JP6967227B2 - 電極装置、プラズマ発生装置 - Google Patents
電極装置、プラズマ発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6967227B2 JP6967227B2 JP2018155673A JP2018155673A JP6967227B2 JP 6967227 B2 JP6967227 B2 JP 6967227B2 JP 2018155673 A JP2018155673 A JP 2018155673A JP 2018155673 A JP2018155673 A JP 2018155673A JP 6967227 B2 JP6967227 B2 JP 6967227B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- plasma
- electrode device
- upper electrode
- plasma generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
絶縁基板の表面上に、一対の側部電極と、当該一対の側部電極に電気的に接続され、当該一対の側部電極の間に設けられたプラズマ発生電極とからなる上部電極を有し、
前記絶縁基板の裏面上に、前記プラズマ発生電極の部分に対向する対向領域に配置され、当該対向領域内に設けられた下部電極を有し、前記上部電極の前記一対の側部電極は互いに平行であり、前記下部電極は、前記上部電極の前記一対の側部電極の対向方向に対応する方向の長さが、前記上部電極の長さ以下であり、前記下部電極を前記上部電極よりも小さくするとともに、前記上部電極と前記下部電極とが、前記絶縁基板を挟んだ対向領域において一部が互いに重ならないようにすることで、プラズマの温度上昇を抑えるようにしたことを特徴とする。
Claims (7)
- プロセスガスの導入及び電圧印加により沿面放電のプラズマを発生させて、被処理対象物の表面処理を行うプラズマ発生装置用の電極装置であって、
絶縁基板の表面上に、一対の側部電極と、当該一対の側部電極に電気的に接続され、当該一対の側部電極の間に設けられたプラズマ発生電極とからなる上部電極を有し、
前記絶縁基板の裏面上に、前記プラズマ発生電極の部分に対向する対向領域に配置され、当該対向領域内に設けられた下部電極を有し、
前記上部電極の前記一対の側部電極は互いに平行であり、
前記下部電極は、前記上部電極の前記一対の側部電極の対向方向に対応する方向の長さが、前記上部電極の長さ以下であり、
前記下部電極を前記上部電極よりも小さくするとともに、前記上部電極と前記下部電極とが、前記絶縁基板を挟んだ対向領域において一部が互いに重ならないようにすることで、プラズマの温度上昇を抑えるようにしたことを特徴とする電極装置。 - 請求項1に記載の電極装置において、
前記上部電極は、前記一対の側部電極を、当該一対の側部電極の対向方向に延伸した複数の桟電極で接続した梯子形状を有していることを特徴とする電極装置。 - 請求項1又は2に記載の電極装置において、
前記絶縁基板は、可撓性材料で構成されていることを特徴とする電極装置。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の電極装置において、
前記絶縁基板は、当該絶縁基板の表面側と裏面側との間を貫通する少なくとも1つの貫通孔を有し、
前記貫通孔と、前記上部電極に前記プロセスガスを導入するガス導入部とが接続されていることを特徴とする電極装置。 - 請求項1〜4の何れか1項に記載の電極装置において、
前記上部電極及び前記下部電極の何れか一方が接地電極として構成されていることを特徴とする電極装置。 - 請求項3に記載の電極装置において、
前記電極装置は、円筒形状を有し、
前記上部電極及び前記下部電極は、それぞれ前記円筒形状の内表面及び外表面に設けら
れていることを特徴とする電極装置。 - 請求項1〜6の何れか1項に記載の電極装置である第1の電極装置及び第2の電極装置で構成されるプラズマ発生装置であって、
前記第1の電極装置の当該上部電極と、前記第2の電極装置の当該上部電極とを、被処理対象物が通過可能な間隔を空けて対向配置し、
前記第1の電極装置と前記第2の電極装置との間にプロセスガスを導入するガス導入口を有していることを特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018155673A JP6967227B2 (ja) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | 電極装置、プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018155673A JP6967227B2 (ja) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | 電極装置、プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020030965A JP2020030965A (ja) | 2020-02-27 |
JP6967227B2 true JP6967227B2 (ja) | 2021-11-17 |
Family
ID=69622694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018155673A Active JP6967227B2 (ja) | 2018-08-22 | 2018-08-22 | 電極装置、プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6967227B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3582196B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2004-10-27 | セイコーエプソン株式会社 | 沿面放電を用いた表面処理装置及びその方法 |
JP2005050723A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ表面処理方法及びその装置 |
JP2006210178A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Ngk Insulators Ltd | プラズマ発生用電極装置 |
JP6488088B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2019-03-20 | マイクロプラズマ株式会社 | 低電圧プラズマ生成用電極及びそれを用いたプラズマ照射方法 |
-
2018
- 2018-08-22 JP JP2018155673A patent/JP6967227B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020030965A (ja) | 2020-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101428524B1 (ko) | 분말 플라즈마 처리 장치 | |
JP6277493B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5145076B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
US20080099406A1 (en) | Dielectric barrier reactor having concentrated electric field | |
JP6243626B2 (ja) | 低電圧プラズマ発生用電極 | |
JP2009503781A (ja) | インジェクションタイプのプラズマ処理装置及び方法 | |
JP6967227B2 (ja) | 電極装置、プラズマ発生装置 | |
WO2019049230A1 (ja) | 活性ガス生成装置 | |
JP6618772B2 (ja) | 大気圧プラズマ処理装置 | |
KR101952484B1 (ko) | 적층형 면방전 플라즈마 발생 소스 | |
JP6157764B1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP2007080772A (ja) | プラズマ発生装置、表面処理装置、光源、プラズマ発生方法、表面処理方法および光照射方法 | |
JP5126983B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP6404808B2 (ja) | 物品の分解方法 | |
JP2020526910A (ja) | 多層電極アセンブリ | |
JP2008047372A (ja) | プラズマ発生装置 | |
WO2006075570A1 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5559292B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
KR101599286B1 (ko) | 소수성 표면 처리장치 | |
JP2023110117A (ja) | プラズマ生成装置 | |
JP2014220056A (ja) | プラズマ表面処理装置 | |
JP6091756B2 (ja) | プラズマ表面処理装置 | |
RU2396369C2 (ru) | Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей | |
WO2021059784A1 (ja) | プラズマ生成装置 | |
WO2022091730A1 (ja) | プラズマ生成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201223 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20201223 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20210105 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20210210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211005 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211013 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6967227 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |