JP6970137B2 - 配線基板 - Google Patents
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Description
[1.第1実施形態]
[1−1.構成]
図1に示す配線基板1は、セラミック基板2と、電極パッド4とを備える。なお、図1では、1つの電極パッド4が図示されているが、配線基板1は、複数の電極パッド4を備えてもよい。
セラミック基板2は、図2に示すように、セラミックを主成分とする複数の絶縁層21,22,23,24と、複数の絶縁層21,22,23,24に配置された配線(図示省略)とを有する。
電極パッド4は、導体3と電気的に接続されると共に、セラミック基板2の表面(つまり、最表層の絶縁層21の表面)に配置されている。
外周部42は、平面視で電極パッド4において中央部41よりも外側の部位であり、電極パッド4の外縁を含む。
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1a)電極パッド4に設けられた複数の貫通孔4AのうちボイドVと重なった貫通孔4Aから、ボイドV内の残渣が気化したガスを排出することができる。そのため、加熱工程における電極パッド4の膨れが抑制される。その結果、電極パッド4の接続信頼性が高められる。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
以下に、本開示の効果を確認するために行った試験の内容とその評価とについて説明する。
貫通孔4Aの間隔を20μm、中央部41の幅を350μm、全体の平面寸法を920μm四方、厚みを16μmとした図1の複数の電極パッド4をセラミック基板上に形成した試料1−3を用意した。
厚みを5μmとした以外は、実施例1と同じ形状の複数の電極パッド4をセラミック基板上に形成した試料4−6を用意した。
貫通孔を有さない実施例1と同じ大きさの複数の電極パッドをセラミック基板上に形成した試料7を用意した。330℃で加熱し、膨れの有無を確認したところ、膨れが発生した電極パッドの割合は0.04%であった。
貫通孔を有さない実施例2と同じ大きさの複数の電極パッドをセラミック基板上に形成した試料8を用意した。330℃で加熱し、膨れの有無を確認したところ、膨れが発生した電極パッドの割合は1.6%であった。
実施例1,2と比較例1,2との結果から、複数の貫通孔によって電極パッドの膨れが抑制できることが示された。また、電極パッドの膨れは、電極パッドの厚みが小さい場合に発生しやすいことから、複数の貫通孔による膨れ抑制効果は、薄い電極パッドに対してより有効であることがわかる。
21,22,23,24…絶縁層、41…中央部、42…外周部。
Claims (5)
- セラミックを主成分とする絶縁層と、
前記絶縁層を厚み方向に貫通する導体と、
前記導体と電気的に接続されると共に、前記絶縁層の表面に配置された電極パッドと、
を備える配線基板であって、
前記電極パッドは、前記絶縁層の厚み方向において前記導体と重ならない位置に設けられると共に、前記電極パッドを厚み方向に貫通する複数の貫通孔を有し、
前記複数の貫通孔は、前記絶縁層の表面から前記電極パッドの外側に通じる空洞を有する、配線基板。 - 前記電極パッドは、
前記複数の貫通孔が設けられた中央部と、
前記中央部を囲むように配置されると共に、前記複数の貫通孔が設けられない外周部と、
を有する、請求項1に記載の配線基板。 - 前記複数の貫通孔の開口形状は、四角形である、請求項1又は請求項2に記載の配線基板。
- 前記絶縁層は、低温同時焼成セラミックを主成分とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の配線基板。
- 前記絶縁層は、前記表面に露出したボイドを有し、
前記複数の貫通孔のうち少なくとも1つの貫通孔は、前記絶縁層の厚み方向において前記ボイドと重なる、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の配線基板。
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