JP6962499B2 - バリア性積層体、該バリア性積層体を備えるヒートシール性積層体および該ヒートシール性積層体を備える包装容器 - Google Patents

Description

本発明は、バリア性積層体、該バリア性積層体を備えるヒートシール性積層体および該ヒートシール性積層体を備える包装容器に関する。

ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルからなるフィルム（以下、ポリエステルフィルムともいう）は、機械的特性、化学的安定性、耐熱性および透明性に優れると共に、安価である。そのため、従来、ポリエステルフィルムは、包装容器の作製に使用される積層体を構成する基材として使用されている。

包装容器に充填される内容物によっては、包装容器には高い酸素バリア性および水蒸気バリア性などのガスバリア性が要求される。この要求を満たすべく、包装容器は、ポリエステルフィルム表面に、アルミナやシリカなどを含む蒸着膜を形成することが広く行われている（特許文献１）。

近年、ポリエステルフィルムに代わる樹脂材料が模索されており、ポリオレフィンフィルム、特にポリプロピレンフィルムを基材に適用することが検討されている。

特開２００５−０５３２２３号公報

本発明者らは、従来のポリエステルフィルム基材に代えて、ポリプロピレンの延伸フィルム（以下、延伸ポリプロピレンフィルムともいう）を使用することを検討した。検討の結果、本発明者らは、延伸ポリプロピレンフィルムの表面に蒸着膜を形成しても、満足するガスバリア性を得ることができないという新たな課題を見出した。

そして、本発明者らが検討を進めたところ、該延伸ポリプロピレンフィルムに蒸着膜を設けた積層フィルムを使用した包装容器では、ポリエステルフィルム基材を使用する従来のバリア性積層体には見られない特有の現象、即ち、延伸ポリプロピレンフィルムと蒸着膜との層間で剥離が生じていることを見出し、その現象がガスバリア性を不十分なものとしているとの知見を得た。

そして、本発明者らは、延伸ポリプロピレンフィルム表面に、１８０℃以上の融点を有する樹脂材料を含む表面樹脂層を設けることにより、当該表面樹脂層上に、形成される蒸着膜の密着性が改善されると共に、ガスバリア性も向上するとの知見を得た。

本発明はかかる知見に基づいてなされ、その解決しようとする課題は、蒸着膜との層間の密着性に優れる多層基材を備え、高いガスバリア性を有する、バリア性積層体を提供することである。

本発明の解決しようとする課題は、該バリア性積層体を備えるヒートシール性積層体を提供することである。
本発明の解決しようとする課題は、該ヒートシール性積層体を備える包装容器を提供することである。

本発明のバリア性積層体は、多層基材と、蒸着膜とを備え、
前記多層基材は、延伸処理が施されており、
さらに、前記多層基材が、少なくともポリプロピレン樹脂層と表面樹脂層とを備え、
前記表面樹脂層が、融点１８０℃以上の樹脂材料を含み、
前記蒸着膜が、無機酸化物から構成されることを特徴とする。

上記バリア性積層体は、蒸着膜上に、バリアコート層をさらに備えてもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料の融点が、２６５℃以下であってもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点と、の差が２０〜８０℃であってもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料が極性基を有してもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料が、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ナイロン６、ナイロン６，６、ＭＸＤナイロンおよびアモルファスナイロンから選択される１以上の樹脂材料であってもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料が、ポリアミドであってもよい。

上記バリア性積層体において、樹脂材料が、エチレンビニルアルコール共重合体であってもよい。

上記バリア性積層体において、多層基材の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合が、１％以上１０％以下であってもよい。

上記バリア性積層体において、多層基材が、共押フィルムであってもよい。

上記バリア性積層体は、包装容器用途に用いられてもよい。

上記バリア性積層体において、無機酸化物が、シリカ、酸化炭化珪素またはアルミナであってもよい。

本発明のヒートシール性積層体は、上記バリア性積層体と、シーラント層とを備えることを特徴とする。

上記ヒートシール積層体において、シーラント層が、ポリプロピレン樹脂層と同一の材料により構成され、同一材料は、ポリプロピレンであってもよい。

本発明の包装容器は、上記ヒートシール性積層体を備えることを特徴とする。

本発明によれば、ポリプロピレンフィルムと蒸着膜との層間の密着性に優れ、高いラミネート強度を有する包装容器を作製でき、高いガスバリア性を有する、バリア性積層体を提供できる。
本発明によれば、該バリア性積層体を備えるヒートシール性積層体を提供できる。
本発明によれば、該ヒートシール性積層体を備える包装容器を提供できる。

本発明のバリア性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のバリア性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のバリア性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のバリア性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 蒸着装置の一実施形態を示す概略断面図である。 蒸着装置の一実施形態を示す概略断面図である。 蒸着装置の別の一実施形態を示す概略断面図である。 本発明のヒートシール性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のヒートシール性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のヒートシール性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のヒートシール性積層体の一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の包装容器の一実施形態を示す斜視図である。 本発明の包装容器の一実施形態を示す斜視図である。 本発明の包装容器の一実施形態を示す斜視図である。 ラミネート強度の測定方法の一例を示す概略図である。 ラミネート強度の測定方法の一例を示す概略図である。 ラミネート強度を測定するために多層基材側とシーラント層側とを引っ張る一対のつかみ具の間の間隔に対する引張応力の変化を示す図である。

（バリア性積層体）
本発明のバリア性積層体１０は、図１に示すように、多層基材１１と、蒸着膜１２とを備え、該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、表面樹脂層１４とを少なくとも備える。
一実施形態において、本発明のバリア性積層体１０は、図２に示すように、蒸着膜１２上に、バリアコート層１５をさらに備える。
一実施形態において、多層基材１１は、図３に示すように、ポリプロピレン樹脂層１３と表面樹脂層１４との間に、接着性樹脂層１６を備える。
一実施形態において、本発明のバリア性積層体１０は、図４に示すように、多層基材１１と、蒸着膜１２と、蒸着膜１２上に設けられたバリアコート層１５とを備える。該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、接着性樹脂層１６と、表面樹脂層１４とを備え、接着性樹脂層１６は、ポリプロピレン樹脂層１３と表面樹脂層１４との間に設けられている。
以下、本発明のバリア性積層体が備える各層について説明する。

バリア性積層体のヘイズ値は、２０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。これにより、バリア性積層体の透明性を向上できる。
なお、本明細書において、バリア性積層体のヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠し、ヘイズメーター（（株）村上色彩技術研究所）により測定する。

（多層基材）
多層基材は、ポリプロピレン樹脂層および表面樹脂層を少なくとも備える。多層基材は、ポリプロピレン樹脂層と表面樹脂層との間に接着性樹脂層を備えることができる。

多層基材は、延伸処理が施されている。該延伸処理は、一軸延伸であってもよく、二軸延伸であってもよい。
多層基材の縦方向（ＭＤ方向）および横方向（ＴＤ方向）への延伸倍率は、２倍以上１５倍以下であることが好ましく、５倍以上１３倍以下であることが好ましい。
延伸倍率を２倍以上とすることにより、多層基材の強度および耐熱性をより向上できる。また、多層基材への印刷適性を向上できる。
多層基材の破断限界という観点からは、延伸倍率は１５倍以下であることが好ましい。

多層基材が備える表面樹脂層は、表面処理が施されていてもよい。これにより、隣接する層との密着性を向上できる。
表面処理の方法は特に限定されず、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび／または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理、並びに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。

（ポリプロピレン樹脂層）
ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレンにより構成される。ポリプロピレン樹脂層は、単層構造を有しても、多層構造を有してもよい。
多層基材が、ポリプロピレンにより構成される層を備えることにより、該多層基材を使用して作製される包装容器の耐油性を向上できる。

ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンは、ホモポリマー、ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーのいずれであってもよい。
ポリプロピレンホモポリマーとは、プロピレンのみの重合体である。ポリプロピレンランダムコポリマーとは、プロピレンとプロピレン以外の他のα−オレフィン（例えばエチレン、ブテン−１、４−メチル−１−ペンテンなど）などとのランダム共重合体である。ポリプロピレンブロックコポリマーとは、プロピレンからなる重合体ブロックと、上記したプロピレン以外の他のα−オレフィンからなる重合体ブロックを有する共重合体である。
これらポリプロプロピレンの中でも、透明性の観点からは、ホモポリマーまたはランダムコポリマーを使用することが好ましい。包装袋の剛性や耐熱性を重視する場合には、ホモポリマーを使用し、耐衝撃性などを重視する場合にはランダムコポリマーを使用することが好ましい。
バイオマス由来のポリプロピレンや、メカニカルリサイクルまたはケミカルリサイクルされたポリプロピレンを使用することもできる。

ポリプロピレン樹脂層におけるポリプロピレンの含有量は、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。

本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、ポリプロピレン以外の樹脂材料を含んでいてもよい。樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンなどのポリオレフィン、（メタ）アクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステルおよびアイオノマー樹脂などが挙げられる。
本発明の特性を損なわない範囲において、ポリプロピレン樹脂層は、添加剤を含むことができる。添加剤としては、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑（スリップ）剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。

ポリプロピレン樹脂層の厚さは、１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましい。
ポリプロピレン樹脂層の厚さを１０μｍ以上とすることにより、多層基材の強度および耐熱性をより向上できる。
ポリプロピレン樹脂層の厚さを５０μｍ以下とすることにより、多層基材の製膜性および加工適性をより向上できる。

ポリプロピレン樹脂層は、その表面に印刷層を有していてもよい。印刷層に形成される画像は、特に限定されず、文字、柄、記号およびこれらの組み合わせなどが表される。
基材への印刷層形成は、バイオマス由来のインキを用いて行うこともできる。これにより環境負荷を低減できる。
印刷層の形成方法は、特に限定されず、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法などの従来公知の印刷法を挙げることができる。

（接着性樹脂層）
一実施形態において、多層基材は、ポリプロピレン樹脂層と、表面樹脂層との間に、接着性樹脂層を備えることができる。これにより、これら層間の密着性を向上できる。

接着性樹脂層は、ポリエーテル、ポリエステル、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリオレフィン、およびポリオレフィンの酸変性物などの接着性樹脂を使用することにより形成できる。
上記した中でも、後述するように、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性という観点からは、ポリオレフィンおよびこの酸変性物が好ましく、ポリプロピレンおよびこの酸変性物が特に好ましい。
接着性ポリプロピレンとしては、市販品を使用でき、例えば、三井化学（株）製、アドマーシリーズを使用できる。

接着性樹脂層の厚さは特に限定されないが、例えば、１μｍ以上１５μｍ以下とすることができる。接着性樹脂層の厚さを１μｍ以上とすることにより、ポリプロピレン樹脂層と、表面樹脂層との密着性をより向上できる。接着層の厚さを１５μｍ以下とすることにより、多層基材の加工適性を向上できる。

一実施形態において、多層基材は、共押フィルムであり、Ｔダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、積層フィルムとした後、延伸することにより作製できる。
インフレーション法により製膜することにより、積層フィルムの延伸を同時に行うことができる。

（表面樹脂層）
多層基材は、ポリプロピレン樹脂層上に、１８０℃以上の融点を有する樹脂材料（以下、高融点樹脂材料ともいう）を含む表面樹脂層を備え、該表面樹脂層上には高い密着性を有する蒸着膜を形成でき、ガスバリア性を向上できる。
後述するように、該表面樹脂層を備えるバリア性積層体を使用して作製される包装容器は高いラミネート強度を有する。

高融点樹脂材料の融点は、１８５℃以上であることがより好ましく、１９０℃以上であることがさらに好ましく、２０５℃以上であることが特に好ましい。
高融点樹脂材料の融点を１８５℃以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上でき、ガスバリア性をより向上できる。また、包装容器のラミネート強度をより向上できる。
多層基材の製膜性という観点からは、高融点樹脂材料の融点は、２６５℃以下であることが好ましく、２６０℃以下であることがより好ましく、２５０℃以下であることがさらに好ましい。
なお、本明細書において、融点は、ＪＩＳ Ｋ７１２１：２０１２（プラスチックの転移温度測定方法）に準拠して測定できる。具体的には、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）装置を用いて、１０℃／分の昇温速度でＤＳＣ曲線を測定し、融点を求めることができる。

表面樹脂層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差は、２０〜８０℃であることが好ましく、２０〜６０℃であることがより好ましい。
表面樹脂層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差が、２０℃以上であることにより、蒸着膜の密着性をより向上でき、ガスバリア性をより向上できる。また、包装容器のラミネート強度をより向上できる。
表面樹脂層に含まれる高融点樹脂材料の融点と、ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点の差が、８０℃以下であることにより、多層基材の製膜性をより向上できる。

高融点樹脂材料は、極性基を有することが好ましい。
本発明において、極性基とは、ヘテロ原子を１個以上含む基を指し、例えば、エステル基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸無水物基、スルフォン基、チオール基およびハロゲン基などが挙げられる。
これらの中でも、包装容器のラミネート強度の観点からは、水酸基、エステル基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基およびカルボニル基が好ましく、水酸基がより好ましい。

高融点樹脂材料は、融点が１８０℃以上であれば特に限定されることなく使用できる。高融点樹脂材料としては、例えば、ビニル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂およびアイオノマー樹脂などが挙げられる。

本発明においては、高融点樹脂材料は、融点が１８０℃以上であり、極性基を有する樹脂材料が特に好ましく、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ナイロン６、ナイロン６，６、ＭＸＤナイロン、アモルファスナイロンなどのポリアミドが好ましく、エチレンビニルアルコール共重合体およびポリビニルアルコールがより好ましい。
このような樹脂材料を使用することにより、表面樹脂層上に形成される蒸着膜の密着性を顕著に改善でき、そのガスバリア性を効果的に向上できる。

一実施形態において、高融点樹脂材料は、エチレンビニルアルコール共重合体がより好ましい。高融点樹脂材料としてエチレンビニルアルコール共重合体を使用することにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。

一実施形態において、高融点樹脂材料は、ポリアミドが好ましい。高融点樹脂材料としてポリアミドを使用することにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制でき、バリア性積層体を加熱してもガスバリア性の低下を抑制できる。高融点樹脂材料は、ナイロン６がより好ましい。

表面樹脂層における高融点樹脂材料の含有量は、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。

本発明の特性を損なわない範囲において、表面樹脂層は、高融点樹脂材料以外の樹脂材料を含んでいても良い。
本発明の特性を損なわない範囲において、表面樹脂層は、添加剤を含むことができる。添加剤としては、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑（スリップ）剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。

多層基材の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合は、１％以上１０％以下であることが好ましく、１％以上５％以下であることがより好ましい。
多層基材の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合を、１％以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上でき、ガスバリア性をより向上できる。また、包装容器のラミネート強度をより向上できる。
多層基材の総厚さに対する、表面樹脂層の厚さの割合を、１０％以下とすることにより、多層基材の製膜性および加工適性をより向上できる。また、後述するように、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上できる。

表面樹脂層の厚さは、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上４μｍ以下であることがより好ましい。
表面樹脂層の厚さを０．１μｍ以上とすることにより、蒸着膜の密着性をより向上でき、ガスバリア性をより向上できる。また、包装容器のラミネート強度をより向上できる。
表面樹脂層の厚さを５μｍ以下とすることにより、多層基材の製膜性および加工適性をより向上できる。また、後述するように、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上できる。

（蒸着膜）
本発明のバリア性積層体は、表面樹脂層上に無機酸化物から構成される蒸着膜を備える。これにより、バリア性積層体のガスバリア性、具体的には、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上できる。本発明のバリア性積層体を用いて作製した包装容器は、包装容器内に充填された内容物の質量減少を抑えることができる。

無機酸化物としては、例えば、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化珪素（シリカ）、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウム、酸化炭化珪素（炭素含有酸化珪素）などを挙げることができる。
上記した中でも、シリカ、酸化炭化珪素およびアルミナが好ましい。
一実施形態において、蒸着膜形成後のエージング処理が必要ないため、無機酸化物は、シリカがより好ましい。
一実施形態において、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できることから観点から、無機酸化物は、炭素含有酸化珪素がより好ましい。

蒸着膜の厚さは、１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
蒸着膜の厚さを１ｎｍ以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上できる。
蒸着膜の厚さを１５０ｎｍ以下とすることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を防止できる。さらに、後述するように、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上できる。

蒸着膜の形成は、従来公知の方法を用いて行うことができる。蒸着膜の形成方法は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法などの物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）、並びにプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法および光化学気相成長法などの化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）などを挙げることができる。

蒸着膜は、１回の蒸着工程により形成される単層であっても、複数回の蒸着工程により形成される多層であってもよい。多層である場合、各層は同一の材料であっても、異なる材料であってもよい。各層は、同一の方法により形成しても、異なる方法により形成してもよい。

ＰＶＤ法による蒸着膜の形成方法に使用される装置として、プラズマアシスト付きの真空成膜装置を使用できる。
プラズマアシスト付きの真空成膜装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
一実施形態において、真空成膜装置は、図５および６に示すように、真空容器Ａ、巻出し部Ｂ、成膜用ドラムＣ、巻取り部Ｄ、搬送ロールＥ、蒸発源Ｆ、反応ガス供給部Ｇ、防着箱Ｈ、蒸着材料ＩおよびプラズマガンＪを備える。
なお、図５は、真空成膜装置のＸＺ平面方向の概略断面図であり、図６は、真空成膜装置のＸＹ平面方向の概略断面図である。
図５に示すように、真空容器Ａ内の上部に、成膜用ドラムＣ法に巻き取られている多層基材１１が、その表面樹脂層面を下向きに配置され、真空容器Ａ内の成膜用ドラムＣより下に、電気的に接地された防着箱Ｈが配置される。防着箱Ｈは底面に、蒸発源Ｆが配置される。蒸発源Ｆの上面と一定の間隔を空けて対向する位置に、成膜用ドラムＣに巻き取られた多層基材１１の表面樹脂層面が位置するように、真空容器Ａ内に成膜用ドラムＣが配置される。
巻出し部Ｂと成膜用ドラムＣとの間、および成膜用ドラムＣと巻き取り部Ｄとの間に、搬送ロールＥが配置される。
なお、真空容器は、真空ポンプと連結している（図示せず）。
蒸発源Ｆは、蒸着材料Ｉを保持するためのものであり、加熱装置を備える（図示せず）。
反応ガス供給部Ｇは、蒸発した蒸着材料と反応する反応ガス（酸素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびこれらの混合ガスなど）を供給する部位である。
蒸発源Ｆから加熱され、蒸発した蒸着材料Ｉが、多層基材１１の表面樹脂層上に、向けて照射され、これと同時に、プラズマガンＪからも表面樹脂層に向けてプラズマが照射され、蒸着膜は形成される。
本形成方法の詳細は、特開２０１１−２１４０８９号公報において開示される。

プラズマ化学気相成長法に使用されるプラズマ発生装置としては、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマなどの発生装置を使用できる。また２室以上の成膜室を有する装置を使用してもよい。該装置は、真空ポンプを備え、各成膜室を真空に保持できることが好ましい。
各成膜室における真空度は、１×１０〜１×１０^−６Ｐａであることが好ましい。
プラズマ発生装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
まず、多層基材を成膜室へ送り出し、補助ロールを介して、所定の速度で、冷却・電極ドラム上に搬送する。
次いで、ガス供給装置から、成膜室内へ、無機酸化物を含む成膜用モノマーガス、酸素ガスおよび不活性ガスなどを含む混合ガス組成物を供給し、表面樹脂層上に、グロー放電によりプラズマを発生させ、これを照射し、表面樹脂層上に無機酸化物を含む蒸着膜を形成する。
本形成方法の詳細は、特開２０１２−０７６２９２号公報において開示される。

図７は、ＣＶＤ法に使用されるプラズマ化学気相成長装置を示す概略的構成図である。

一実施形態において、プラズマ化学気相成長装置は、図７に示すように、真空容器Ａ１内に配置された巻出し部Ｂ１から、多層基材１１を繰り出し、さらに、多層基材１１を、搬送ロールＥ１を介して所定の速度で冷却・電極ドラムＣ１周面上に搬送する。反応ガス供給にＧ１から酸素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびこれらの混合ガスを供給し、および原料ガス供給部Ｉ１から成膜用モノマーガスなどを供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しながら原料供給ノズルＨ１を通して真空容器Ａ１内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラムＣ１周面上に搬送された、多層基材１１の表面樹脂層の上に、グロー放電プラズマＦ１によってプラズマを発生させ、これを照射して、蒸着膜を形成する。その際に、冷却・電極ドラムＣ１は、真空容器Ａ１の外に配置されている電源Ｋ１から所定の電力が印加されており、冷却・電極ドラムＣ１の近傍には、マグネットＪ１を配置してプラズマの発生を促進している。次いで、多層基材１１は、蒸着膜を形成した後、所定の巻き取りスピードで搬送ロールＥ１を介して巻取り部Ｄ１に巻き取られる。なお、図中、Ｌ１は真空ポンプを表す。

蒸着膜の形成方法に使用される装置として、プラズマ前処理室、成膜室を備える、連続蒸着膜成膜装置を使用できる。
該装置を使用した蒸着膜の成膜方法の一実施形態を以下に記載する。
まず、プラズマ前処理室において、プラズマ供給ノズルから、多層基材が備える表面樹脂層にプラズマが照射される。次いで、成膜室において、プラズマ処理された表面樹脂層上に、蒸着膜が成膜される。
本形成方法の詳細は、国際公開ＷＯ２０１９／０８７９６０号パンフレットにおいて開示される。

蒸着膜の表面は、上記表面処理が施されていることが好ましい。これにより、隣接する層との密着性を向上できる。

本発明のバリア性積層体において、蒸着膜は、ＣＶＤ法により形成された蒸着膜が好ましく、ＣＶＤ法により形成された炭素含有酸化珪素蒸着膜がより好ましい。これにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。

炭素含有酸化珪素蒸着膜は、珪素、酸素、および炭素を含む。炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合Ｃは、珪素、酸素、および炭素の３元素の合計１００％に対して、３％以上５０％以下であることが好ましく、５％以上４０％以下であることがより好ましく、１０％以上３５％以下であることがさらに好ましい。
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合Ｃを上記範囲とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
なお、本明細書において、各元素の割合は、モル基準である。

炭素含有酸化珪素蒸着膜の一実施形態において、珪素の割合Ｓｉは、珪素、酸素、および炭素の３元素の合計１００％に対して、１％以上４５％以下であることが好ましく、３％以上３８％以下であることがより好ましく、８％以上３３％以下であることがさらに好ましい。酸素の割合Ｏは、珪素、酸素、および炭素の３元素の合計１００％に対して、１０％以上７０％以下であることが好ましく、２０％以上６５％以下であることがより好ましく、２５％以上６０％以下であることがさらに好ましい。
炭素含有酸化珪素蒸着膜において、珪素の割合Ｓｉおよび酸素の割合Ｏを上記範囲とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。

炭素含有酸化珪素蒸着膜の一実施形態において、酸素の割合Ｏは、炭素の割合Ｃよりも高いことが好ましく、珪素の割合Ｓｉは、炭素の割合Ｃよりも低いことが好ましい。酸素の割合Ｏは、珪素の割合Ｓｉよりも高いことが好ましい、即ち、各割合は、割合Ｏ、割合Ｃ、割合Ｓｉの順に低くなることが好ましい。これにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。

炭素含有酸化珪素蒸着膜における割合Ｃ、割合Ｓｉおよび割合Ｏは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、以下の測定条件のナロースキャン分析によって測定できる。
（測定条件）
使用機器：「ＥＳＣＡ−３４００」（Ｋｒａｔｏｓ製）
［１］スペクトル採取条件
入射Ｘ線：ＭｇＫα（単色化Ｘ線、ｈν＝１２５３．６ｅＶ）
Ｘ線出力：１５０Ｗ（１０ｋＶ・１５ｍＡ）
Ｘ線走査面積（測定領域）：約６ｍｍφ
光電子取込角度：９０度
［２］イオンスパッタ条件
イオン種：Ａｒ^＋
加速電圧：０．２（ｋＶ）
エミッション電流：２０（ｍＡ）
ｅｔｃｈ範囲：１０ｍｍφ
イオンスパッタ時間：３０秒で実施し、スペクトルを採取

（バリアコート層）
本発明のバリア性積層体は、蒸着膜上にバリアコート層をさらに備えることができる。これにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上できる。

一実施形態において、バリアコート層は、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリロニトリル、ナイロン６、ナイロン６，６およびポリメタキシリレンアジパミド（ＭＸＤ６）などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに（メタ）アクリル樹脂などのガスバリア性樹脂を含む。これらの中でも、酸素バリア性および水蒸気バリア性という観点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
バリアコート層にポリビニルアルコールを含有させることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止できる。

バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量は、５０質量％以上９５質量％以下であることが好ましく、７５質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量を５０質量％以上とすることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上できる。

バリアコート層は、本発明の特性を損なわない範囲において、上記添加剤を含むことができる。

バリアコート層の厚さは、０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
バリアコート層の厚さを０．０１μｍ以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上できる。バリアコート層の厚さを１０μｍ以下とすることにより、バリア性積層体の加工適性を向上できる。また、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上できる。

バリアコート層は、上記ガスバリア性樹脂を水または適当な溶剤に、溶解または分散させ、塗布、乾燥することにより形成できる。市販されるバリアコート剤を塗布、乾燥することによってもバリアコート層を形成できる。

他の実施形態において、バリアコート層は、金属アルコキシドと水溶性高分子との混合物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤などの存在下で、ゾルゲル法によって重縮合して得られる金属アルコキシドの加水分解物または金属アルコキシドの加水分解縮合物などの樹脂組成物を少なくとも１種含むガスバリア性塗布膜である。
このようなバリアコート層を蒸着膜上に設けることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止できる。

一実施形態において、金属アルコキシドは、下記一般式で表される。
Ｒ^１ _ｎＭ（ＯＲ^２）_ｍ
（ただし、式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎ＋ｍはＭの原子価を表す。）

金属原子Ｍとしては、例えば、珪素、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムなどを使用できる。
Ｒ^１およびＲ^２で表される有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基およびｉ−ブチル基などのアルキル基を挙げることができる。

上記一般式を満たす金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_４）、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４）、テトラプロポキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４）、テトラブトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４）などが挙げられる。

上記金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤が使用されることが好ましい。
シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができるが、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましい。エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランとしては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。

上記のようなシランカップリング剤は、２種以上を使用してもよく、シランカップリング剤は、上記金属アルコキシドの合計量１００質量部に対して、１〜２０質量部程度の範囲内で使用することが好ましい。

水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましく、酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性という観点からは、これらを併用することが好ましい。

ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量は、金属アルコキシド１００質量部に対して５質量部以上５００質量部以下であることが好ましい。
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド１００質量部に対して５質量部以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上できる。ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド１００質量部に対して５００質量部以下とすることにより、ガスバリア性塗布膜の製膜性を向上できる。

ガスバリア性塗布膜において、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比（金属アルコキシド／水溶性高分子）は、質量基準において、４．５以下であることが好ましく、１．０以上４．５以下であることがより好ましく、１．７以上３．５以下であることがさらに好ましい。
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を４．５以下とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を１．０以上とすることにより、バリア性積層体を加熱してもガスバリア性の低下を抑制できる。
なお、上記比は、固形分比である。

ガスバリア性塗布膜の表面は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定される珪素原子と炭素原子の比（Ｓｉ／Ｃ）が、１．６０以下であることが好ましく、０．５０以上１．６０以下であることがより好ましく、０．９０以上１．３５以下であることがさらに好ましい。
珪素原子と炭素原子の比を１．６０以下とすることにより、バリア性積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
珪素原子と炭素原子の比を０．５０以上とすることにより、バリア性積層体を加熱してもガスバリア性の低下を抑制できる。
珪素原子と炭素原子の比の上記範囲は、水溶性高分子に対する金属アルコキシドの比を適宜調整することにより達成できる。
なお、本明細書において、珪素原子と炭素原子の比は、モル基準である。

Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による珪素原子と炭素原子の比は、以下の測定条件のナロースキャン分析によって測定できる。
（測定条件）
使用機器：「ＥＳＣＡ−３４００」（Ｋｒａｔｏｓ製）
［１］スペクトル採取条件
入射Ｘ線：ＭｇＫα（単色化Ｘ線、ｈν＝１２５３．６ｅＶ）
Ｘ線出力：１５０Ｗ（１０ｋＶ・１５ｍＡ）
Ｘ線走査面積（測定領域）：約６ｍｍφ
光電子取込角度：９０度
［２］イオンスパッタ条件
イオン種：Ａｒ^＋
加速電圧：０．２（ｋＶ）
エミッション電流：２０（ｍＡ）
ｅｔｃｈ範囲：１０ｍｍφ
イオンスパッタ時間： ３０秒＋３０秒＋６０秒（トータル１２０秒)で実施し、スペクトルを採取

ガスバリア性塗布膜の厚さは、０．０１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。これにより、リサイクル性を維持しつつ、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上できる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを０．０１μｍ以上とすることにより、バリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上できる。また、蒸着膜におけるクラックの発生を防止できる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを１００μｍ以下とすることにより、本発明のバリア性積層体と、ポリプロピレンからなるシーラント層との積層体を用いて作製される包装容器のリサイクル適性を向上できる。

ガスバリア性塗布膜は、上記材料を含む組成物を、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、アプリケータなどの従来公知の手段により、塗布し、その組成物をゾルゲル法により重縮合することにより形成させることができる。
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好適である。アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶剤に可溶な第３級アミンが好適であり、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、Ｎ，Ｎ−ジメチルべンジルアミンが好ましい。
ゾルゲル法触媒は、金属アルコキシド１００質量部当り、０．０１質量部以上１．０質量部以下の範囲で使用することが好ましく、０．０３質量部以上０．３質量部以下の範囲で使用することがより好ましい。
ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド１００質量部当り、０．０１質量部以上とすることにより、その触媒効果を向上できる。ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド１００質量部当り、１．０質量部以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にできる。

上記組成物は、さらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル−ゲル法の触媒、主として金属アルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸などの有機酸が用いられる。酸の使用量は、金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．００１モル以上０．０５モル以下であることが好ましい。
酸の使用量を金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．００１モル以上とすることにより、触媒効果を向上できる。酸の使用量を金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対して、０．０５モル以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にできる。

上記組成物は、金属アルコキシドの合計モル量１モルに対して、好ましくは０．１モル以上１００モル以下、より好ましくは０．８モル以上２モル以下の割合の水を含んでなることが好ましい。
水の含有量を金属アルコキシドの合計モル量１モルに対して、０．１モル以上とすることにより、本発明のバリア性積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上できる。水の含有量を金属アルコキシドの合計モル量１モルに対して、１００モル以下とすることにより、加水分解反応を速やかに行うことができる。

上記組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノールなどを用いることができる。

以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について以下に説明する。
まず、金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶剤および必要に応じてシランカップリング剤などを混合し、組成物を調製する。該組成物中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、蒸着膜上に、上記従来公知の方法により、該組成物を塗布、乾燥する。この乾燥により、金属アルコキシドおよび水溶性高分子（組成物が、シランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も）の重縮合反応がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。
最後に、該組成物を、例えば、２０〜２５０℃、好ましくは５０〜２２０℃の温度で、１秒〜１０分間加熱することにより、ガスバリア性塗布膜を形成できる。

バリアコート層は、その表面に印刷層が形成されていてもよい。印刷層の形成方法などについては上記した通りである。

（ヒートシール性積層体）
本発明のヒートシール性積層体２０は、図８〜１１に示すように、上記バリア性積層体１０と、シーラント層２１とを備えることを特徴とする。
一実施形態において、図８に示すように、ヒートシール性積層体２０のバリア性積層体１０は、多層基材１１と、蒸着膜１２とを備え、該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、ト層１４とを少なくとも備える。
一実施形態において、図９に示すように、ヒートシール性積層体２０のバリア性積層体１０は、多層基材１１と、蒸着膜１２と、蒸着膜１２上に設けられたバリアコート層１５とを備え、該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、表面樹脂層１４とを少なくとも備える。
一実施形態において、図１０に示すように、ヒートシール性積層体２０のバリア性積層体１０は、多層基材１１と、蒸着膜１２とを備える。該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、接着性樹脂層１６と、表面樹脂層１４とを備え、接着性樹脂層１６は、ポリプロピレン樹脂層１３と表面樹脂層１４との間に設けられている。
一実施形態において、図１１に示すように、ヒートシール性積層体２０のバリア性積層体１０は、多層基材１１と、蒸着膜１２と、蒸着膜１２上に設けられたバリアコート層１５とを備える。該多層基材１１は、ポリプロピレン樹脂層１３と、接着性樹脂層１６と、表面樹脂層１４とを備え、接着性樹脂層１６は、ポリプロピレン樹脂層１３と表面樹脂層１４との間に設けられている。

ヒートシール性積層体において、多層基材と蒸着膜と間のラミネート強度は、１５ｍｍ幅において、３Ｎ以上が好ましく、４Ｎ以上がより好ましく、５．５Ｎ以上が更に好ましい。ヒートシール性積層体のラミネート強度の上限は、２０Ｎ以下であってもよい。
なお、ヒートシール性積層体のラミネート強度の測定方法については、後述する実施例において説明する。

以下、ヒートシール性積層体が備える各層について説明する。なお、バリア性積層体については上述したため、ここでは記載を省略する。

（シーラント層）
一実施形態において、シーラント層は、熱によって相互に融着し得る樹脂材料により形成できる。
熱によって相互に融着し得る樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、メチルペンテンポリマーおよび環状オレフィンコポリマーなどのポリオレフィンが挙げられる。具体的には、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、メタロセン触媒を利用して重合したエチレン・α−オレフィン共重合体、エチレンおよびプロピレンのランダムもしくはブロック共重合体等のエチレン−プロピレン共重合体が挙げられる。
熱によって相互に融着し得る樹脂材料としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン−アクリル酸共重合体（ＥＡＡ）、エチレン・アクリル酸エチル共重合体（ＥＥＡ）、エチレン−メタクリル酸共重合体（ＥＭＡＡ）、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体（ＥＭＭＡ）、アイオノマー樹脂、ヒートシール性エチレン−ビニルアルコール樹脂、ポリオレフィンをアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂なども挙げられる。

従来、基材と、シーラント層とを異種の樹脂材料により構成した積層体が包装容器の作製に使用されている。しかしながら、使用済みの包装容器を回収した後、基材とシーラント層とを分離するのが困難であるため、積極的にはリサイクルされていないという現状がある。
多層基材が備えるポリプロピレン樹脂層とシーラント層とを同一材料によって構成することにより、多層基材とシーラント層とを分離する必要がなく、そのリサイクル適正を向上できる。即ち、上記した樹脂材料の中でも、ヒートシール性積層体を用いて作製した包装容器のリサイクル適性という観点からは、シーラント層は、ポリプロピレンから構成されることが好ましい。
シーラント層をポリプロピレンにより構成することにより、ヒートシール性積層体を用いて作製される包装容器の耐油性を向上できる。

本発明の特性を損なわない範囲において、シーラント層は、上記添加剤を含むことができる。

シーラント層は、単層構造を有してもよく、多層構造を有してもよい。

シーラント層の厚さは、２０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましい。
シーラント層の厚さを２０μｍ以上とすることにより、本発明のヒートシール性積層体を備える包装容器のラミネート強度をより向上できる。
シーラント層の厚さを１００μｍ以下とすることにより、本発明のヒートシール性積層体の加工適性をより向上できる。

（包装容器）
本発明の包装容器は、上記ヒートシール性積層体を備えることを特徴とする。包装容器としては、例えば、包装製品（包装袋）、蓋材およびラミネートチューブなどを挙げることができる。

包装袋として、例えば、スタンディングパウチ型、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型（ピローシール型）、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型などの種々の形態の包装袋が挙げられる。

図１２は、包装容器の一例である、スタンディングパウチの構成の一例を簡略に示す図である。図１２に示すように、包装製品３０は、胴部（側面シート）３１と、底部（底面シート）３２とで構成されている。スタンディングパウチ３０が備える、側面シート３１と底面シート３２とは、同一部材により構成されていてもよく、別部材により構成されていてもよい。

一実施形態において、包装製品３０が備える胴部３１は、本発明のヒートシール性積層体が備えるヒートシール層が最内層となるように製袋することにより形成できる。
他の実施形態において、側面シート３１は、本発明のヒートシール性積層体を２枚準備し、これらをヒートシール層が向かい合うようにして重ね合わせ、重ね合わせ合わせたヒートシール性積層体の両端から、ヒートシール層が外側となるように、Ｖ字状に折った２枚の積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成できる。このような作製方法によれば、図１３に示すようなガセット３３付きの胴部を有する包装製品３０とすることができる。

一実施形態において、包装製品３０が備える底面シート３２は、製袋された側面シートの間に本発明の積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成できる。より具体的には、ヒートシール性積層体を、ヒートシール層が外側となるように、Ｖ字状に折り、Ｖ字状に折った積層体を製袋された側面シートの間に挿入し、ヒートシールすることにより、底面シート３２を形成できる。

一実施形態において、包装製品３０は、図１４に示すように、底部を有しない平状の包装袋であってもよい。

ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シールなどの公知の方法で行うことができる。

包装容器に充填される内容物は、特に限定されず、内容物は、液体、粉体およびゲル体であってもよい。内容物は、食品であっても、非食品であってもよい。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。

実施例１−１
ポリアミド（宇部興産（株）製、ポリアミド６、融点：２２０℃）と、接着性樹脂（三井化学（株）製、アドマーＱＦ５００、無水マレイン酸変性ポリプロピレン）と、ポリプロピレン（日本ポリプロ（株）製、ノバテックＦＬ２０３Ｄ、融点：１６０℃）とを共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向（ＭＤ方向）に５倍、横方向（ＴＤ方向）に１０倍延伸して、多層基材を作製した。
上記のようにして作製した多層基材は、ポリアミドからなる表面樹脂層と、接着性樹脂からなる接着性樹脂層と、ポリプロピレンからなるポリプロピレン樹脂層とを備え、総厚さ２０μｍであった。
多層基材の層厚さに対するポリアミドからなる表面樹脂層の厚さの割合は、２％であった。

上記のように作製した多層基材の表面樹脂層上に、実機である低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌにより、多層基材にテンションを与えながら、厚さ１２ｎｍの炭素含有酸化珪素蒸着膜を形成した（ＣＶＤ法）。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
（形成条件）
・ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ）
・冷却・電極ドラム供給電力：２２ｋｗ
・ライン速度：１００ｍ／ｍｉｎ

炭素含有酸化珪素蒸着膜において、炭素の割合Ｃ、珪素の割合Ｓｉ、および酸素の割合Ｏは、珪素、酸素、および炭素の３元素の合計１００％に対して、それぞれ、３２．７％、２９．８％、および３７．５％であった。各元素の割合は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、下記の測定条件のナロースキャン分析によって測定した。
（測定条件）
使用機器：「ＥＳＣＡ−３４００」（Ｋｒａｔｏｓ製）
［１］スペクトル採取条件
入射Ｘ線：ＭｇＫα（単色化Ｘ線、ｈν＝１２５３．６ｅＶ）
Ｘ線出力：１５０Ｗ（１０ｋＶ・１５ｍＡ）
Ｘ線走査面積（測定領域）：約６ｍｍφ
光電子取込角度：９０度
［２］イオンスパッタ条件
イオン種：Ａｒ^＋
加速電圧：０．２（ｋＶ）
エミッション電流：２０（ｍＡ）
ｅｔｃｈ範囲：１０ｍｍφ
イオンスパッタ時間：３０秒で実施し、スペクトルを採取

水３８５ｇ、イソプロピルアルコール６７ｇおよび０．５Ｎ塩酸９．１ｇを混合し、調製したｐＨ２．２の溶液を得た。この溶液に、金属アルコキシドとしてテトラエトキシシラン１７５ｇと、シランカップリング剤としてグリシドキシプロピルトリメトキシシラン９．２ｇとを１０℃となるように、冷却しながら混合し、溶液Ａを得た。
水溶性高分子としてケン価度９９％以上、重合度２４００のポリビニルアルコール１４．７ｇ、水３２４ｇイソプロピルアルコール１７ｇを混合し、溶液Ｂを得た。
溶液Ａと、溶液Ｂとを、質量基準において、６．５：３．５となるように、混合し、バリアコート剤を得た。

多層基材上に形成した蒸着膜上に、バリアコート剤をスピンコート法によりコーティングし、８０℃で６０秒間オーブンにて加熱処理を施し、厚さ３００ｎｍのバリアコート層を形成し、本発明のバリア性積層体を得た。

実施例１−２
ポリアミドを、ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ボパール（株）製、ボパールＪＣ−３３、融点：２００℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例１−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例１−３
ポリアミドを、エチレンビニルアルコール（クラレ（株）製、エバール Ｆ１７１Ｂ、融点：１８３℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例１−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例１−４
ポリアミドを、非結晶性ポリエステル（東洋紡（株）製、バイロン ＲＮ−９３００、融点：１９８℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例１−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

比較例１−１
ポリプロピレン（日本ポリプロ（株）製、ノバテックＦＬ２０３Ｄ、融点：１６０℃）を共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向（ＭＤ方向）に５倍、横方向（ＴＤ方向）に１０倍延伸して、厚さ２０μｍの基材を作製した。
多層基材を上記のようにして作製した基材に変更した以外は、実施例１−１と同様にして、基材上に、蒸着膜およびバリアコート層を形成し、積層体を得た。

実施例２−１
蒸着膜の形成を以下のように変更した以外は、実施例１−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。
表面樹脂層上に、実機である、プラズマガンを備える誘導加熱式真空成膜装置を用いて、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌにより、多層基材にテンションを与えながら、厚さ２０ｎｍの酸化珪素（シリカ）蒸着膜を形成した（ＰＶＤ法）。なお、蒸着膜形成条件は以下の通りとした。
（形成条件）
（プラズマ照射条件）
・ライン速度：３０ｍ／分
・真空度：１．７×１０^−２Ｐａ
・出力：５．７ｋｗ
・加速電圧：１５１Ｖ
・Ａｒガス流量：７．５ｓｃｃｍ
（成膜条件）
・蒸着材料：ＳｉＯ
・反応ガス：Ｏ_２
・反応ガス流量：１００ｓｃｃｍ

