RU2396369C2 - Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей - Google Patents

Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей Download PDF

Info

Publication number
RU2396369C2
RU2396369C2 RU2007139571/02A RU2007139571A RU2396369C2 RU 2396369 C2 RU2396369 C2 RU 2396369C2 RU 2007139571/02 A RU2007139571/02 A RU 2007139571/02A RU 2007139571 A RU2007139571 A RU 2007139571A RU 2396369 C2 RU2396369 C2 RU 2396369C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
plasma jet
gas
anode
discharge
Prior art date
Application number
RU2007139571/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2007139571A (ru
Inventor
Юрий Семенович Акишев (RU)
Юрий Семенович Акишев
Михаил Евгеньевич Грушин (RU)
Михаил Евгеньевич Грушин
Николай Иванович Трушкин (RU)
Николай Иванович Трушкин
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (ФГУП "ГНЦ РФ ТРИНИТИ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (ФГУП "ГНЦ РФ ТРИНИТИ") filed Critical Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований" (ФГУП "ГНЦ РФ ТРИНИТИ")
Priority to RU2007139571/02A priority Critical patent/RU2396369C2/ru
Publication of RU2007139571A publication Critical patent/RU2007139571A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2396369C2 publication Critical patent/RU2396369C2/ru

Links

Images

Abstract

Изобретение относится к способу обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей и может быть использовано при гидрофилизации/гидрофобизации и повышении адгезионных свойств полимеров, текстиля, бумаги и других материалов. Способ включает формирование плазменной струи путем пропускания потока газа через зону электрического разряда. В качестве плазмообразующего газа используют атмосферный воздух. Плазму получают в стационарном тлеющем разряде атмосферного давления, который создают посредством системы электродов в потоке газа в межэлектродных промежутках. Полученную холодную плазменную струю выносят за зону разряда на обрабатываемую поверхность. Для создания плазмы используют систему из секционированных катода и анода, в которой секции анода выполнены в форме тонких пластин, а секции катода выполнены в форме штырей или тонких игл, ориентированных перпендикулярно потоку газа и расположенных в плоскости, касающейся нижней по потоку границы анодных секций, а межэлектродные промежутки расположены непосредственно на выходе газового потока из газоразрядной камеры. В результате достигается упрощение технологии обработки материалов и снижение стоимости за счет использования неравновесной плазменной струи, создаваемой газовым разрядом непосредственно в потоке воздуха. 2 ил.

