JP6974150B2 - アルミニウム積層体およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、アルミニウム積層体およびその製造方法に関する。

アルミニウムの表面には一般的に自然酸化皮膜が形成されている。しかし、自然酸化膜は、湿気や水分により腐食しやすい。そのため、湿気や水分等を含みアルミニウムを腐食させる腐食環境下で使用されるアルミニウム板の表面には、該表面を腐食から保護するために、一般的に陽極酸化皮膜が形成されている。陽極酸化皮膜による耐食性作用は、陽極酸化皮膜の厚みが厚いほど、高くなる。

一方で、アルミニウム板は、照明の反射板や意匠性建築材料用パネルとして用いられている。このような用途では、高い光沢度および高い全反射率を有するアルミニウム板が求められている。また、これらの用途では適切な形状に曲げ加工が施される場合がある。

しかし、従来、アルミニウム板の光沢度と全反射率は、陽極酸化皮膜を厚くするほど低下すると考えられていた。

特開２００８−１７４７６４号公報（特許文献１）には、厚さが１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるバリア型陽極酸化皮膜を備えたアルミニウム材が開示されている。上記特許文献１には、厚さが５００ｎｍを超えると、陽極酸化皮膜による可視光線の吸収の影響が大きくなり正反射性が劣るため、バリア型陽極酸化皮膜の厚みは５００ｎｍ以下とする必要がある、と記載されている。

特開２００７−５１３６０号公報（特許文献２）には酸化皮膜の皮膜耐電圧を１Ｖ以上２０Ｖ未満（膜厚１０〜２００Åに相当）の範囲とすることで、良好な耐食性及び耐候性を有するとともに、柔軟性にも優れたアルミニウム箔を得る事ができることが開示されている。

特開２００８−１７４７６４号公報 特開２００７−５１３６０号公報

特許文献１に記載されている厚みが５００ｎｍ以下であるバリア型陽極酸化皮膜では、例えば台所周り、屋外の湿気または水分を多く含む腐食環境下で使用されるアルミニウム板の腐食を十分に防止することができない。

また、近年建築材料用パネル用アルミニウム板には、デザインの多様化に伴い、高い写像性が要求されている。しかし、上記特許文献１では写像性は考慮されていない。

特許文献２に記載されているアルミニウム箔は柔軟性を有するものの、酸化皮膜の厚みが比較的薄く、屋外環境に直接さらされる用途が考慮されておらず、耐食性は不十分である。耐食性を向上させようと酸化皮膜の厚みを厚くするとクラックが発生してしまう。また、上記特許文献２では表面硬度、光沢度、全反射率、写像性は考慮されていない。

そこで、本発明の目的は、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性、高い表面硬度、および高い曲げ加工性を有するアルミニウム積層体を提供することである。

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、陽極酸化皮膜の厚みを極端に厚くすれば高い耐食性および高い表面硬度を有しながらも、高い光沢度、高い全反射率、高い写像性が得られること、さらにアルミニウム積層体の全体の厚みの値Ｔ１（単位：μｍ）と陽極酸化皮膜層の厚みの値Ｔ２（単位：μｍ）との関係がＴ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足するアルミニウム積層体は最小直径が１００ｍｍ以下の曲げ加工が可能であることを見出した。なお、最小直径が１００ｍｍ以下の曲げ加工が可能とは、アルミニウム積層体を少なくとも直径が１００ｍｍである円筒の外周面に沿わせて１０秒間保持する加工を施した後に目視観察において陽極酸化皮膜表面にクラックが確認されないことを指す。

すなわち、本実施の形態のアルミニウム積層体は、以下の特徴を有する。本実施の形態に従ったアルミニウム積層体は、第１面を有するアルミニウム基材と、第１面に接して形成されており、かつ、第１面と交差する方向において第１面から離れた位置にある第２面を有する第１陽極酸化皮膜とを備える。アルミニウム基材の第１面を含む表層は、純度９９．９質量％以上であるアルミニウムと、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄とを含む。第１陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下である。第１陽極酸化皮膜の第２面の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。第１陽極酸化皮膜の交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である。アルミニウム積層体の上記交差する方向の全体の厚みの値Ｔ１（単位：μｍ）と、第１陽極酸化皮膜の上記交差する方向の厚みの値Ｔ２（単位：μｍ）とが、関係式Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する。

また従来、陽極酸化皮膜の厚みが厚くなるにつれて、これを備えるアルミニウム積層体の正反射率が低下することが知られている。このときの正反射率は膜厚の増加とともに単調に低下するのではなく、低下傾向と上昇傾向を繰り返しながら、徐々に低下していくという傾向を示す。上記特許文献１の図１には、陽極酸化皮膜の厚みを０ｎｍから５５０ｎｍ程度まで徐々に厚くしていくと、アルミニウム積層体の正反射率は周期的に減少と増加を繰り返しながら、徐々に低下していく傾向が示されている。上記特許文献１では、当該傾向に基づき、陽極酸化皮膜の厚みは、１５０ｎｍ±３０ｎｍ、或いは、３００ｎｍ±２０ｎｍが好ましいと結論付けている。上記傾向は、アルミニウム基材の第１面での反射光と、陽極酸化皮膜の第２面での反射光とが干渉することにより、生じていると考えられる。

これに対し、本発明者らは、厚みが９μｍ以上２６μｍ以下の第１陽極酸化皮膜を備える本実施の形態に係るアルミニウム積層体は、厚みが１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下程度の陽極酸化皮膜を備えるアルミニウム積層体と比べて、高い可視光全反射率を有していることを確認した（詳細は後述する実施例参照）。また、アルミニウム積層体は、厚みが６００ｎｍ以上９μｍ未満の陽極酸化皮膜を備えるアルミニウム積層体と比べて、同等以上の高い光沢度、可視光全反射率および写像性を有しながらも、高い耐食性を有していることを確認した（詳細は後述する実施例参照）。つまり、本発明者らは、９μｍ以上２６μｍ以下という比較的広範な第１陽極酸化皮膜の厚みの数値範囲内において、高い光沢度、高い可視光全反射率、および高い写像性が実現され得ることを確認した。

