバー部材の光学特性＞
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜５０及び６０を形成した面１０ｓについて測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
グロスは、鏡面光沢度により評価することができる。ガラス板１０の６０°鏡面光沢度は、例えば６０～１３０％、さらに７０～１２０％、特に８０～１１０％、８５～１００％である。これらの鏡面光沢度は、防眩膜５０及び６０を形成した面１０ｓについて測定された値である。ガラス板１０のヘイズ率は、例えば２０％以下、さらに１５％以下、特に１０％以下であり、場合によっては１～８％、さらに１～６％、特に１～５％であってもよい。
６０°鏡面光沢度Ｇとヘイズ率Ｈ（％）との間には、関係式（ａ）が成立することが好ましく、関係式（ｂ）が成立することがさらに好ましく、関係式（ｃ）が成立することがさらに好ましい。Ｇ及びＨは関係式（ｄ）を満たすものであってもよい。
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４ （ｃ）
Ｈ≦－０．１５Ｇ＋１８ （ｄ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２５ （ａ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４．５ （ｂ）
Ｈ≦－０．２Ｇ＋２４ （ｃ）
Ｈ≦－０．１５Ｇ＋１８ （ｄ）
グロス及びヘイズの測定について参照される日本産業規格の番号は上述したとおりである。
＜４－４．光学層の形成方法＞
光学層の形成方法は、特には限定されないが、例えば、以下のように形成することができる。まず、上述したマトリクスを構成する材料、例えば、テトラエトキシシランを酸性条件下で溶液とし、マトリックス前駆体液を生成する。また、上述した粒子を含む分散液、例えば、スメクタイト分散液をエタノール等によって希釈し、微粒子分散液を生成する。そして、マトリックス前駆体液と微粒子分散液とを混合し、光学層用コーティング液を生成する。
光学層の形成方法は、特には限定されないが、例えば、以下のように形成することができる。まず、上述したマトリクスを構成する材料、例えば、テトラエトキシシランを酸性条件下で溶液とし、マトリックス前駆体液を生成する。また、上述した粒子を含む分散液、例えば、スメクタイト分散液をエタノール等によって希釈し、微粒子分散液を生成する。そして、マトリックス前駆体液と微粒子分散液とを混合し、光学層用コーティング液を生成する。
次に、洗浄したガラス板１０の第２面に、コーティング液を塗布する。塗布方法は特には限定されないが、例えば、フローコート法、スプレーコート法、スピンコート法などを採用することができる。その後、塗布したコーティング液をオーブンなどで、例えば、溶液中のアルコール分を揮発させるため、所定温度（例えば、８０～１２０℃）で乾燥した後、例えば、加水分解及び有機鎖の分解のため、所定温度（例えば、４００～６５０℃）で焼結させると、光学層を得ることができる。
＜５．特徴＞
本実施形態に係る表示装置は、以下の効果を奏することができる。すなわち、カバー部材１００，２００，３００，４００，５００に光学層として防眩膜２０，３０，４０，５０，６０が積層されているため、表示パネル５００の画像を鮮明に視認することができる。また、ガラス板１０と表示パネル５００とが、空気層を介することなく粘着層３により直接固定されているため、これによっても、表示パネル５００の画像を鮮明に視認することができる。
本実施形態に係る表示装置は、以下の効果を奏することができる。すなわち、カバー部材１００，２００，３００，４００，５００に光学層として防眩膜２０，３０，４０，５０，６０が積層されているため、表示パネル５００の画像を鮮明に視認することができる。また、ガラス板１０と表示パネル５００とが、空気層を介することなく粘着層３により直接固定されているため、これによっても、表示パネル５００の画像を鮮明に視認することができる。