Description

Изобретение относится к области плазменной модификации поверхности термически нестойких материалов при атмосферном давлении и может быть использовано при гидрофилизации/гидрофобизации и повышении адгезионных свойств полимеров, текстиля, бумаги и т.д.
Сущность изобретения заключается в модификации поверхностей термически нестойких материалов при атмосферном давлении за счет использования холодных (близких к комнатной температуре), но химически активных плазменных струй в атмосферном воздухе.
Одним из эффективных способов плазмохимической обработки термически нестойких материалов при атмосферном давлении (например, полимерных пленок с целью придания им гидрофильных свойств, улучшающих качество печати) является их обработка неравновесной плазмой непосредственно в зоне разряда. При этом в газоразрядной плазме происходит возбуждение и диссоциация газообразных соединений с формированием различных радикалов, активно воздействующих на обрабатываемую поверхность.
Наиболее распространенный способ плазмохимической обработки (аналог) состоит в использовании барьерного разряда, при котором электрический ток проходит сквозь обрабатываемый материал (Патент США 5,403,453, кл. H05F 3/00 1995).
Общим недостатком известного и других ему подобных способов является невозможность обработки проводящих материалов, а также диэлектрических материалов с толщиной более 1 мм. Кроме того, прохождение электрического тока через тонкий обрабатываемый материал приводит к его электрическому пробою, что создает в материале большое число пор и приводит к его порче.
Наиболее близким к изобретению по технической сущности (прототипом) является способ модификации поверхностей с использованием плазменной струи, создаваемой газоразрядной камерой, питаемой радиочастотным источником с частотой напряжения 13.56 МГц и прокачиваемой газовым потоком, содержащим большое количество гелия (J.Park, I.Henins, Н.W.Herrmann, et al., Discharge Phenomena of an Atmospheric Pressure Radio-Frequency Capacitive Plasma Source, "Journal of Applied Physics" 89, 20-28 (2001)).
Недостатком известного способа является невозможность создания холодной (с температурой, близкой к комнатной) неравновесной плазмы в потоке воздуха, что делает его непригодным для модификации термически нестойких поверхностей непосредственно в условиях атмосферного воздуха. Кроме того, гелий очень дорогой газ и его использование в известном способе приводит к сильному удорожанию процесса плазменной модификации.
Техническим результатом изобретения является упрощение и снижение стоимости способа холодной обработки термически нестойких материалов при атмосферном давлении за счет использования неравновесной плазменной струи, создаваемой газовым разрядом непосредственно в потоке воздухе.
Этот технический результат достигается путем усовершенствования известного способа обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей, которую формируют путем пропускания потока газа через зону электрического разряда с последующим ее выносом за зону разряда на обрабатываемую поверхность.
Усовершенствование изобретения заключается в том, что в качестве плазмообразующего газа используется атмосферный воздух, плазму получают в стационарном тлеющем разряде атмосферного давления, который создают на выходе потока газа из камеры в межэлектродных промежутках, образованных пластинчатыми анодами и штыревыми катодами, расположенными напротив кромок анодных пластин, обращенных к выходу камеры.
Сущность изобретения поясняется чертежами, где на фиг.1 указана схема обработки полимерной пленки, а на фиг.2 показана электродная система для создания холодной плазменной струи.
Газоразрядная камера выполнена в форме прямоугольного параллелепипеда, содержащего диэлектрические стенки 1, внутри которых размещена электродная система из секционированных катода 2 (фиг.2) и анода 3, нагруженных на балластные сопротивления 4. Секции анода выполнены в форме тонких пластин. Площадь анодных секций определяется сортом плазмообразующего газа. Секции катода выполнены в форме штырей или тонких игл, ориентированных перпендикулярно потоку и расположенных в плоскости, касающейся нижней по потоку границы анодных секций. Электроды установлены в камере таким образом, что их межэлектродные промежутки расположены непосредственно на выходе газового потока из камеры. Расстояние между катодными секциями не превышает межэлектродное расстояние. При подаче на клемму 5 высокого электрического напряжения между катодом и анодом формируется газовый разряд, плазма 6 которого выносится потоком из полости камеры.
Предложенный способ осуществляют следующим образом. Воздух при атмосферном давлении прокачивают между катодом 2 и анодом 3, на которые подают постоянное электрическое напряжение 15-35 кВ для возбуждения стационарного тлеющего разряда. За счет большой скорости воздушного потока, варьируемой в пределах 30-70 м/с, и особенностей геометрии предложенной конструкции электродной системы (штыри катода смещены к кромкам анодных пластин, обращенных к выходу потока воздуха из газоразрядной камеры) газоразрядная плазма выносится из межэлектродного промежутка, что приводит к созданию в свободном пространстве вне камеры струи химически активной, но холодной плазмы, направляемой на неподвижный или движущийся обрабатываемый материал 7. В результате воздействия химически активной плазменной струи на поверхность материала происходит его модификация. Струя плазмы 6 и/или обрабатываемый материал 7 перемещаются друг относительно друга с нужной скоростью. Длительность экспозиции материала плазменной струей определяется расчетным путем и зависит от свойств материала и типа модификации поверхности. Возможность использования окружающего атмосферного воздуха в качестве плазмообразующего газа является существенным преимуществом предложенного способа, позволяющим упростить процесс обработки и снизить его стоимость.