本発明者らは、今回見出された上記傾向は、上述した干渉により正反射率が増減を繰り返しながら徐々に減少をしていく傾向とは異なるため、干渉作用とは異なる作用により実現されていると考えている。

上記アルミニウム積層体において、陽極酸化皮膜は好ましくは硫酸陽極酸化皮膜である。

上記アルミニウム積層体を製造する方法は、第１面の表面粗さＲａが１５ｎｍ以下であるアルミニウム基材を準備する工程と、アルミニウム基材の第１面上に、硫酸を含む電解液を用いて、交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である第１陽極酸化皮膜を形成する工程とを備える。

本発明によれば、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性、高い表面硬度及び高い曲げ加工性を有するアルミニウム積層体を提供することができる。

本実施の形態に係る反射部材を示す概略断面図である。 本実施の形態に係る反射部材の製造方法を示すフローチャートである。 本実施の形態に係る反射部材の変形例を示す概略断面図である。 本実施の形態に係る反射部材の製造方法の変形例を示すフローチャートである。 実施例に係る反射部材の曲げ加工性を示すグラフである。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付しその説明は繰返さない。
［アルミニウム積層体の構成］
図１に示されるように、本実施の形態に係るアルミニウム積層体１０は、アルミニウム基材１と、第１陽極酸化皮膜２とを備える。

アルミニウム基材１は、第１面１Ａ、および第１面１Ａと反対側に位置する第３面１Ｂを有している。アルミニウム基材１を構成する材料は、アルミニウム（Ａｌ）を含む。アルミニウム基材１は、例えばアルミニウム箔である。

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、アルミニウム純度が９９．９質量％以上である。

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄（Ｆｅ）を含む。鉄の含有量が０．００１質量％未満であると、アルミニウム基材１の強度が低下する。一方で、鉄はアルミニウムへの固溶度が小さいため、アルミニウムの鋳造時にＦｅＡｌ_３等の金属間化合物が晶出しやすくなる。これらの晶出物は、アルミニウム素地よりも可視光領域の反射率が低く、アルミニウム基材としての光沢度および可視光反射率を低下させる原因になる。また、ＦｅＡｌ_３等の金属間化合物が存在すると、陽極酸化皮膜が不均一となり、陽極酸化皮膜の透明性が著しく悪くなり反射率が低下するだけでなく、陽極酸化皮膜の硬度も低下する。このため、鉄の含有量は０．０５２質量％以下にする必要がある。

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、例えば０．００１％質量％以上０．０９質量％以下のシリコン（Ｓｉ）を含んでいてもよい。シリコンはアルミニウムへの固溶度が大きく晶出物を形成し難いため、晶出物を生成させない程度の含有量であれば可視光領域の反射率を低下させることがない。また、シリコンが０．００１％質量％以上固溶されたアルミニウム基材１の機械的強度は、シリコンが固溶されていないアルミニウム基材１の機械的強度と比べて、固溶強化によって向上されている。そのため、例えばシリコンが０．００１％質量％以上固溶されたアルミニウム基材１は、シリコンが固溶されていないアルミニウム基材１と同等の機械的強度を維持しながらもより厚みの薄い箔の圧延も容易にすることができる。一方で、アルミニウム基材１が０．０９質量％よりも多いシリコンを含む場合、第１陽極酸化皮膜２の厚みを厚くすると第１陽極酸化皮膜２の透明性が低下し反射率が低下する。さらに、第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの硬度も低下する。そのため、シリコンの含有量は０．０９質量％以下にする必要がある。

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層におけるＡｌ、Ｆｅ、およびＳｉ以外の残部は、不純物からなる。該不純物は、例えば不可避不純物であるが、不可避不純物の他に、光沢度、可視光の全反射率、写像性、および耐食性に大きく影響しない微量の不純物を含んでいてもよい。上記不純物は、例えば銅（Ｃｕ）、マンガン（Ｍｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、亜鉛（Ｚｎ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ホウ素（Ｂ）、ガリウム（Ｇａ）、およびビスマス（Ｂｉ）等からなる群から選択される少なくとも１つの元素を含む。各不純物元素は、個々の含有量が０．０１質量％以下である。

アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む上記表層は、第１面１Ａと交差する方向（深さ方向）において第１面１Ａから５μｍまでの領域である。好ましくは、第１面１Ａの表面粗さＲａは、１５ｎｍ以下である。アルミニウム基材１の第１面１Ａをこのように小さな表面粗さＲａとする方法としては、物理的な研磨、電解研磨、化学研磨等の研磨加工、あるいは、表面が鏡面状態である圧延ロールを用いた冷間圧延、等がある。発明者によれば、電解研磨および化学研磨は湿式法であり、第１面１Ａの研磨前の表面粗さＲａが２９ｎｍ以上と粗い場合には、該第１面を表面粗さＲａが１５ｎｍ以下となるまで研磨しても、その表面凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ以上となる。この場合、当該第１面上に形成される陽極酸化皮膜の第２面の表面凹凸間距離ＲＳｍも３０μｍ以上となり、該第２面は高い写像性を有していない。好ましくは、物理的な研磨または冷間圧延により、第１面１Ａの表面粗さＲａが１５ｎｍ以下とされる。このような方法によれば、研磨前の第１面１Ａの表面粗さＲａが２９ｎｍ以上である場合にも、当該方法により表面粗さＲａとともに表面凹凸間距離ＲＳｍも小さく抑えられた研磨面を得ることができる。そのため、当該第１面１Ａ上に形成された第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ未満とされ得るため、第２面２Ａは高い写像性を有することができる。