さらに、この表示装置では、ガラス板１０に化学強化が施されており、外部（運転者側）を向く第２面の圧縮応力深さが第１面よりも小さくなっている。したがって、第２面の表面圧縮応力が第１面よりも大きくなるため、外部からの耐衝撃性を向上することができる。また、ガラス板１０は、フロート法により製造されており、酸化スズ濃度の大きいボトム面を第２面として外部に向けているため、化学強化を施したときには、第２面の圧縮応力層深さを第１面よりも小さくすることができる。
＜６．変形例＞
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。なお、以下の変形例は適宜組み合わせることができる。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。なお、以下の変形例は適宜組み合わせることができる。
＜６－１＞
筐体４の構成は特には限定されず、表示パネル５００及びバックライトユニット６が収容されればよい。また、表示パネル５００としては、上述した液晶パネル以外を採用することもでき、例えば、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネル、電子インク型パネル等を用いることもできる。なお、表示パネル５００として、液晶パネル以外を用いる場合には、バックライトユニット６は、不要である。また、表示パネル５００とカバー部材１００との間には粘着層３ではなく、空気が介在してもよい。
筐体４の構成は特には限定されず、表示パネル５００及びバックライトユニット６が収容されればよい。また、表示パネル５００としては、上述した液晶パネル以外を採用することもでき、例えば、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネル、電子インク型パネル等を用いることもできる。なお、表示パネル５００として、液晶パネル以外を用いる場合には、バックライトユニット６は、不要である。また、表示パネル５００とカバー部材１００との間には粘着層３ではなく、空気が介在してもよい。
＜６－２＞
上記実施形態では、カバー部材が筐体４に接するようにしているが、表示パネルにのみ接するようにしてもよい。
＜６－３＞
ガラス板１０には、表示パネル５００の表示領域の一部を視認できるように、例えば、図９に示すような遮蔽層９を設けることもできる。この遮蔽層９には、少なくとも１つの開口９１や切り欠き９２を形成し、このような開口９１や切り欠き９２を介して表示パネル５００に表示された画像を視認できるようにする。このような遮蔽層９は、ガラス板１０の第１面及び第２面の少なくとも一方に形成されていればよい。また、光学層は、開口９１や切り欠き９２を覆うように積層されるほか、遮蔽層９上に形成することもできる。なお、遮蔽層９を形成する材料は、特には限定されないが、例えば、黒色、茶色、灰色、濃紺等の濃色のセラミック、シート材により形成することができる。
上記実施形態では、カバー部材が筐体４に接するようにしているが、表示パネルにのみ接するようにしてもよい。
＜６－３＞
ガラス板１０には、表示パネル５００の表示領域の一部を視認できるように、例えば、図９に示すような遮蔽層９を設けることもできる。この遮蔽層９には、少なくとも１つの開口９１や切り欠き９２を形成し、このような開口９１や切り欠き９２を介して表示パネル５００に表示された画像を視認できるようにする。このような遮蔽層９は、ガラス板１０の第１面及び第２面の少なくとも一方に形成されていればよい。また、光学層は、開口９１や切り欠き９２を覆うように積層されるほか、遮蔽層９上に形成することもできる。なお、遮蔽層９を形成する材料は、特には限定されないが、例えば、黒色、茶色、灰色、濃紺等の濃色のセラミック、シート材により形成することができる。
＜６－４＞
上記実施形態では、光学層として防眩機能を有する有機無機複合膜２０，３０，４０，５０，６０をガラス板１０の第２面に積層したが、例えば、ガラス板１０の第２面に、エッチング等で微細な凹凸を形成し、この凹凸によって防眩機能や反射防止機能を奏するようにすることもできる。そして、このような凹凸を有する層も本発明の光学層に相当する。また、上記実施形態では、光学層の一例として防眩膜について説明したが、光学層は、他の機能膜であってもよく、例えば、公知の反射防止膜、防曇膜、熱反射膜等とすることもできる。