Claims (1)

  1. Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей, включающий формирование плазменной струи путем пропускания потока газа через зону электрического разряда, при этом в качестве плазмообразующего газа используют атмосферный воздух, плазму получают в стационарном тлеющем разряде атмосферного давления, который создают посредством системы электродов в потоке газа в межэлектродных промежутках, отличающийся тем, что полученную холодную плазменную струю выносят за зону разряда на обрабатываемую поверхность, при этом для создания плазмы используют систему из секционированных катода и анода, в которой секции анода выполнены в форме тонких пластин, а секции катода выполнены в форме штырей или тонких игл, ориентированных перпендикулярно потоку газа и расположенных в плоскости, касающейся нижней по потоку границы анодных секций, а межэлектродные промежутки расположены непосредственно на выходе газового потока из газоразрядной камеры.
RU2007139571/02A 2007-10-26 2007-10-26 Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей RU2396369C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007139571/02A RU2396369C2 (ru) 2007-10-26 2007-10-26 Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007139571/02A RU2396369C2 (ru) 2007-10-26 2007-10-26 Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007139571A RU2007139571A (ru) 2009-05-10
RU2396369C2 true RU2396369C2 (ru) 2010-08-10

Family

ID=41019412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007139571/02A RU2396369C2 (ru) 2007-10-26 2007-10-26 Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2396369C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2489350C2 (ru) * 2011-11-16 2013-08-10 Общество с ограниченной ответственностью "Центр перспективных углеродных материалов" Способ получения углеродных наноматериалов и устройство для его реализации

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.Park, I.Henins, H.W.Herrmann, et al., Discharge Phenomena of an Atmospheric Pressure Radio-Frequency Capacitive Plasma Source, "Journal of Applied Physics 89, 20-28 (2001). *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2489350C2 (ru) * 2011-11-16 2013-08-10 Общество с ограниченной ответственностью "Центр перспективных углеродных материалов" Способ получения углеродных наноматериалов и устройство для его реализации

Also Published As

Publication number Publication date
RU2007139571A (ru) 2009-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20090200267A1 (en) Injection type plasma treatment apparatus and method
US7288204B2 (en) Method and arrangement for treating a substrate with an atmospheric pressure glow plasma (APG)
JP4092937B2 (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
US20080060579A1 (en) Apparatus of triple-electrode dielectric barrier discharge at atmospheric pressure
US5198724A (en) Plasma processing method and plasma generating device
US20080193329A1 (en) Method and System for Plasma Treatment Under High Pressure
JPWO2003071839A1 (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2002018276A (ja) 大気圧プラズマ処理装置
JPH08274074A (ja) プラズマ処理装置
KR20050074530A (ko) 글로우 프라즈마 방전을 안정화하는 방법 및 그 장치
RU2370924C2 (ru) Газоразрядная камера для создания низкотемпературной неравновесной плазмы
US20120132368A1 (en) Plasma treatment apparatus
KR20070012933A (ko) 분사식 플라즈마 처리장치
US20210225621A1 (en) Two-Phased Atmospheric Plasma Generator
RU2396369C2 (ru) Способ обработки термически нестойких материалов холодной плазменной струей
Akishev et al. One-atmosphere argon dielectric-barrier corona discharge as an effective source of cold plasma for the treatment of polymer films and fabrics
RU2196394C1 (ru) Способ плазменной обработки материалов, способ генерации плазмы и устройство для плазменной обработки материалов
JP2004319285A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP2003133291A (ja) 放電プラズマ処理装置及びそれを用いる放電プラズマ処理方法
JP2011108615A (ja) プラズマ処理装置
Hur et al. Surface treatment of polyimide substrates using dielectric barrier discharge reactors based on l-shaped electrodes
Falkenstein Frequency dependence of photoresist ashing with dielectric barrier discharges in oxygen
RU2398598C2 (ru) Применение неравновесной низкотемпературной плазменной струи для стерилизации термически нестойких материалов
JP2010050004A (ja) プラズマ発生電極
JPH0523579A (ja) 表面処理方法及びその装置

Legal Events

Date Code Title Description
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20161227