上記表層以外のアルミニウム基材１の他の部分の組成は特に制限されるものではなく、アルミニウム基材１は例えばクラッド材として構成されていてもよい。

第１陽極酸化皮膜２は、第１面１Ａに接して形成されている。第１陽極酸化皮膜２は、第１面１Ａに接している面と、第１面１Ａと交差する方向において第１面１Ａから離れた位置にある第２面２Ａとを有している。第１陽極酸化皮膜２は、アルミニウム基材１の第１面１Ａに対する陽極酸化処理により形成されている。陽極酸化処理は、公知の陽極酸化処理方法であればよく、例えば硫酸、ホウ酸、シュウ酸、およびリン酸の少なくともいずれかを含む電解液を用いた陽極酸化処理である。好ましくは、第１陽極酸化皮膜２は、硫酸を含む電解液を用いた陽極酸化処理により形成されている。すなわち、好ましくは、第１陽極酸化皮膜２は硫酸陽極酸化皮膜である。好ましくは、第１陽極酸化皮膜２は透明である。

第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、９μｍ以上２６μｍ以下である。第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、第１陽極酸化皮膜２において第１面１Ａと接している面と第２面２Ａとの間の距離である。陽極酸化皮膜の上記交差する方向の厚みが９μｍよりも小さい場合には、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光とが干渉する。この場合、陽極酸化皮膜の第２面上に干渉色もしくは白色の濁りが生じ、アルミニウム積層体は高い光沢度、高い可視光全反射率、もしくは高い写像性を実現できない。また、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが９μｍよりも小さい場合には、屋外で使用されるアルミニウム積層体１０に要求される耐食性を満足し得ず、また第２面２Ａの表面硬度も低下する。

一方、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが２６μｍよりも大きい場合には、陽極酸化処理中に陽極酸化皮膜の溶解も進むため、第１陽極酸化皮膜２の膜質が低下し、第２面２Ａの表面硬度が低下する。

そのため、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であることにより、その第２面２Ａは高い光沢度、高い可視光全反射率、および高い写像性を有しながらも高い表面硬度を有している。

好ましくは、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みは、１２μｍ以上２０μｍ以下である。このような第１陽極酸化皮膜２を備えるアルミニウム積層体１０は、生産性が向上されているとともに、第２面２Ａにおいて高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有し、かつ高い耐食性を有している。

第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａは、２０ｎｍ以下である。アルミニウム積層体１０に入射した光の一部は第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａで反射し、残部は第２面２Ａで屈折しアルミニウム基材１の第１面１Ａに到達する。第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍを超える場合には、第２面２Ａで反射した光または第２面２Ａで屈折した光が拡散することにより、第２面２Ａの光沢度および全反射率が低下する。第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であれば、第２面２Ａで反射した光または第２面２Ａで屈折した光の拡散を抑制でき、第２面２Ａは高い光沢度および高い全反射率を有している。なお、第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａはＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術平均粗さＲａを、面に対して適用できるように三次元に拡張して算出された値である。

第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍは、３０μｍ未満である。第２面２Ａ内において互いに直交する任意の２方向での平均凹凸間距離ＲＳｍが、３０μｍ未満である。例えばアルミニウム基材１が圧延工程を経て製造されている場合、アルミニウム基材１の圧延方向（ＲＤ方向）とこれと直交する方向（ＴＤ方向）での第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが、３０μｍ未満である。第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上である場合には、第２面２Ａの写像性が低下する。第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満であれば、該第２面２Ａは高い写像性を有している。なお、平均凹凸間距離はＪＩＳ規格ＪＩＳ Ｂ０６０１ （２００１年版）によって規定されている。

第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａおよび平均凹凸間距離ＲＳｍを上記数値範囲とするために、アルミニウム基材１の第１面１Ａの表面粗さＲａが小さくされているのが好ましい。好ましくは、上述のように、アルミニウム基材１の第１面１Ａの表面粗さＲａが１５ｎｍ以下である。

アルミニウム積層体１０の上記交差する方向の全体の厚みの値Ｔ１（単位：μｍ、図１参照）と、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みの値Ｔ２（単位：μｍ、図１参照）とが、関係式Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する。本発明者らは、上記関係式を満足しない、Ｔ１＋１０×Ｔ２が４５０を超えるアルミニウム積層体は、最小直径を１００ｍｍ以下とする曲げ加工が施された場合に、陽極酸化皮膜にクラックが生じることを確認した。一方で、本発明者らは、上述した特徴を備え、かつ上記関係式を満たすアルミニウム積層体は、最小直径を１００ｍｍ以下とする曲げ加工が施された場合にも、クラックの発生が抑制されていることを見出した。

具体的には、本発明者らは、高い光沢度、高い全反射率、高い写像性、高い耐食性、高い表面硬度、および高い曲げ加工性を有するアルミニウム積層体について鋭意検討した。その結果、アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層が、純度９９．９質量％以上であるアルミニウムと、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄とを含み、第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満であり、第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であるアルミニウム積層体が、高い光沢度、高い全反射率、高い写像性、高い耐食性、および高い表面硬度を有することを確認した。さらに、本発明者らは、このようなアルミニウム積層体の曲げ加工性、すなわち曲げ加工が施されたときのクラックの発生し難さが、アルミニウム積層体の全体の厚みの値Ｔ１および第１陽極酸化皮膜２の厚みの値Ｔ２と相関することを見出した（詳細は、実施例に後述する）。

アルミニウム積層体１０の上記Ｔ１および上記Ｔ２は、第１陽極酸化皮膜２の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であって、かつ上記関係式Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する限りにおいて任意に設定され得る。アルミニウム積層体１０は、曲げ加工性を向上させる観点から言えば、好ましくはＴ１＋１０×Ｔ２≦４００を満足し、より好ましくはＴ１＋１０×Ｔ２≦３５０を満足し、より好ましくはＴ１＋１０×Ｔ２≦３００を満足する。

アルミニウム積層体１０の上記Ｔ１＋１０×Ｔ２の下限値は、少なくとも第１陽極酸化皮膜２の上記交差する方向の厚みＴ２を９μｍ以上とすることができるように、設定されていればよい。上記Ｔ１＋１０×Ｔ２の下限値は、例えば、１５０であってもよし、１００であってもよい。