上記実施形態では、光学層として防眩機能を有する有機無機複合膜２０，３０，４０，５０，６０をガラス板１０の第２面に積層したが、例えば、ガラス板１０の第２面に、エッチング等で微細な凹凸を形成し、この凹凸によって防眩機能や反射防止機能を奏するようにすることもできる。そして、このような凹凸を有する層も本発明の光学層に相当する。また、上記実施形態では、光学層の一例として防眩膜について説明したが、光学層は、他の機能膜であってもよく、例えば、公知の反射防止膜、防曇膜、熱反射膜等とすることもできる。
＜６－５＞
上記実施形態では、ガラス板１０に化学強化を施した後、第２面に光学膜２０，３０，４０，５０，６０を積層しているが、例えば、ガラス板１０の第２面に光学膜２０，３０，４０，５０，６０を積層した後に、化学強化を施すことができる。ガラス板１０の第１面には光学膜２０，３０，４０，５０，６０が積層されていないため、少なくとも第１面には化学強化を妨げる膜が形成されていない。そのため、第１面には化学強化を適切に施すことができ、第１面の圧縮応力深さ（ｄｏｌ）を大きくすることができる。その一方で、第２面には化学強化が施されないか、あるいは化学強化が施されたとしても、光学層２０，３０，４０，５０，６０によって化学強化が十分に施されないため、第２面の圧縮応力深さ（ｄｏｌ）は小さくなる。その結果、第２面の表面圧縮応力が、第１面よりも大きくなり、上述したような運転者等の保護を図ることができる。
上記実施形態では、ガラス板１０に化学強化を施した後、第２面に光学膜２０，３０，４０，５０，６０を積層しているが、例えば、ガラス板１０の第２面に光学膜２０，３０，４０，５０，６０を積層した後に、化学強化を施すことができる。ガラス板１０の第１面には光学膜２０，３０，４０，５０，６０が積層されていないため、少なくとも第１面には化学強化を妨げる膜が形成されていない。そのため、第１面には化学強化を適切に施すことができ、第１面の圧縮応力深さ（ｄｏｌ）を大きくすることができる。その一方で、第２面には化学強化が施されないか、あるいは化学強化が施されたとしても、光学層２０，３０，４０，５０，６０によって化学強化が十分に施されないため、第２面の圧縮応力深さ（ｄｏｌ）は小さくなる。その結果、第２面の表面圧縮応力が、第１面よりも大きくなり、上述したような運転者等の保護を図ることができる。
＜６－６＞
上記実施形態では、フロート法により製造されたガラス板を用いているが、ガラス板の製造方法は特には限定されず、少なくとも、化学強化が施され、外部を向く第２面の圧縮応力層深さが、第１面よりも小さければよい。
上記実施形態では、フロート法により製造されたガラス板を用いているが、ガラス板の製造方法は特には限定されず、少なくとも、化学強化が施され、外部を向く第２面の圧縮応力層深さが、第１面よりも小さければよい。
＜６－７＞
上記実施形態では、本発明の表示装置を車載用の表示装置として説明したが、これに限定されるものではない。上述した表示パネルとともに使用される表示装置全般に適用することができる。また、表示装置にタッチパネルを設け、タッチパネルディスプレイとして用いることもできる。したがって、上述したカバー部材も、種々の表示装置に適用することができる。
上記実施形態では、本発明の表示装置を車載用の表示装置として説明したが、これに限定されるものではない。上述した表示パネルとともに使用される表示装置全般に適用することができる。また、表示装置にタッチパネルを設け、タッチパネルディスプレイとして用いることもできる。したがって、上述したカバー部材も、種々の表示装置に適用することができる。
１０ ガラス板
２０，３０，４０，５０，６０ 防眩膜（光学層）
５００ 表示パネル
２０，３０，４０，５０，６０ 防眩膜（光学層）
５００ 表示パネル
Claims (22)
- 表示パネルと、
前記表示パネル上に配置されるカバー部材と、
を備え、
前記カバー部材は、
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、表示装置。 - 前記ガラス板は、フロート法により製造され、前記第１面の酸化スズ濃度が、前記第２面よりも小さい、請求項１に記載の表示装置。
- 前記光学層は、有機無機複合膜である、請求項１または２に記載の表示装置。