実施例２−２
ポリアミドを、ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ボパール（株）製、ボパールＪＣ−３３、融点：２００℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例２−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例２−３
ポリアミドを、エチレンビニルアルコール（クラレ（株）製、エバール Ｆ１７１Ｂ、融点：１８３℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例２−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例２−４
ポリアミドを、非結晶性ポリエステル（東洋紡（株）製、バイロン ＲＮ−９３００、融点：１９８℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例２−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

比較例２−１
ポリプロピレン（日本ポリプロ（株）製、ノバテックＦＬ２０３Ｄ、融点：１６０℃）を共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向（ＭＤ方向）に５倍、横方向（ＴＤ方向）に１０倍延伸して、厚さ２０μｍの基材を作製した。
多層基材を上記のようにして作製した基材に変更した以外は、実施例２−１と同様にして、基材上に、蒸着膜およびバリアコート層を形成し、積層体を得た。

実施例３−１
蒸着膜の形成を以下のように変更した以外は、実施例１−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。
表面樹脂層上に、実機である、酸素プラズマ前処理装置を配置した前処理区画と、成膜区画とを隔離して備える連続蒸着膜成膜装置を用いて、前処理区画において、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌにより、多層基材にテンションを与えながら、下記条件下でプラズマ供給ノズルからプラズマを導入し、酸素プラズマ前処理を施し、連続搬送した成膜区画において、酸素プラズマ処理面に、下記条件で、真空蒸着法の加熱手段として反応性抵抗加熱方式を用い、厚さ１２ｎｍの酸化アルミニウム（アルミナ）蒸着膜を形成した（ＰＶＤ法）。
（形成条件）
（酸素プラズマ前処理条件）
・プラズマ強度：２００Ｗ・ｓｅｃ／ｍ^２
・プラズマ形成ガス比：酸素：アルゴン＝２：１
・前処理ドラム−プラズマ供給ノズル間印加電圧：３４０Ｖ
（成膜条件）
・搬送速度：４００ｍ／ｍｉｎ
・酸素ガス供給量：２００００ｓｃｃｍ

実施例３−２
ポリアミドを、ポリビニルアルコール（日本酢ビ・ボパール（株）製、ボパールＪＣ−３３、融点：２００℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例３−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例３−３
ポリアミドを、エチレンビニルアルコール（クラレ（株）製、エバール Ｆ１７１Ｂ、融点：１８３℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例３−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

実施例３−４
ポリアミドを、非結晶性ポリエステル（東洋紡（株）製、バイロン ＲＮ−９３００、融点：１９８℃）に変更し、表面樹脂層を形成した以外は、実施例３−１と同様にして、バリア性積層体を作製した。

比較例３−１
ポリプロピレン（日本ポリプロ（株）製、ノバテックＦＬ２０３Ｄ、融点：１６０℃）を共押出した後、逐次二軸延伸装置により、縦方向（ＭＤ方向）に５倍、横方向（ＴＤ方向）に１０倍延伸して、厚さ２０μｍの基材を作製した。
多層基材を上記のようにして作製した基材に変更した以外は、実施例３−１と同様にして、基材上に、蒸着膜およびバリアコート層を形成し、積層体を得た。

＜＜ガスバリア性評価＞＞
上記実施例および比較例において得られたバリア性積層体および積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、酸素透過度（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）および水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を、以下の方法により測定した。その結果を表１〜３にまとめた。

［酸素透過度］
酸素透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０）を用いて、試験片の多層基材側が酸素供給側になるようにセットして、ＪＩＳ Ｋ ７１２６準拠して、２３℃、相対湿度９０％ＲＨ環境下における酸素透過度を測定した。
［水蒸気透過度］
水蒸気透過度測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ―ｗ ３／３３）を用いて、試験片の多層基材側が水蒸気供給側になるようにセットして、ＪＩＳ Ｋ ７１２９に準拠して、４０℃、相対湿度９０％ＲＨ環境下における水蒸気透過度を測定した。

＜＜ラミネート強度試験＞＞
上記実施例および比較例において得られたバリア性積層体および積層体が備えるバリアコート層上に、厚さ４０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネートしてシーラント層を形成、ヒートシール性積層体を作製した。
このヒートシール性積層体を１５ｍｍ巾の短冊状にカットした試験片を、引張試験機（（株）オリエンテック製、テンシロン万能材料試験機）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６８５４−２に準拠し、蒸着膜と表面樹脂層との間、および蒸着膜とポリプロピレンフィルムとの間のラミネート強度（Ｎ／１５ｍｍ）を、剥離速度５０ｍｍ／ｍｉｎで９０°剥離（Ｔ字剥離法）を用いて測定した。
具体的には、まず、ヒートシール性積層体を切り出して、図１５に示すように、多層基材側４１と、シーラント層側４２とを長辺方向において１５ｍｍ剥離させた短冊状の試験片４０を準備した。その後、図１６に示すように、多層基材側４１およびシーラント層側４２のうち既に剥離されている部分をそれぞれ、測定器のつかみ具４３で把持した。つかみ具４３をそれぞれ、多層基材側４１とシーラント層側４２とがまだ積層されている部分の面方向に対して直交する方向において互いに逆向きに、５０ｍｍ／分の速度で引っ張り、安定領域（図１７参照）における引張応力の平均値を測定した。引っ張りを開始する際の、つかみ具４３間の間隔Ｓは３０ｍｍとし、引っ張りを終了する際の、つかみ具４３間の間隔Ｓは６０ｍｍとした。図１７は、つかみ具４３間の間隔Ｓに対する引張応力の変化を示す図である。図１７に示すように、間隔Ｓに対する引張応力の変化は、第１領域を経て、第１領域よりも変化率の小さい第２領域（安定領域）に入る。
５個の試験片４０について、安定領域における引張応力の平均値を測定し、その平均値をラミネート強度とした。測定時の環境は、温度２３℃、相対湿度５０％とした。測定結果を表１〜３にまとめた。

実施例４−１
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、５．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例１−１と同様にしてバリア性積層体を作製した。
次いで、バリア性積層体が備えるバリアコート層上に、厚さ７０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを２液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、ヒートシール性積層体を作製した。

実施例４−２
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、４．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例４−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例４−３
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、３．３となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例４−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例４−４
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、２．７となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例４−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例４−５
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．９となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例４−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例４−６
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．５となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例４−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−１
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、５．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例３−１と同様にしてバリア性積層体を作製した。
次いで、バリア性積層体が備えるバリアコート層上に、厚さ７０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを２液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、ヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−２
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、４．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例５−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−３
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、３．３となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例５−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−４
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、２．７となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例５−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−５
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．９となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例５−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例５−６
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．５となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例５−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−１
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、５．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例１−３と同様にしてバリア性積層体を作製した。
次いで、バリア性積層体が備えるバリアコート層上に、厚さ７０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを２液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、ヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−２
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、４．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例６−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−３
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、３．３となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例６−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−４
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、２．７となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例６−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−５
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．９となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例６−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例６−６
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．５となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例６−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−１
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、５．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例３−３と同様にしてバリア性積層体を作製した。
次いで、バリア性積層体が備えるバリアコート層上に、厚さ７０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルムを２液硬化型ポリウレタン系接着剤でドライラミネートしてシーラント層を形成し、ヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−２
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、４．１となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例７−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−３
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、３．３となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例７−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−４
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、２．７となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例７−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−５
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．９となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例７−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