なお、図１に示されるアルミニウム積層体１０では、アルミニウム基材１の上記交差する方向の厚みの値をＴ３（単位：μｍ）とすると、上記値Ｔ１は、アルミニウム基材１の厚みの値Ｔ３と第１陽極酸化皮膜２の厚みの値Ｔ２との和として表される。図１に示されるアルミニウム積層体１０は、関係式Ｔ３＋１１×Ｔ２≦４５０を満足する。

＜アルミニウム積層体の製造方法＞
次に、本実施の形態に係るアルミニウム積層体の製造方法の一例について説明する。図２に示されるように、本実施の形態に係るアルミニウム積層体の製造方法は、鋳塊を準備する工程（Ｓ１０）、鋳塊に均質化処理を行う工程（Ｓ２０）、鋳塊を熱間圧延する工程（Ｓ３０）、熱間圧延により得られた熱延材を冷間圧延する工程（Ｓ４０）、冷間圧延により得られた冷延材を最終仕上げとして冷間圧延（以下、最終仕上げ冷間圧延という）してアルミニウム基材を形成する工程（Ｓ５０）、および陽極酸化皮膜を形成する工程（Ｓ６０）を備える。

まず、鋳塊を準備する（工程（Ｓ１０））。具体的には、所定の組成のアルミニウムの溶湯を調製し、アルミニウムの溶湯を凝固させることにより鋳塊を鋳造（例えば半連続鋳造）する。溶湯中のＦｅ、Ｍｎ、Ｓｉなどの金属元素の含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるアルミニウム純度が９９．９質量％以上となるように制御されている。溶湯中のＦｅの含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるＦｅの含有量が０．００１質量％以上０．０５２質量％以下となるように制御されている。好ましくは、溶湯中のＳｉの含有量は、アルミニウム基材１の上記表層におけるＦｅの含有量が０．００１％質量％以上０．０９質量％以下となるように制御されている。

次に、得られた鋳塊に均質化熱処理を行う（工程（Ｓ２０））。均質化熱処理は、一般的な操業条件の範囲内であればよいが、例えば加熱温度を４００℃以上６３０℃以下、加熱時間を１時間以上２０時間以下とする条件で行われる。

次に、鋳塊を熱間圧延する（工程（Ｓ３０））。本工程により、所定の厚みＷ１を有する熱延材が得られる。熱間圧延は、１回または複数回行われてもよい。なお、連続鋳造によって薄板のアルミニウム鋳塊を製造する場合には、当該薄板状の鋳塊は本工程を介さずに冷間圧延されてもよい。

次に、熱間圧延により得られた熱延材を冷間圧延する（工程（Ｓ４０））。本工程により、所定の厚みＷ２を有する冷延材（最終仕上げ冷間圧延工程（Ｓ５０）における被圧延材）が得られる。本工程において、冷間圧延はたとえば中間焼鈍工程を挟んで複数回行われる。たとえば、まず熱延材に対し第１冷間圧延工程（Ｓ４０Ａ）を実施して熱延材の厚みＷ１よりも薄く冷延材の厚みＷ２よりも厚い圧延材を形成する。次に、得られた圧延材に対し中間焼鈍工程（Ｓ４０Ｂ）を施す。中間焼鈍は、一般的な操業条件の範囲内であればよいが、例えば焼鈍温度を５０℃以上５００℃以下、焼鈍時間を１秒以上２０時間以下とする条件で行われる。次に、焼鈍後の圧延材に対し第２冷間圧延工程（Ｓ４０Ｃ）を実施して厚みＷ２の冷延材を形成する。

次に、冷延材を最終仕上げ冷間圧延する（工程（Ｓ５０））。本工程では、圧延ロールを用いて被圧延材を最終仕上げ冷間圧延する。圧延ロールは被圧延材と接触して圧延するロール面を有している。被圧延材を挟んで配置される一対の圧延ロールのうち、少なくとも一方の圧延ロールのロール面の表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さが５０ｎｍより大きい圧延ロールを用いて被圧延材を圧延すると、得られるアルミニウム基材は第１面の表面粗さＲaは２０ｎｍ以上となる。本工程で使用する圧延ロールの表面粗さＲａは、できるだけ小さいことが好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以下である。このようにして、アルミニウム基材１が準備される。

次に、得られたアルミニウム基材１の第１面１Ａ上に第１陽極酸化皮膜２が形成される（工程（Ｓ６０））。本工程（Ｓ６０）は一般的に公知となっている陽極酸化処理方法により実施され得る。陽極酸化処理は、例えば硫酸浴、ホウ酸浴、シュウ酸浴、およびリン酸浴からなる群から選択される少なくとも１つを電解液とし、これにアルミニウム基材１を浸漬させて陽極とし、該電解液中に浸漬させた他の電極を陰極とし、これらの間を通電することにより行われる。陽極酸化処理方法の各条件は、第１陽極酸化皮膜２の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下、第２面２Ａの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下、第２面２Ａの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満となるように、適宜選択される。好ましくは、硫酸浴が電解液に用いられる。このようにして、図１に示される本実施の形態に係るアルミニウム積層体１０を得ることができる。

＜変形例＞
アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層は、Ｓｉを含んでいなくてもよい。上述のように、Ｓｉはアルミニウム基材１の機械的強度の向上に寄与するが、厚み等他のパラメータによって要求される機械的強度を確保し得る場合には、アルミニウム基材１はＳｉを含有していなくてもよい。この場合、アルミニウム基材１の第１面１Ａを含む表層におけるＡｌおよびＦｅ以外の残部を構成する上記不純物の含有量の合計は、０．１０質量％以下であればよい。

図３に示されるように、アルミニウム積層体１１は、アルミニウム基材１の上記第３面１Ｂに接するように設けられている第２陽極酸化皮膜３をさらに備えていてもよい。第２陽極酸化皮膜３は、上記交差する方向において、第３面１Ｂから離れた位置にある第４面３Ｂを有している。つまり、アルミニウム積層体１１は、アルミニウム基材１と、アルミニウム基材１を挟むように設けられた第１陽極酸化皮膜２および第２陽極酸化皮膜３を備えている。