- 前記光学層は、少なくともマトリクスと粒子とを含有し、
前記光学層における前記第２面とは反対側の表面は、前記粒子によって凹凸が形成されている、請求項１から３のいずれかに記載の表示装置。 - 前記光学層に、当該膜の厚み方向に前記粒子が積み重なっている第１領域と、前記第１領域を囲む又は前記第１領域により囲まれる谷状の第２領域とが存在する、請求項４に記載の表示装置。
- 前記第１領域は台地状の領域である、請求項５に記載の表示装置。
- 前記第２領域は、前記粒子が積み重なっていないか又は前記粒子が存在しない部分を含む、請求項５または６に記載の表示装置。
- 前記第１領域の幅が７．７μｍ以上、前記第２領域の幅が７μｍ以上である、請求項５から７のいずれかに記載の表示装置。
- 前記第１領域の幅が１０μｍ以上、前記第２領域の幅が１０μｍ以上である、請求項５から７のいずれかに記載の表示装置。
- 前記粒子は、平板状粒子により実質的に構成され、
前記平板状粒子は、厚みが０．３ｎｍ～３ｎｍの範囲にあり、かつ主面の平均径が１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲にあり、
前記平板状粒子の主面が前記ガラス板の第２面と略平行に配置されている、請求項４に記載の表示装置。 - 前記光学層には、当該光学層の厚み方向に前記粒子が積み重なっている領域と、前記粒子が積み重なっていないか又は前記粒子が存在しない領域とが存在する、請求項４に記載の表示装置。
- 前記ガラス板の第２面から測定した前記光学層の最高部と最低部との差分が前記粒子の平均粒径の３倍以上である、請求項１１に記載の表示装置。
- ＩＳＯ２５１７８に定めるＳｍｒ１が１０～３０％である、請求項１１または１２に記載の表示装置。
- ＩＳＯ２５１７８に定める負荷面積比率２０％における表面高さＢＨ２０が０．０４μｍ～０．５μｍの範囲にある、請求項１１から１３のいずれかに記載の表示装置。
- ＩＳＯ２５１７８に定める負荷面積比率８０％における表面高さＢＨ８０が－０．３μｍ～０μｍの範囲にある、請求項１１から１４のいずれかに記載の表示装置。
- 前記光学層の前記表面のＲｓｍが０μｍを超え３５μｍ以下である、請求項１から１５のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒｓｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線要素の平均長さである。 - 前記光学層の前記表面のＲａが２０ｎｍ～１２０ｎｍの範囲にある、請求項１から１６のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。 - 前記ガラス板の第２面のＲａが１０ｎｍ以下である、請求項１から１７のいずれかに記載の表示装置。
ただし、前記Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に定められた粗さ曲線の算術平均粗さである。 - 前記マトリクスは、酸化シリコンを主成分としている、請求項１から１８のいずれかに記載の表示装置。
- 前記ガラス板の厚みは、０．５～３ｍｍである、請求項１から１９のいずれかに記載の表示装置。
- 表示パネルを有する表示装置に設けられる、カバー部材であって、
第１面及び第２面を有し、少なくとも第１面に化学強化が施されている、ガラス板と、
前記ガラス板の第２面に積層され、外部を向く光学層と、
を備え、
前記ガラス板は、前記第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）が、前記第２面よりも大きい、カバーガラス。 - フロート法により製造され、第１面、及び前記第１面よりも酸化スズ濃度が高い第２面を有する、ガラス板を準備するステップと、
前記ガラス板の第２面に光学層を積層するステップと、
化学強化を施すことで、前記ガラス板の第１面の圧縮応力層深さ（ｄｏｌ）を、前記第２面よりも大きくするステップと、
を備え、
前記光学層が外部を向くように使用される、カバー部材の製造方法。
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