実施例７−６
水溶性高分子に対する金属アルコキシドの固形分比（金属アルコキシド／水溶性高分子）が、質量基準において、１．５となるようにバリアコート層を形成したこと以外は、実施例７−１と同様してバリア性積層体およびヒートシール性積層体を作製した。

＜＜バリアコート層表面の元素分析＞＞
実施例４〜７において得られたバリア性積層体について、バリアコート層表面に存在するＳｉ元素とＣ元素の比を測定した。測定は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、下記の測定条件のナロースキャン分析で行った。その結果を表４〜７にまとめた。
（測定条件）
使用機器：「ＥＳＣＡ−３４００」（Ｋｒａｔｏｓ製）
［１］スペクトル採取条件
入射Ｘ線：ＭｇＫα（単色化Ｘ線、ｈν＝１２５３．６ｅＶ）
Ｘ線出力：１５０Ｗ（１０ｋＶ・１５ｍＡ）
Ｘ線走査面積（測定領域）：約６ｍｍφ
光電子取込角度：９０度
［２］イオンスパッタ条件
イオン種：Ａｒ^＋
加速電圧：０．２（ｋＶ）
エミッション電流：２０（ｍＡ）
ｅｔｃｈ範囲：１０ｍｍφ
イオンスパッタ時間：３０秒＋３０秒＋６０秒（トータル１２０秒)で実施し、スペクトルを採取

＜＜ガスバリア性評価（ラミネート後）＞＞
実施例４〜７において得られたバリア性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）および水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。その結果を表４〜７にまとめた。なお、表４〜７では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。

＜＜ガスバリア性評価（ボイル後）＞＞
実施例４及び５において得られたバリア性積層体を用いて、図１４に示すようなパウチ状包装容器を作製した。パウチ状包装容器の大きさは、Ｂ５サイズ（１８２ｍｍ×２５７ｍｍ）である。パウチ状包装容器の内部には、水１００ｍＬが充填されている。
パウチ状包装容器を、９５℃で３０分間ボイル処理した。パウチ状包装容器からヒートシール性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）および水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。その結果を表４および表５にまとめた。なお、表４および表５では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。

＜＜ガスバリア性評価（レトルト後）＞＞
実施例４および５において得られたバリア性積層体を用いて、図１４に示すようなパウチ状包装容器を作製した。パウチ状包装容器の大きさは、Ｂ５サイズ（１８２ｍｍ×２５７ｍｍ）である。パウチ状包装容器の内部には、水１００ｍＬが充填されている。
パウチ状包装容器を、１２１℃で３０分間レトルト殺菌処理した。パウチ状包装容器からヒートシール性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）および水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。その結果を表４および表５まとめた。なお、表４および表５では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。

＜＜ガスバリア性評価（ゲルボフレックス試験後）＞＞
実施例４〜７において得られたヒートシール性積層体を用いて、筒状の袋を作製した。この袋を用いて、ＡＳＴＭ Ｆ３９２に準拠したゲルボフレックス試験を１０回繰り返した。
その後、当該袋からヒートシール性積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、上記と同様にして、酸素透過度（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）および水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）を測定した。その結果を表４〜７にまとめた。なお、表４〜７では、酸素透過度および蒸気透過度の単位を省略する。

１０：バリア性積層体、１１：多層基材、１２：蒸着膜、１３：ポリプロピレン樹脂層、１４：表面樹脂層、１５：バリアコート層、１６：接着性樹脂層、２０：ヒートシール性積層体、２１：シーラント層、３０：包装容器、３１：胴部（側面シート）、３２：底部（底面シート）、３３：ガセット、４０：試験片、４１：多層基材側、４２：シーラント層側、４３：つかみ具、Ａ：真空容器、Ｂ：巻出し部、Ｃ：成膜用ドラム、Ｄ：巻取り部、Ｅ：搬送ロール、Ｆ：蒸発源、Ｇ：反応ガス供給部、Ｈ：防着箱、Ｉ：蒸着材料、Ｊ：プラズマガン、Ａ１：真空容器、Ｂ１：巻出し部、Ｃ１：冷却・電極ドラム、Ｄ１：巻取り部、Ｅ１：搬送ロール、Ｆ１：グロー放電プラズマ、Ｇ１：反応ガス供給部、Ｈ１：原料供給ノズル、Ｉ１：原料ガス供給部、Ｊ１：マグネット、Ｋ１：電源、Ｌ１：真空ポンプ

Claims (16)

1. 多層基材と、蒸着膜とを備え、
   前記多層基材は、延伸処理が施されており、
   さらに、前記多層基材が、少なくともポリプロピレン樹脂層と表面樹脂層とを備え、
   前記表面樹脂層が、融点１８０℃以上の樹脂材料を含み、
   前記表面樹脂層の厚さは、５μｍ以下であり、
   前記蒸着膜は、前記多層基材の表面樹脂層上に設けられており、
   前記蒸着膜が、無機酸化物からなり、
   前記蒸着膜上に、バリアコート層をさらに備え、
   前記バリアコート層が、金属アルコキシドと水溶性高分子との樹脂組成物から構成されるガスバリア性塗布膜であるか、または、金属アルコキシドと、水溶性高分子と、シランカップリング剤との樹脂組成物から構成されるガスバリア性塗布膜であることを特徴とする、バリア性積層体。
2. 前記樹脂材料の融点が、２６５℃以下である、請求項１に記載のバリア性積層体。
3. 前記樹脂材料の融点と、前記ポリプロピレン樹脂層に含まれるポリプロピレンの融点と、の差が２０〜８０℃である、請求項１または２に記載のバリア性積層体。
4. 前記樹脂材料が極性基を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
5. 前記樹脂材料が、ポリアミドである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
6. 前記樹脂材料が、エチレンビニルアルコール共重合体である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
7. 前記多層基材の総厚さに対する、前記表面樹脂層の厚さの割合が、１％以上１０％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
8. 前記多層基材が、共押フィルムである、請求項１〜７のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
9. 前記表面樹脂層は、前記ポリプロピレン樹脂層上に設けられている、請求項１〜８のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
10. 前記多層基材は、ポリプロピレン樹脂層と表面樹脂層との間に接着性樹脂層を備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
11. 前記接着性樹脂層は、前記ポリプロピレン樹脂層上に設けられており、
    前記表面樹脂層は、前記接着性樹脂層上に設けられている、請求項１０に記載のバリア性積層体。
12. 包装容器用途に用いられる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
13. 前記無機酸化物が、シリカ、酸化炭化珪素またはアルミナである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のバリア性積層体。
14. 請求項１〜１３のいずれか一項に記載のバリア性積層体と、シーラント層とを備えることを特徴とする、ヒートシール性積層体。
15. 前記シーラント層が、前記ポリプロピレン樹脂層と同一の材料により構成され、
    前記同一材料は、ポリプロピレンである、請求項１４に記載のヒートシール性積層体。
16. 請求項１４または１５に記載のヒートシール性積層体を備えることを特徴とする、包装容器。

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