図３に示されるアルミニウム積層体１１では、上記全体の厚みの値Ｔ１は、アルミニウム基材１の厚みの値Ｔ３（単位：μｍ）、第１陽極酸化皮膜２の厚みの値Ｔ２（単位：μｍ）、および第２陽極酸化皮膜３の上記交差する方向の厚みの値Ｔ４（単位：μｍ）との和として表される。第２陽極酸化皮膜３の厚み、第１陽極酸化皮膜２の厚み以下である。第２陽極酸化皮膜３の厚みは、９μｍ以上２６μｍ以下である。

アルミニウム積層体１１は、関係式Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する。すなわち、アルミニウム積層体１１は、関係式Ｔ１＋１０×Ｔ４≦Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する。上記関係式を満足するアルミニウム積層体１１は、実施の形態１に係るアルミニウム積層体１０と同様の効果を奏することができ、高い曲げ加工性を有している。好ましくは、アルミニウム積層体１１は、関係式Ｔ１＋１０×（Ｔ２＋Ｔ４）≦４５０を満足する。

アルミニウム積層体１１において、アルミニウム基材１の第３面１Ｂを含む表層は、第１面１Ａを含む表層と同様に、アルミニウム純度が９９．９質量％以上であり、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄を含む。このようなアルミニウム基材１は、上述したアルミニウム積層体１０の製造方法の上記工程（Ｓ１０）〜（Ｓ５０）と同様の方法により準備され得る。

アルミニウム積層体１１において、第２陽極酸化皮膜３は、上記第１陽極酸化皮膜２と同様に、第４面３Ｂの表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、第４面３Ｂの平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。このような第２陽極酸化皮膜３は、上述したアルミニウム積層体１０の製造方法の上記工程（Ｓ６０）と同様の方法により形成され得る。このようなアルミニウム積層体１１では、第１陽極酸化皮膜２の第２面２Ａおよび第２陽極酸化皮膜３の第４面３Ｂが、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有する。

上記アルミニウム積層体１１において、アルミニウム基材１の第３面１Ｂを含む表層の組成は、第１面１Ａを含む表層の組成と異なっていてもよいが、好ましくは同じである。アルミニウム基材１は、例えばクラッド材の様に、第１面１Ａを含む表層および第３面１Ｂを含む表層の各組成と、これらに挟まれている中間層の組成とが異なっていてもよい。

図４に示されるように、上記アルミニウム積層体の製造方法において、上記工程（Ｓ５０）の後であって上記工程（Ｓ６０）の前に、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材を研磨加工する工程（Ｓ７０）が実施されてもよい。本工程（Ｓ７０）では、上記アルミニウム基材において第１面１Ａとなるべき表面が研磨加工され、第１面１Ａを有するアルミニウム基材１が形成される。上記アルミニウム積層体１１の製造方法においては、第１面１Ａとなるべき表面および第３面１Ｂとなるべき表面が研磨加工され、第１面１Ａおよび第３面１Ｂを有するアルミニウム基材１が形成される。研磨加工方法は、物理的な研磨、電解研磨、および化学研磨等のうちから選択され得るが、これに限られるものではない。好ましくは、本工程（Ｓ７０）では、物理的な研磨が実施される。

上記アルミニウム積層体の製造方法において、上記工程（Ｓ５０）の後であって上記工程（Ｓ６０）の前に、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材を所定の形に成形する工程が実施されてもよい。もしくは上記工程（Ｓ６０）の後に、工程（Ｓ６０）により得られた上記アルミニウム積層体１０，１１を成型する工程が実施されてもよい。また、上記工程（Ｓ６０）の後に、アルミニウム積層体１０の少なくとも１つの面上に、例えばアルミニウム基材１の第３面１Ｂ上に、皮膜を形成する工程が実施されてもよい。該皮膜を構成する材料は、樹脂、金属、およびセラミックス等からなる群から選択される少なくとも１つである。上記皮膜は例えば接着層であり、上記皮膜を形成する工程の後に、該皮膜を介してアルミニウム積層体１０，１１を他の部材または壁等に接着させる工程が実施されてもよい。また、上記工程（Ｓ６０）の後に、工程（Ｓ６０）により得られた上記アルミニウム積層体１０，１１の第１陽極酸化皮膜２および第２陽極酸化皮膜３の少なくともいずれかのポーラス部に、着色処理および封孔処理を施してもよいし、封孔処理のみを施してもよい。なお、着色処理は、任意の方法であればよいが、例えば染料や顔料を吸着させる方法であってもよいし、二次電解着色法であってもよい。

以下に説明するように本実施の形態の実施例と比較例の反射部材の試料を作製し、それらの光沢度、全反射率、写像性および耐食性を評価した。

まず、表１および表２に示されるアルミニウム純度およびＦｅの含有量が異なるアルミニウムを用いて、以下に示す製造工程に従って、実施例および比較例のアルミニウム基材を作製した。

ＤＣ鋳造によって得られたアルミニウムの鋳塊を加熱炉にて均質化熱処理を行った。その後、厚みが約６．５ｍｍになるまで熱間圧延を行った。得られた熱間圧延材に対し、厚みが所定の値になるまで、複数回の冷間圧延を行った。複数回の冷間圧延は中間焼鈍を挟んで実施し、表１および表２に示す厚みのアルミニウム基材を作製した。

この際、実施例１〜９，１２〜１８および比較例１〜１２，２７，２８については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが４０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。実施例１０，１１および比較例１３，１４については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが５０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。比較例１５〜２２については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが１００ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。比較例２３〜２６については、最終仕上げ冷間圧延において表面粗さＲａが１５０ｎｍの圧延ロールを使用して圧延を行った。

さらに、実施例８，９および比較例１１、１２、１９〜２２については、最終仕上げ冷間圧延により得られたアルミニウム基材の第１面となるべき面（圧延ロールに圧延された面）に対し、電解研磨を行った。電解研磨は、６０体積％のりん酸と２０体積％硫酸とを含み浴温度７０℃の水溶液中に、上記アルミニウム基材を電流密度２０００Ａ／ｍ²の条件で２０分浸漬させることにより行った。

なお、各試料に対し、均質化熱処理は、加熱温度を４００℃以上６３０℃以下、加熱時間を１時間以上２０時間以下とする条件で行った。各試料に対し、中間焼鈍は、例えば焼鈍温度を５０℃以上５００℃以下、焼鈍時間を１秒以上２０時間以下とする条件で行った。各実施例のアルミニウム基材の第１面の表面粗さＲａは１５ｎｍ以下であった。各実施例のアルミニウム基材の第１面の平均凹凸間距離ＲＳｍは３０μｍ以下であった。

上記のようにして得られたアルミニウム基材に対し、陽極酸化処理を行った。電解液は、１５体積％の硫酸を含み浴温度２１℃の水溶液とした。各試料を当該電解液に浸漬させて陽極とし、これと陰極との間に電流密度１３０ｍＡ／ｍ²の電流を所定時間流し、陽極酸化処理を行った。各試料の陽極酸化処理時間は、所定の厚みの陽極酸化被覆層が得られる時間とした。つまり、各試料に対する陽極酸化処理条件は、陽極酸化処理時間以外は同等とした。

さらに、全試料に対し、同等の条件で封孔処理を行った。封孔処理は、陽極酸化皮膜が形成されている各試料を、濃度５ｇ／Ｌの酢酸ニッケルと濃度５ｇ／Ｌの硼酸とを含み浴温度９０℃の水溶液中に２０分浸漬させ、次いで温度９８℃の純水中に２０分浸漬させることにより行った。

このようにして作成された各試料を、以下の評価方法により評価した。評価結果は表１〜表４に示される。

＜評価方法＞
得られた陽極酸化皮膜の厚みはフィッシャー・インストルメンツ製渦電流式膜厚計ＩＳＯＳＣＯＰＥ ＦＭＰ１０を用い、ＦＴＡ３．３Ｈプローブで測定した。また、得られたアルミニウム積層体の厚みは、株式会社ミツトヨ製デジタル式マイクロメータＭＤＣ−ＭＸ ＩＰ６５により測定した。

原子間力顕微鏡による表面凹凸の観察は、株式会社日立ハイテクサイエンス製の走査型プローブ顕微鏡ＡＦＭ５０００ＩＩを用いて、ダイナミックフォースモード方式（非接触）による表面形状を８０μｍ×８０μｍの矩形の視野で行った。得られた観察結果に対して、最小二乗近似によって曲面を求めてフィッティングを行う３次曲面自動傾き補正で試料の傾きを補正し、表面粗さＲａを測定した。表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術平均粗さＲａを、観察された表面全体に対して適用できるように三次元に拡張して算出された値である。

表面凹凸間距離ＲＳｍは株式会社東京精密製ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄを用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１年版）およびＩＳＯ４２８７（１９９７年版）で定義されている算術表面凹凸間距離ＲＳｍを測定した。測定種別は粗さ測定で、形状除去は最小二乗直線法で、評価長さは４ｍｍで、カットオフ種別は２ＲＣ位相非補助で、カットオフ波長λcは、本測定で得られるＲａが０．１μｍ未満の場合は０．２５ｍｍとし、０．１μｍ以上の場合は０．８ｍｍとして測定した。測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。

光沢度の測定は、日本電色工業株式会社製Ｇｌｏｓｓ ｍｅｔｅｒ ＶＧ７０００を用い、光入射角６０°で光沢度を測定した。光沢度の測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。光沢度が高いほど金属光沢感が得られている。

全反射率の測定は、日本分光株式会社製紫外可視分光光度計Ｖ５７０を用い、Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社製積分球用標準白板スペクトラロンをリファレンスとして積分球での全反射率を波長域２５０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲で測定した。得られた全反射率測定値から、波長域４００ｎｍ〜８００ｎｍの可視光の平均値を求めた。全反射率の測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、これらの平均値として全反射率を評価した。

写像性の評価にはＲＨＯＰＯＩＮＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ製オールインワン光沢計ＩＱ３を用い、ＡＳＴＭ Ｄ５７６７に準じたＤＯＩ値を写像性として評価した。測定は圧延方向（ＲＤ）と圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）との二つの方向で測定し、それぞれの方向の値を評価した。

表面硬度はビッカース硬度により評価した。得られた各実施例及び比較例の陽極酸化皮膜の第２面に対して交差する方向（深さ方向）のビッカース硬度を測定した。ビッカース硬度は、表面の傷付き難さを指標として、島津製作所製ビッカース硬度計ＨＭＶ−１を用い、ダイヤモンド圧子による圧下で、試験力が４９０.３ｍＮで５秒間押し込んだ後のビッカース硬度測定試験を行い、ＨＶ０．０５値を得た。

耐食性はキャス試験を行い、以下の内容で評価した。キャス試験はＪＩＳ Ｈ８６８１−２（１９９９年版）に記載の試験条件で実施し、試験時間はＪＩＳ Ｈ８６０１（１９９９年版）の６．２．２節に記載の用途例を参考に、屋外使用を想定した３２時間とした。評価はＪＩＳ Ｈ８６８１−２（１９９９年版）に記載の基準を用い、ＪＩＳ Ｈ８６０１（１９９９年版）６．３節に記載のとおり、レイティングナンバー９以上を合格（表３，４中Ａ）、レイティングナンバー９未満を不合格（表３，４中Ｆ）とした。

曲げ加工性は、上述した曲げ加工が施された各試料に対し、各陽極酸化皮膜のクラックの有無を観察することにより、評価した。

具体的には、まず、各実施例及び比較例の試験片を圧延方向（ＲＤ）１００ｍｍ、圧延方向に対して垂直な方向（ＴＤ）に１５０ｍｍ切り出した。さらに、段階的に異なる直径を有する複数の円筒を準備した。次に、切り出された各小片を、直径が最も長い円筒の外周面に沿わせ、かつ１０秒間保持した。次に、このような曲げ加工後の陽極酸化皮膜表面を目視観察した。目視観察において陽極酸化皮膜にクラックが確認されなかったものは、先に用いた円筒よりも直径が短い円筒の外周面に沿わせ、１０秒間保持した後の陽極酸化皮膜表面を目視観察した。このように、陽極酸化皮膜にクラックが確認されなかったものについては、段階的に直径がより短い円筒を用いて上記曲げ加工および上記評価を実施した。表３，４中の最小直径は、各試験片について、陽極酸化皮膜にクラックが確認されなかった上記曲げ加工に用いられた円筒の直径の最小値（単位：ｍｍ）を示す。さらに、図５は、上記曲げ加工試験の結果を示すグラフであり、横軸が各試料の上記関係式の左辺Ｔ１＋１０×Ｔ２の値を示し、縦軸が表３および表４中の最小直径（単位：ｍｍ）を示す。

＜評価結果＞

図５に示されるように、本発明者らは、実施例１〜１８および比較例１〜２８の各試料について、曲げ加工試験において陽極酸化皮膜にクラックが確認されなかった上記曲げ加工に用いられた円筒の直径の最短値（単位：ｍｍ）が、アルミニウム基材および陽極酸化皮膜の上記交差する方向の全体の厚みの値をＴ１、陽極酸化皮膜の上記交差する方向の厚みの値をＴ２としたときの値Ｔ１＋１０×Ｔ２と相関することを見出した。相関係数Ｒ²は０．９２超であった。図５に示されるように、上記関係式を満足する実施例１〜１８は、少なくとも直径が１００ｍｍである円筒の外周面に沿って曲げ加工されても、その第１陽極酸化皮膜２にクラックが確認されなかった。さらに、上記値Ｔ１＋１０×Ｔ２が３００以下である実施例６，８，１２，１３，１５は、直径が８０ｍｍである円筒の外周面に沿って曲げ加工されても、その第１陽極酸化皮膜２にクラックが確認されなかった。一方、上記関係式を満足しない比較例９，１０，１６〜１８，２０〜２２，２７，２８は、直径が１００ｍｍ以上である円筒の外周面に沿って曲げ加工されたときに、陽極酸化皮膜にクラックが確認された。

本発明者らは、陽極酸化皮膜の厚みＴ２が９μｍ以上と比較的厚いアルミニウム積層体であっても、上記関係式を満足している限りにおいて高い曲げ加工性が実現されることを確認した。

例えば実施例１７は、比較例９と同様に陽極酸化皮膜の厚みが１７．５μｍであるが、比較例９と比べてアルミニウム基材の厚みが１００μｍ薄い。上記関係式を満足する実施例１７は、曲げ加工試験において直径が７３ｍｍである円筒の外周に巻き回したときにもクラックが確認されなかった。一方、上記関係式を満足しない比較例９は、曲げ加工試験において直径が１００ｍｍである円筒の外周に巻き回したときにクラックが確認された。

本発明者らは、上記関係式中の左辺Ｔ１＋１０×Ｔ２の係数１および１０は、アルミニウム基材および陽極酸化皮膜の曲げ加工性に対する影響度の違いに関係していると考えている。陽極酸化皮膜は、アルミニウム基材と比べて延性が低い。そのため、陽極酸化皮膜は、アルミニウム基材と比べて、曲げ加工性に対する影響度が高いと考えられる。例えば、アルミニウム積層体の厚みが数十μｍ増減された場合であって、その増減がアルミニウム基材の厚みの増減に起因する場合には、その増減によっては曲げ加工性は大きく変わらない。これに対し、アルミニウム積層体の厚みが数十μｍ増減された場合であって、その増減が陽極酸化皮膜の厚みの増減に起因する場合には、その増減によっては曲げ加工性は大きく変わる。このことは、本評価結果に表されている。

例えば実施例７は、実施例１２と比べてアルミニウム基材１が１４０μｍ厚くされているが、陽極酸化皮膜の厚みが等しいものとされており、実施例１２と同様に上記関係式を満たすものである。実施例７は、曲げ加工試験において直径が９６ｍｍである円筒の外周に巻き回したときにもクラックが確認されなかった。

一方で、例えば比較例９は、実施例６、７と比べてアルミニウム基材の厚み等は等しいものとされているが上記厚みＴ２のみが約８μｍ厚くされており、上記関係式を満たさないものである。上述のように、比較例９は、曲げ加工試験において直径が１００ｍｍである円筒の外周に巻き回したときにクラックが確認された。

実施例１〜１８は、アルミニウム純度が９９．９質量％以上であり、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄を含むアルミニウム基材と、厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であり、第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満である。

このような実施例１〜１８は、光沢度がＲＤ方向およびＴＤ方向において６３％以上、可視光全反射率が８３％以上、ＤＯＩ値がＲＤ方向およびＴＤ方向において８０以上であり、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性および高い曲げ加工性を有していた。さらに、実施例１〜１８は、ビッカース硬度３００ＨＶ以上、キャス試験に合格しており、高い耐食性を有すると共に、実施例１〜１８においては、陽極酸化被膜の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下の範囲内での増加に伴って、光沢度、可視光全反射率、および写像性が低下するという傾向は確認されなかった。

これに対し、比較例１〜１２，２７，２８は、実施例１〜９，１２〜１８と最終仕上げ冷間圧延の条件が同一であるが、少なくともアルミニウムの化学組成、アルミニウム基材の厚み、電解研磨の有無、陽極酸化皮膜の厚み、および上記関係式のいずれかが上述した各数値範囲を満足しないものである。

アルミニウム基材のアルミニウム純度が９９．９質量％以上であるが、アルミニウム基材のＦｅの含有量が０．０５２質量％より多い比較例１は、光沢度が６３％未満であり、高い光沢度を有していなかった。これは、比較例１のアルミニウム基材の第１面にはＦｅを含む金属間化合物が多く晶出し、それによりアルミニウム基材の光沢度が低下したためと考えられる。

アルミニウム基材のアルミニウム純度が９９．９質量％より低く、かつアルミニウム基材のＦｅの含有量が０．０５２質量％より多い比較例２〜４は、光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い全反射率を有していなかった。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である比較例４は、ＲＤ方向およびＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い写像性を有していなかった。これは、比較例２〜４のアルミニウム基材の第１面にはＦｅを含む金属間化合物が多く晶出していることにより、アルミニウム基材の光沢度および全反射率が低下するとともに、陽極酸化皮膜の透明性が著しく低下するためと考えられる。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ未満である比較例２および３は、陽極酸化皮膜のビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。これは、アルミニウム基材の上記晶出物の存在により陽極酸化皮膜の膜質が不均一となっている上、陽極酸化皮膜が十分に厚く形成されていないためと考えられる。

実施例６、７とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例５〜８は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。さらに、陽極酸化皮膜の厚みが０．５μｍ以下である比較例５および６は、可視光全反射率が８３％未満であり、高い可視光全反射率を有していなかった。これは、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光との干渉によると考えられる。

実施例６、７とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが２６μｍ超えである比較例１０は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下であり、表面硬度が低く、十分に高い耐食性（耐擦傷性）を有していなかった。

実施例８，９とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例１１，１２は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。

実施例１０、１１とは陽極酸化皮膜の厚みのみが異なるものとされ、該厚みが９μｍ未満である比較例１３，１４は、ＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い可視光全反射率を有していなかった。これは、陽極酸化皮膜の第２面に入射した光のアルミニウム基材の第１面での反射光と、該入射光の第２面での反射光との干渉によると考えられる。さらに、比較例１３，１４は、ビッカース硬度が２９０ＨＶ以下で、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。

比較例１５〜１８は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ超え、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であった。該比較例１５〜１８は、ＲＤ方向およびＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満であり、高い光沢度および高い可視光全反射率を有していなかった。さらに、比較例１５〜１８においては陽極酸化皮膜の厚みが厚くなるほどＴＤ方向のＤＯＩ値が低下する傾向が確認された。陽極酸化皮膜の厚みが７．２μｍ以上である比較例１６〜１８はＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い写像性を有していなかった。

比較例１９〜２２は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａは２０ｎｍ以下であるが、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であり、特に第２面のＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍはＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍよりも長く、５７μｍ以上であった。該比較例１９〜２２は、ＴＤ方向のＤＯＩ値が８０未満であり、高い写像性を有していなかった。さらに、比較例１９〜２２においては陽極酸化皮膜の厚みが薄くなるほどビッカース硬度が低下する傾向が確認された。陽極酸化皮膜の厚みが９μｍ未満である比較例１９，２０はビッカース硬度が２９０ＨＶ以下で、キャス試験に不合格であり、高い耐食性を有してなかった。

比較例２３〜２６は、陽極酸化皮膜の第２面の表面粗さＲａが７４ｎｍ超え、第２面のＲＤ方向およびＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ以上であった。特に、比較例２３〜２６の第２面のＴＤ方向の平均凹凸間距離ＲＳｍは３００μｍ以上であった。該比較例２２〜２５は、ＲＤ方向およびＴＤ方向の光沢度が６３％未満、可視光全反射率が８３％未満、ＴＤ方向のＤＯＩ値が８０以下であり、高い光沢度および高い可視光全反射率、および高い写像性を有していなかった。

以上の結果より、本実施の形態によって、高い光沢度、高い全反射率および高い写像性を有するとともに、高い耐食性を有するアルミニウム積層体を提供できることが確認された。本実施の形態に係るアルミニウム積層体は、台所周りや屋外等湿気や水分を多く含む腐食環境下で使用される照明の反射板や建築材料用パネルに特に好適である。

今回開示された実施の形態と実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は以上の実施の形態と実施例ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正と変形を含むものであることが意図される。

１ アルミニウム基材、１Ａ 第１面、１Ｂ 第３面、２ 第１陽極酸化皮膜、２Ａ 第２面、３ 第２陽極酸化皮膜、３Ｂ 第４面、４ 基板、１０，１１ アルミニウム積層体。

Claims (3)

1. 第１面を有するアルミニウム基材と、
   前記第１面に接して形成されており、かつ、前記第１面と交差する方向において前記第１面から離れた位置にある第２面を有する第１陽極酸化皮膜とを備えるアルミニウム積層体であって、
   前記アルミニウム基材の前記第１面を含む表層は、純度９９．９質量％以上であるアルミニウムと、０．００１質量％以上０．０５２質量％以下の鉄とを含み、
   前記第１陽極酸化皮膜の前記第２面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、
   前記第１陽極酸化皮膜の前記第２面の平均凹凸間距離ＲＳｍが３０μｍ未満であり、
   前記第１陽極酸化皮膜の前記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下であり、
   前記アルミニウム積層体の前記交差する方向の全体の厚みの値Ｔ１（単位：μｍ）と、前記第１陽極酸化皮膜の前記交差する方向の厚みの値Ｔ２（単位：μｍ）とが、関係式Ｔ１＋１０×Ｔ２≦４５０を満足する、アルミニウム積層体。
2. 前記第１陽極酸化皮膜は、硫酸陽極酸化皮膜である、請求項１に記載のアルミニウム積層体。
3. 請求項１または２に記載のアルミニウム積層体を製造する方法であって、
   前記第１面の表面粗さＲａが１５ｎｍ以下である前記アルミニウム基材を準備する工程と、
   前記アルミニウム基材の前記第１面上に、硫酸を含む電解液を用いて、前記交差する方向の厚みが９μｍ以上２６μｍ以下である第１陽極酸化皮膜を形成する工程とを備える、アルミニウム積層体の製造方法。

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